知識產權保護的技術創新效應:量變抑或質變

顧曉燕，薛平平，朱瑋瑋

(金陵科技學院商學院，江蘇 南京 211169)

0 引言

十八大以來，黨中央高度重視知識產權保護工作，在2019年11月印發的 《關于強化知識產權保護的意見》中，對新時代如何強化知識產權保護做了科學系統的謀劃，對現有知識產權保護體系做了深入完善。從實踐成效看，截至2020年底，中國發明專利有效量227.9萬件、實用新型專利有效量689.6萬件、外觀設計專利有效量206.2萬件，中國的發明專利申請量已經連續10年位列世界第一。根據世界知識產權組織最新發布的《2020全球創新指數》，中國已由2013年的全球創新指數第35位排名上升至第14位。數量可觀的全國專利申請量及迅速上升的全球創新指數排名，揭示了不斷加強的知識產權保護已取得顯著創新成效。值得注意的是，與一直位居全球創新前列的瑞士、瑞典、美國等國家相比，中國的創新指數仍相對較低，存在創新質量不高的問題。有學者指出技術創新質量提升的不確定性可能就來源于知識產權保護[1]，過度的知識產權保護可能會抑制技術創新發展[2]。因此，在雙循環新發展格局下，如何有效提升知識產權保護對技術創新水平的促進作用變得十分關鍵。據此，有必要圍繞以下問題進行分析：當前中國知識產權保護對技術創新數量和質量的影響到底如何？具體影響機制是怎樣的？該影響是否存在區域非勻質性？在某一特定門檻下，上述影響差異是否依然存在？

就知識產權保護對技術創新的影響而言，一直有不同的研究觀點。部分學者認為知識產權保護激勵技術創新，兩者之間存在顯著正相關性，加強知識產權保護將提升全球技術創新速度[3-5]。也有學者認為知識產權保護與技術創新之間相關性很小，甚至存在負相關性，知識產權強保護會成為發達國家保護技術壟斷的利益訴求[6-7]，不利于技術擴散和技術溢出。還有學者認為知識產權保護與技術創新之間是倒U形關系[8]，并非簡單的線性關系。另有研究認為中國專利成果的快速增長不與知識產權保護水平的提高相關，更多的是由政府政策激勵引致的，專利資助和獎勵政策僅能在一定程度上提高發明專利的申請數量，對發明專利質量同樣具有一定的抑制效應[9-10]。尤其在欠發達地區，顛覆性技術因其研發投入更高、不確定性更強而關注度不高，知識產權保護更會促進實用新型、外觀專利的研發與申請[11]，政策紅利刺激下的創新具有一定的短視性和功利性。

已有研究成果雖然豐富，但還存在需要進一步補充和完善之處：第一，在以往知識產權保護對技術創新的影響分析中，很少有將知識產權保護與技術創新數量、技術創新質量三者納入統一分析框架的研究，創新數量與創新質量是相輔相成的，創新質量的提升是個漸進過程，創新會經歷量變到質變的過程，尤其對于發展中國家而言[12]，故而將三者納入同一框架下研究更具全面性；第二，區域實際知識產權保護水平、經濟發展水平、技術發展階段等存在一定差異性，已有研究在探討知識產權保護對技術創新數量和質量的影響時缺少對區域差異性問題的深入分析；第三，已有文獻主要涉及知識產權保護與技術創新間的線性關系分析，鮮有實證探討知識產權保護可能會在某一特定門檻下對技術創新數量、質量產生非線性影響。實際上，一個地區技術創新市場的活躍度不僅會直接影響地區技術創新企業的競爭活力及創新動力，亦會影響該地區對知識產權保護力度的需求，從而間接影響該地區技術創新成果的數量及質量。鑒于當技術創新市場活躍度處于不同水平時，不同區域的知識產權保護對技術創新的影響可能存在差異，本文使用門檻效應模型對這些差異進行有效識別，采用2004—2017年的省際面板數據，從數量和質量層面系統探討知識產權保護對技術創新的影響及可能存在的異質性，并進一步利用門檻效應嘗試對其影響機制進行更為細致的解釋。

