淺析中國《集成電路布圖設計保護條例》

摘要：國務院頒布的《集成電路布圖設計保護條例》，立足自身的實際情況，借鑒美國、日本等國家和地區(qū)的先進立法，在立法中結合我國的實際情況，進行充分協(xié)調(diào)，這種做法在中國現(xiàn)行知識產(chǎn)權法中是十分可取的，這標志著我國集成電路布圖設計專有權制度的初步建立。這有利于保護集成電路布圖設計專有權，鼓勵集成電路技術的創(chuàng)新，促進科學技術的發(fā)展。

關鍵詞：集成電路布圖設計；法律保護；知識產(chǎn)權

中圖分類號：DF523文獻標志碼：A 文章編號：1002-2589（2012）06-0050-02

集成電路的出現(xiàn)是微電子技術革命的動力源與受動者，在技術領域和信息社會具有革命性的意義。集成電路產(chǎn)業(yè)同時是關系到國民經(jīng)濟和社會發(fā)展具有戰(zhàn)略先導性的行業(yè)，是信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關鍵。根據(jù)世界知識產(chǎn)權組織《關于集成電路的知識產(chǎn)權公約》的規(guī)定，集成電路布圖設計是指集成電路中多個原件，其至少由一個有源元件組成，或者全部集成電路互連的三維配置，以執(zhí)行某種電子功能。集成電路布圖設計作為人類高科技成果，是知識產(chǎn)權的客體之一。目前我國集成電路出現(xiàn)核心技術受制于人，缺乏自主創(chuàng)新能力的局面。針對存在的這一系列問題，我國需借鑒其他國家立法及國際公約的先進經(jīng)驗，加強對該智力成果的法律保護，也為激勵集成電路布圖設計人自主創(chuàng)新提供強有力的保障。

一、主要國家的立法概況

美國是集成電路的發(fā)源地，于1984年率先實施《半導體芯片保護法》，以單獨立法的方式來保護集成電路布圖設計。該法對集成電路的掩膜層的專有權利中規(guī)定權利人有權進口或銷售包含有該掩膜層的半導體芯片產(chǎn)品。這種產(chǎn)品包含兩層含義：一是含有布圖設計圖層的芯片，二是用前項制造出的產(chǎn)品。美國這種立法模式影響到1989年締結的《華盛頓條約》和1994年達成的《TRIPS協(xié)定》。繼美國出臺的《半導體芯片保護法》之后，日本于1985年5月31日頒布了《半導體集成電路的線路布局法》，該法的立法體與內(nèi)容同美國《半導體芯片保護法》極為相似，也將布圖作為單獨民事關系客體來保護。

受美國和日本立法的影響，歐共體于1986年12月16日頒布了《關于保護半導體芯片產(chǎn)品拓圖委員會指令》，要求各成員國根據(jù)指令，通過授予專有權的形式來保護半導體產(chǎn)品的布圖設計。隨即，英國、德國、荷蘭、法國、西班牙等國也相繼以專門立法的形式出臺了保護布圖設計的法律。

二、我國集成電路布圖設計權的法律保護

1984年我國頒布了專利法。1985年我國加入了《保護工業(yè)產(chǎn)權巴黎公約》，中國知識產(chǎn)權保護水平上了一個新臺階。1987年頒布的《技術合同法》使得技術成果在流通領域中的關系有了調(diào)整的依據(jù)。1990頒布了《著作權法》，1999年頒布了新的《合同法》，這些法律條文的頒布使我國初步具備了保護集成電路布圖設計權的基本條件。

