陳紅 馬萱怡 劉承靈 劉倩
利用種植體支抗來實現磨牙遠移,其植入部位大體為上腭部,顴牙槽嵴區以及上頜第一磨牙與第二前磨牙牙根之間。早在2003年,就有學者[1]將種植支抗植入上腭部,將橫腭桿與種植體連為一個整體來實現上頜磨牙遠移,效果顯著,且無明顯支抗丟失;后來有報道[2]利用顴牙槽嵴骨量大,骨密度高等優勢,將微鈦板植入該區進行上頜牙列遠移,雖然取得了明顯的治療效果,但也存在異物感強,創傷較大等劣勢,繼而有學者[3]提出將種植釘植入顴牙槽嵴來實現治療目標。然而顴牙槽嵴區特殊的解剖特征,使得種植體支抗所產生力的水平向分力略有不足。本研究將微種植體支抗(micro-implanted anchorage,MIA)植入上頜第一磨牙(M1)與第二磨牙(P2)牙根間,評估在距離釉牙骨質界(cemento-enamel junction,CEJ)不同高度、同時與P2長軸呈不同角度植入后,MIA的穩定性以及其用于磨牙遠移的可行性,為臨床工作提供參考。
收集2019 年來甘肅省人民醫院口腔正畸科就診的初診患者的CBCT影像資料,從中篩選出30 例作為實驗樣本,所有影像資料均由法國銳柯Kodak 9500 Cone Beam 3D System掃描獲得(管電壓90 kV,管電流10 mA,掃描時間10.8 s)。納入標準:(1)恒牙列期;(2)上頜第二磨牙已萌出并建立正常咬合關系;(3)上頜雙側后牙段無擁擠、無散在間隙、無扭轉牙齒、無充填牙齒、無缺失和埋伏牙齒(第三磨牙除外)、無義齒修復;(4)牙周健康;(5)上頜雙側后牙段各個牙齒牙根無彎曲以及根尖無吸收;(6)無正畸治療史;(7)無全身系統性疾病史。