1 理論機制與研究假設

知識產權保護是激勵創新的重要制度安排，保護知識產權就是保護創新。首先，知識產權保護有效提高了創新主體的積極性。知識產權作為一種無形的財產權，其技術的專利化、專利的產業化、產品的品牌化所帶來的超額利潤反哺了企業的再創新。其次，知識產權保護有效創造了良好的貿易投資營商環境，有利于促進技術創新。加強知識產權保護，國內市場更易吸引外商直接投資，其產生的技術溢出效應、技術人才流動效應等推進了本土的技術創新。同時，加強知識產權保護有利于提高進口中間品的技術含量，有利于國際技術轉移，從而加速技術外溢。最后，加強知識產權保護是高水平開放的重要保障，激烈的國際競爭會倒逼本土企業技術創新。由此，本文提出假設1：知識產權保護對技術創新數量的增加具有顯著正向影響。

相對于外觀設計與實用新型而言，原始發明創新的研發投入規模更大、研發周期更長、研發風險更高[13]，原始發明創新成果往往是高質量技術創新成果，能給企業帶來更高價值。因此，在知識產權強保護下，企業基于知識產權戰略的視角會更加重視高價值專利布局，不會因發明專利前期投入大、風險大等因素而排斥高質量技術創新。相對而言，在知識產權弱保護下，企業會擔心被侵權風險，在專利政策紅利刺激下，往往為確保短期收益最大化，以追求專利數量為主，更加傾向于實用新型、外觀設計等低質量技術創新。由此，本文提出假設2：相較于低質量技術創新，加強知識產權保護更有利于促進高質量技術創新。

技術創新的高速發展離不開資金、人才的不斷投入。東中西部地區在經濟發展水平、高端人才儲備等方面差距較大，造成不同地區企業對知識產權保護的認識程度存在差異，各區域的創新能力、成果也會產生較大差異。東部地區能吸引大量海內外資金和人才，位于競爭激烈的東部地區的企業往往會有更多的專利及商標，會具有較強的知識產權保護意識。相對而言，經濟發展水平較為落后的中西部地區對人才引進、國內外資金流入的吸引力不強，技術創新要素相對缺乏，對創新環境建設的重視程度偏低，其從追求技術創新數量向注重技術創新質量提升的轉變需要一個過程。由此，本文提出假設3：知識產權保護對技術創新數量、質量的影響具有區域非勻質性，其中經濟較發達地區的知識產權保護可能更重視區域技術創新質量的發展，而經濟欠發達地區可能偏向區域技術創新數量的發展。

一個地區的技術創新水平不僅與區域經濟發展水平、研發投入等因素相關，還會受該地區的技術創新活躍度影響。當一個地區技術創新市場較為活躍時，企業為了應對激烈的市場競爭，必然會加大研發投入、人才培養及引進，且傾向追求更高層次的技術創新。然而，同一區域內技術創新市場的活躍度會存在不均衡性，當該地區技術創新市場活躍度較低時，表明該地區技術市場合同交易額較低，區域內企業技術創新成果并不豐富，更是缺少高質量的技術創新成果，自然對知識產權保護的需求水平較低，此時區域知識產權保護可能對該區域長期技術創新的促進性并不明顯。由此，本文提出假設4：在區域非勻質性影響基礎上，不同區域的知識產權保護對技術創新數量、質量的影響存在差異化門檻效應。

2 模型、指標與數據說明

2.1 模型設定

為了探討知識產權保護水平與技術創新之間的關系，本文首先構建以下基礎性回歸模型：檢驗知識產權保護水平對各省市技術創新數量的影響；細分討論知識產權保護水平對各省市高質量專利 (以發明專利為代表)、低質量專利 (以實用新型及外觀設計專利為代表)的差異性影響。具體公式如下：

lnINVit=β0+β11lnIPRit+λXit+εit

(1)

lnINVFit=β0+β21lnIPRit+λXit+εit

(2)

lnINVSit=β0+β31lnIPRit+λXit+εit

(3)

其中，lnINV為技術創新、lnINVF為高質量技術創新、lnINVS為低質量技術創新、lnIPR為知識產權保護水平；X為控制變量，包括經濟發展水平 (lnECO)、外商直接投資 (lnFDI)、貿易開放度 (lnITO)、金融發展水平 (lnFIN)、人力資本水平 (lnHCL)及研發投入水平 (lnRD)。

2.2 變量選擇

(1)因變量：技術創新 (lnINV)。現有文獻大多使用專利產出量衡量技術創新水平[14]。鑒于數據的可獲性，本文采用各省市專利申請量來表征因變量，包括發明專利申請量、實用新型申請量和外觀設計申請量。發明專利研發周期較長、技術進步程度較高，能更好地體現高質量的技術創新[15]。本文用發明專利申請量代表高質量技術創新 (lnINVF)，用實用新型申請量和外觀設計申請量之和代表低質量技術創新 (lnINVS)。