集成電路的布圖設計實質(zhì)上是一種圖形設計，如果根據(jù)該設計生產(chǎn)出的集成電路產(chǎn)品符合專利法所規(guī)定的條件，就可取得專利權。但由于大多數(shù)的集成電路的布圖設計缺乏專利保護所具備的新穎性和創(chuàng)造性要求，因此很難得到專利法的有效保護。集成電路的布圖設計具有獨創(chuàng)性特征，故而在我國也受到著作權法保護。但集成電路的布圖設計不屬于作品，同時，對集成電路布圖設計的復制與著作權法中復制作品的含義不同。另外，著作權法的保護期限過長，不利于集成電路布圖設計的長期發(fā)展。因此，希望通過著作權法有效保護集成電路布圖設計也是不現(xiàn)實的。集成電路布圖設計的終極目的是使生產(chǎn)者能生產(chǎn)出能在市場上流通的電子產(chǎn)品，一旦電子產(chǎn)品進入市場，那么集成電路布圖設計作為附著于其中的一部分就可以受到商標法的保護，但商標法保護的重點是品牌而非實物，所以商標法對集成電路布圖設計的保護力度也是有限的。集成電路布圖設計作為一種重要的技術，可以通過技術合同來獲得合同法的保護。要想得到合同法的有效保護，設計者必須作為技術合同的一方與另一方簽訂合同，然而這種保護僅在集成電路設計者與確定的合同相對人之間存在法律保護，實際上有些設計并不能滿足這一條件，因而就失去了這種保障。

綜上所述，這幾種法律無法對集成電路布圖設計形成有效的保護，因此需要一種針對性強的法規(guī)來彌補這一系列缺失。在這種情況下，我國于2001年10月1日施行的《集成電路布圖設計保護條例》，立法目的是為了保護集成電路布圖設計專有權，鼓勵集成電路技術的創(chuàng)新，促進科學技術的發(fā)展。該《條例》規(guī)定了主體、權利取得方式、權利內(nèi)容、保護期限及權利限制五個部分的內(nèi)容，以下對其中部分內(nèi)容作簡要介紹。

1.主體部分

為達到鼓勵集成電路技術創(chuàng)新的立法目的，《條例》貫徹了著作權法上的保護作者權利的原則，規(guī)定布圖設計專有權通常由布圖設計的創(chuàng)作人享有；多人共同完成的，根據(jù)民法中的共有原理，由參加創(chuàng)作者共同享有。對委托人與受托人之間布圖設計專有權的歸屬，則兼采尊重意思自治與保護創(chuàng)作人利益的方法，即雙方有約定的從約定，沒有約定或約定不明的，專有權由受托人享有。由于集成電路產(chǎn)業(yè)迅猛發(fā)展，制造工藝日益復雜，依靠單個創(chuàng)作做出具有世界領先水平的布圖設計較為困難，大多數(shù)國家和地區(qū)的立法參照專利法上職務發(fā)明模式，規(guī)定由布圖設計完成人所屬的法人享有專有權，但我國《條例》對此未作明文規(guī)定。

2.客體部分

《條例》限定了受保護的布圖設計的條件，即獨創(chuàng)性。專利法規(guī)定的獨創(chuàng)性要求受保護的技術發(fā)明具有突出的實質(zhì)性特點和顯著的技術進步，但布圖設計往往達不到這種創(chuàng)造性承擔，所以《條例》將獨創(chuàng)性界定為“是創(chuàng)作者自己的智力成果，并且在其創(chuàng)作時該布圖設計在布圖設計創(chuàng)作者和集成電路制造者中不是公認的常規(guī)設計”。我國臺灣地區(qū)1995年8月公布的“集成電路布局保護法”第16條也有類似表述：“本法保護之電路布局權，應具備所列各款要件：一、由于創(chuàng)作人之智能努力而非抄襲之設計。二、在創(chuàng)作是就集成電路產(chǎn)業(yè)即電路布局設計者而言非屬平凡、普通或習知者。以組合平凡、普通或習知之組件或連續(xù)線路所設計之電路布局，應僅就其整體組合符合前項要件者保護之。”

