剔除非管理性因素影響的我國集成電路產業技術創新效率研究：基于廣義三階段DEA和Tobit模型

李宏寬，何海燕，單捷飛，蔡靜靜

剔除非管理性因素影響的我國集成電路產業技術創新效率研究：基于廣義三階段DEA和Tobit模型

李宏寬1，何海燕2，單捷飛2，蔡靜靜1

（1.北京理工大學 管理與經濟學院，北京 100081；2.北京理工大學 教育研究院，北京 100081）

基于集成電路產業技術創新過程中所具有的特點，并考慮非管理性因素對技術創新效率產生的影響，運用廣義三階段DEA模型評價和比較我國集成電路產業整體及產業鏈各環節技術創新效率及差異，并進行投入要素的投影分析，在此基礎上借助Tobit回歸模型對技術創新效率的影響因素進行研究。結果表明，我國集成電路產業整體技術創新效率呈上升態勢，而產業鏈各環節除封測業因技術換擋而呈現“N”型發展態勢外，其余環節與產業整體情況相同；產業鏈各環節技術創新的投入冗余情況則各有不同，但制造業和裝備業是投入冗余較為集中的環節；產業結構升級加速使得當前企業規模與技術創新效率呈現出負相關性，而企業R&D人員投入和人才密集性對技術創新效率分別存在消極和積極影響，可見效率提升的關鍵在于R&D人員的“質”而非“量”，政府支持程度則對技術創新效率有明顯積極作用，但企業R&D經費投入對技術創新效率的影響并不顯著，在當前產業發展階段，高投入并不一定會產生高效率。

集成電路產業；技術創新效率；廣義三階段DEA；Tobit回歸模型；投影分析

0 引言

集成電路產業作為信息技術產業的基礎，是國家信息安全保障和經濟社會發展的關鍵所在?！?br>