(2)自變量：知識產權保護水平 (lnIPR)。實際知識產權保護水平需要綜合考慮知識產權立法水平和知識產權執法水平，本文以兩者相乘所得結果表示實際知識產權保護水平。其中，知識產權立法水平度量的一級指標包括知識產權保護的覆蓋范圍、是否為國際條約成員、保護的期限、執法的機制以及權利喪失的保護。知識產權執法水平的度量內容包括六個方面，分別是執法的力度、社會法制化的水平、知識產權保護的意識、法律體系的完備程度、經濟發展的水平以及國際監督制衡的機制。本文根據關成華等[16]的度量和賦值標準，整理數據并測算出各省市2004—2017年的實際知識產權保護水平。

(3)控制變量。為了防止遺漏變量問題的出現，文中盡量控制影響各地區技術創新水平差異的相關變量：①經濟發展水平 (lnECO)，以人均地區生產總值來表征，人均地區生產總值越大，表明該區域經濟發展水平越高；②外商直接投資 (FDI)，以各地區實際利用外資額與地區生產總值的比值來表征，外商投資更注重技術創新性，該比值越高，代表該區域越注重技術創新質量的提升；③貿易開放度 (lnITO)，以各地區進出口總額與地區生產總值的比值來表征，活躍的對外貿易市場會不斷增加對高技術產品的需求；④金融發展水平 (lnFIN)，以各地區金融機構人民幣各項存貸款余額之和與地區生產總值的比值來表征，區域的金融活躍程度會直接影響區域技術創新能力；⑤人力資本水平 (lnHCL)，以各地區勞動者平均受教育年限來代表，人力資本水平對技術創新有直接影響；⑥研發投入水平 (lnRD)，以各地區研究與試驗發展經費內部支出額與地區生產總值的比值來表征，通常認為研發投入水平會對技術創新產生影響。

2.3 數據來源與處理

鑒于數據的可獲性，本文中的樣本數據為2004—2017年30個省、市、自治區的省際面板數據 (不包括港澳臺及西藏)，來源于《國家知識產權局統計年報》《中國科技統計年鑒》《中國統計年鑒》《中國金融年鑒》及《中國人口和就業統計年鑒》，個別缺失數據采用該指標平滑增長率的方式進行補充。為了消除異方差等因素影響，文中所有數據皆進行相應的對數化處理。

3 實證結果與分析

3.1 全樣本回歸分析

為了詳細探究知識產權保護水平與技術創新的關系，本文基于全國總體數據分析了知識產權保護水平對各省市技術創新的具體影響效應，見表1。考慮到面板數據可能存在的異方差及序列相關問題，采用過度識別檢驗方法來判斷模型 (2)～ (4)回歸采用固定效應還是隨機效應結果。若過度識別檢驗的P值小于0.1，可使用固定效應結果，否則采用隨機效應結果，具體分析如下：

表1 全樣本回歸結果

模型 (1)采用OLS方法、模型 (2)采用固定效應模型，分別列出各省市知識產權保護水平對區域技術創新的影響。模型 (3)和模型 (4)為知識產權保護水平對各省市高質量、低質量技術創新的分組討論。比較模型 (1)與模型 (2)的回歸結果發現，知識產權保護水平的系數皆在1%的水平顯著為正，這在一定程度上說明當區域知識產權保護力度較高時會因為有利于營造較好的技術創新環境而促進該區域技術創新數量的增加，與預期相符，即假設1成立。模型 (3)中知識產權保護水平的系數依然在1%的水平顯著為正，表明知識產權保護水平的提高會促進區域技術創新朝著高質量方向發展，假設2得到支持。模型 (4)中知識產權保護水平的系數仍然為正，即知識產權保護力度增強會在一定程度上促進區域實用新型、外觀設計專利數量的不斷增加，但該系數值并不顯著，且明顯小于模型 (3)中知識產權保護水平變量的系數值，這可能是因為隨著知識產權保護水平的不斷提高，各區域經濟發展更加重視高質量技術創新，對低質量技術創新的需求有限。