布圖設計僅是集成電路制造的一個中間產(chǎn)品，要保護專有權人的利益，就必須從保護其復制權與商業(yè)利用權入手。布圖設計專有權人經(jīng)濟利益的實現(xiàn)主要依靠布圖設計的權利人對受保護的布圖設計的全部或者其中任何具有獨創(chuàng)性的部分進行復制。《條例》第2條對復制進行了界定，即重復制作布圖設計或者含有該布圖設計的集成電路的行為。布圖設計權的另一重要內(nèi)容是商業(yè)使用權，商業(yè)使用權的主要權項集中于進口權、銷售權及發(fā)行權。除復制和商業(yè)利用以外，對于未經(jīng)權利人許可而進行的其他行為，《華盛頓條約》還允許締約方將其確定為違法。TRIPS第36條規(guī)定的商業(yè)利用范圍，除布圖設計、含布圖設計的集成電路之外，還將范圍擴大到含有上述集成電路的物品，其范圍最廣。《條例》的第2條也采用了TRIPS的三層保護模式，對含有布圖設計的集成電路的物品也予以保護。

三、布圖設計權與公共利益的平衡

根據(jù)《條例》第24條的規(guī)定，布圖設計、含有布圖設計的集成電路或含有該集成電路的物品，由布圖設計權利人或經(jīng)其許可投放市場后，他人再次商業(yè)利用的，可以不經(jīng)布圖設計權利人的許可，并可以不向其支付報酬。作為促進公共政策目標實現(xiàn)，維護公共利益的手段，法律規(guī)定了布圖設計權人的權利，也劃定了例外情形作為該權利的邊界。

1.反向工程

所謂反向工程，是指利用特殊技術手段，從集成電路成品著手了解他人集成電路產(chǎn)品的功能設計特點，獲得布圖設計。運用反向工程對布圖設計進行復制，不構成侵權，但該行為須具備以下條件：一是其目的在于對他人的布圖設計進行分析、評價、用于教學或在他人的布圖設計運用的基礎上創(chuàng)作新的布圖設計，單單出于商業(yè)目的不能對他人的布圖設計運用反向工程；二是利用反向工程所創(chuàng)作出的新的布圖設計必須符合原創(chuàng)性的要求；三是對于所復制他人的布圖設計不能進行商業(yè)利用。作為一項重要的技術手段，反向工程的采用促進了日本集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，甚至使其在一段較長的時間里超過了美國。

對反向工程的合理性與合理范圍的界定在國內(nèi)存在不同看法。反向工程能很好地促進集成電路的發(fā)展，在合理限度內(nèi)實施反向工程應不視為侵權。較明顯的是，這種非商業(yè)性行為的例外與版權法中的合理使用制度非常相似。

2.合理使用

各國關于布圖設計保護的法律一般都規(guī)定，為個人學習目的或為教學研究所進行的復制或利用他人受法律保護的布圖設計的行為，不視為侵權。對于布圖設計人的專有權來說，合理使用是一種例外，它允許第三方在特定環(huán)境下使用版權材料。

3.權利用盡

布圖設計權利人或經(jīng)其授權的人將布圖設計或含有該布圖設計的集成電路或含有該集成電路的產(chǎn)品投放市場后，對該布圖設計有關的商業(yè)利用行為，不再享有控制權，即進口、銷售或以其他方式來使用該布圖設計的行為無效征得布圖設計權利人或其授權人的許可。就此而言，該原則限制了布圖設計人在產(chǎn)品銷售后對布圖設計的控制權，購買者可以行使自由處分行為。

我國《集成電路布圖設計保護條例》還規(guī)定了一種特殊的權利限制制度，對自己獨立創(chuàng)作的與他人相同的布圖設計，即使其未通過登記取得專有權，但由于其付出了創(chuàng)造性的勞動，仍然應該予以肯定，以此來保護獨立創(chuàng)作人的利益。

結語

國務院頒布的《集成電路布圖設計保護條例》，能立足自身的實際情況，借鑒美國、日本等國家和地區(qū)的先進立法，在立法中結合我國的實際情況，充分進行協(xié)調(diào)，這在中國現(xiàn)行知識產(chǎn)權法中是十分可取的，這標志著我國集成電路布圖設計專有權制度的初步建立。但隨著集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，許多新的法律問題不斷涌現(xiàn)，有必要不斷完善建立一套相對完整的法律保護體系，提升該法的位階效力，加強具有自主知識產(chǎn)權集成電路產(chǎn)品的開發(fā)與保護。

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