其他控制變量方面，區域經濟發展形勢越好，其技術創新水平越高，可能是因為經濟發展越快的地區越依賴及重視技術創新發展帶來的紅利。外商投資因更注重專利技術投資帶來的創收，進而更重視技術創新。融資能力較強、人力資本豐厚、研發投入較多的區域能提供較好的資金、人才等多方面支持，更有利于該區域的技術創新發展。

3.2 內生性問題分析

采用面板數據可在一定程度上克服遺漏變量導致的內生性問題，但文中所用的主要自變量與因變量間可能存在一定的雙向因果關系。為了解決可能存在的內生性問題，使本文結論更為穩健，選用知識產權保護水平的滯后一期作為工具變量，并采用GMM回歸方法進行估計，具體結果如表2所示。由于工具變量僅有一個，采用弱工具變量法進行工具變量的外生性檢驗，由表2中列出的F值可見選取的工具變量是合理的。表2列出了考慮內生性問題后的全樣本模型回歸結果，發現隨著知識產權保護水平的提高，區域技術創新水平也不斷提高。其中，不斷加強的知識產權保護水平會更加促進區域技術創新朝著高質量方向發展，相應系數值依然為正且更加顯著，結論穩健。

表2 全樣本回歸結果：基于內生性問題考慮

3.3 分區域回歸分析

本文分析了東中西三大區域的知識產權保護水平對技術創新的影響差異，具體回歸結果見表3。從東部區域來看，知識產權保護水平對技術創新的總體影響為正，但相應的系數并不顯著，這可能是受知識產權保護水平對低質量技術創新的負向效應的影響。東部區域知識產權保護水平顯然有利于促進高質量技術創新，相應系數值為正且顯著，而其對低質量技術創新的促進效應并不明顯，相應系數值雖不顯著但出現了負向性。在中部區域，雖然知識產權保護水平的三組系數值皆為正，但對高質量技術創新的促進作用明顯低于東部地區，對低質量技術創新的促進作用明顯強于東部地區，即中部地區知識產權保護水平的提升更有利于該區域低質量技術創新。西部區域的知識產權保護水平對高、低質量技術創新的影響系數皆為正且不顯著，雖對低質量技術創新的影響作用更大，但仍遠低于中部地區。鑒于東中西三地區的結果比較差異，假設3成立。

表3 分區域回歸結果

3.4 分區域門檻回歸分析

基于分區域回歸結果發現，知識產權保護對技術創新的影響雖在東中西部存在明顯差異，但知識產權保護水平的系數值并未完全通過顯著性檢驗，可能是因為各區域技術市場轉讓規模存在不均衡性，造成各區域知識產權保護水平對技術創新存在非線性影響。為了進一步研究知識產權保護水平與技術創新之間可能存在的非線性關系，參照Hansen[17]的面板門檻模型思想，構建多重門檻模型進行回歸估計。

(1)模型構建。為了驗證假設4，選用技術市場轉讓規模作為門檻變量，用各省技術市場成交合同額與各省當年地區生產總值的比值進行衡量[18]。基于公式 (1)～ (3)，構建公式 (4)～ (6)：

lnINVit=β0+β11lnIPRitI(lnTMTSit≤θ1)+β12lnIPRitI(θ1

(θn-1

(lnTMTSit>θn)+λXit+εit

(4)

lnINVFit=β0+β11lnIPRitI(lnTMTSit≤θ1)+

β12lnIPRitI(θ1

lnIPRitI×(θn-1

lnIPRitI(lnTMTSit>θn)+λXit+εit

(5)

lnINVSit=β0+β11lnIPRitI(lnTMTSit≤θ1)+

β12lnIPRitI(θ1

lnIPRitI×(θn-1

lnIPRitI(lnTMTSit>θn)+λXit+εit

(6)

其中，lnTMTSit為門檻變量，θ為待估算的門檻值，I(·)為指示函數，其他指標定義參考公式 (1)～ (3)。

(2)門檻效應檢驗與回歸分析。首先需要對門檻效應是否存在、具體門檻數進行判斷，根據Bootstrap法300次計算得到相應的門檻效應檢驗的F統計量值、門檻值等，如表4所示。表4為東中西三大區域門檻效應的檢驗結果，東部地區的三組模型分別具有單一門檻、單一門檻及雙重門檻且均通過相應的顯著性水平檢驗，中部地區的三組模型分別具有雙重門檻、雙重門檻及三重門檻且均通過相應的顯著性水平檢驗，西部地區的三組模型則分別具有三重門檻、雙重門檻及雙重門檻且均通過相應的顯著性水平檢驗。由此，東中西三大區域均具有相應的門檻特征。

表4 分區域門檻個數及數值估計結果

表5所示為加入門檻變量的面板數據回歸結果，可發現三大區域知識產權保護水平對技術創新的具體影響差異都有了更加詳細的表現，也更有利于比較發現不同區域間知識產權保護對技術創新促進效應的最佳段，即同一區域內知識產權保護與技術創新之間并非簡單的線性關系，假設4成立。

表5 分區域門檻模型回歸結果

在東部地區，雖然知識產權保護對技術創新的總體促進作用不斷增強，但相應系數值并不顯著，可能是因為受知識產權保護對低質量技術創新的抑制作用影響 (該組lnIPR的系數值皆為負數)。知識產權保護對高質量技術創新的正向遞進影響則可從側面說明，東部發達地區較大的技術市場轉讓規模為知識產權保護下高質量技術創新效應的發揮提供了活躍的交易平臺，低質量的技術創新效應會被抑制也在 “情理”中。在中部地區，知識產權保護對技術創新的總體促進作用也處于不斷增強狀態，且相應系數值由不顯著轉變成顯著。當技術市場轉讓規模超過臨界值 -1.002時，知識產權保護對技術創新的總體影響達到相對最強階段，影響系數為0.852且在5%水平顯著。與東部地區不同，中部地區知識產權保護對高質量技術創新的影響雖為正向逐次遞進但系數值并不顯著，其對低質量技術創新的影響則出現在前三個區間內為正向逐次遞進且顯著性不斷增強、在第四個區間內正向促進作用明顯減小的情形，說明中部地區知識產權保護更有利于促進低質量技術創新，且當技術市場轉讓規模介于-1.002與0.472之間時促進效應相對最強。在西部地區，知識產權保護對技術創新的總體促進作用呈現增強—減弱—增強的正N形格局，存在明顯的非線性關系，當技術市場轉讓規模大于0.237時，兩者影響關系相對最強。與中部地區類似，西部地區知識產權保護對高質量技術創新的正向影響并不顯著，但對低質量技術創新的正向影響是逐漸增強且顯著性不斷提高，說明西部地區知識產權保護也更側重于帶動低質量技術創新。

4 結論及啟示

第一，不斷加強的知識產權保護將有利于促進技術創新數量增加；第二，相較于低質量技術創新，較強的知識產權保護會更有利于引導技術創新高質量發展；第三，知識產權保護對技術創新的影響具有一定的區域非勻質性，其中，東部地區更注重高質量技術創新，中部地區低質量技術創新比高質量技術創新發展更迅速，西部地區同樣更偏向于低質量技術創新，但其遠低于中部地區知識產權保護對低質量技術創新的促進效應；第四，在不同的技術市場轉讓規模范圍內，不同區域的知識產權保護對技術創新數量、質量的影響并非簡單線性關系。擁有較大技術市場轉讓規模的東部地區在不斷加強的知識產權保護下能更有效促進高質量技術創新，中部地區知識產權保護則更偏向于低質量技術創新，但對低質量技術創新的促進作用并非逐次遞進，而西部地區不斷加強的知識產權保護在技術市場轉讓規模的門檻劃分下，對技術創新的總體作用呈現出明顯的正N形格局。

新發展格局下要加強知識產權保護，追求創新數量的同時要更加注重創新質量的提升，通過加強知識產權保護促進高水平開放，推進國內國際雙循環有效聯動。首先，要不斷加強知識產權執法力度，以區塊鏈賦能知識產權保護，助力維權舉證；要完善電子商務等新業態新領域的知識產權保護制度，清除知識產權保護盲區，擴大知識產權保護范圍。其次，要加強知識產權源頭保護，提高審查質量；強化高價值專利的保護，建立高價值專利快速審查機制，強化高價值專利的激勵政策，完善高價值專利的評價機制，加快高價值專利的培育布局。最后，要正視區域差異性，根據各地區經濟發展水平、技術創新市場活躍程度等合理調整區域知識產權保護水平，加速知識產權保護對各區域不同層次技術創新的差異化推進，促使各區域進入知識產權保護對區域技術創新的最佳促進效應階段；同時還要建設知識產權保護試點示范區，形成保護高地，以示范引領縮小區域差異。