摘要 為研究多孔材料的光譜電化學應用,以模板-電沉積法制備了導向性的二維大孔金陣列,將其制成光透薄層電極,測定3,3′-二甲基聯苯胺的Eo′和n。采用原子力顯微鏡和掃描電子顯微鏡對其進行表征。測定了不同厚度的大孔金膜的吸收光譜。結果表明,在-0.8 V電沉積約300 s,得到大面積的厚度為292 nm的大孔金膜,透光率達20%;薄層循環伏安法測得Eo′=0.660 V,光譜電化學法測得Eo′=0.659 V,n=1.7, 與文獻一致,表明大孔金陣列的電化學和光譜電化學性能較好。
關鍵詞 大孔金陣列; 光透電極; 電沉積; 模板; 光譜電化學
2010-10-28收稿;2010-12-26接受
E-mail: lhuidan@yahoo.com.cn
1 引 言
近年來,大孔材料備受關注。大孔材料獨特導向性結構使其具有許多優異的性能,可應用于催化載體、傳感器、吸附分離、光子晶體、磁性材料等領域[1~6]。
模板法是制備大孔材料最有效的方法之一,基本步驟是:在基體表面組裝三維有序的膠體晶體模板;填充目標材料到膠體晶體中;固化以及熱處理或溶劑處理除去模板,得到反相的大孔材料[7]。采用電化學沉積法填充目標材料所制備的多孔材料沒有收縮,與基底的結合力強,填充完全,而且厚度可控。電化學沉積已被用于制備導向性的貴金屬、過渡金屬[8,9]及其它大孔材料[10]。
大孔金網絡具有較大的比表面積,可作為修飾電極材料,提高電極的電催化性能[5,11], 還可制成超微電極,進行信號放大[12]。由于其良好的吸附性能、生物相容性及與特定基團(如巰基)的強烈結合,可在大孔金電極表面修飾生物分子,制成免疫生物傳感器和酶傳感器[13,14]。大孔金的其它性質也是關注熱點,具有廣泛的應用價值[15]。但關于大孔金的光學性能及其在光譜電化學領域的應用研究,目前尚未見報道。
本研究采用模板-電化學沉積法,制備了二維大孔金陣列,并采用原子力顯微鏡和掃描電子顯微鏡對其形貌和結構進行了表征。紫外-可見光吸收光譜表明,二維大孔金陣列具有良好的光透性,因此將其作為光透電極,采用薄層電化學和光譜電化學法測定了3,3′-二甲基聯苯胺的Eo′和n。實驗表明,大孔金陣列可作為一種新型光透材料用于光譜電化學研究。
2 實驗部分
2.1 儀器、試劑及材料
CHI660A電化學工作站(美國CH Instrument公司),飽和Ag/AgCl作參比電極,鉑絲作對電極; JSM-5610LV型掃描電子顯微鏡(日本JEOL公司); SPⅡ型原子力顯微鏡(美國Moleoular Imaging 公司);UV-2450 紫外可見光譜儀(日本島津公司)。聚苯乙烯(Polystyrene, PS)納米球(直徑600 nm,杜優嘉高分子微粒科技有限公司);氯金酸(上海國藥集團化學試劑有限公司);3,3′-二甲基聯苯胺(98%,Sigma-Altrich公司)。其它試劑均為分析純,所用水均為去離子水(Simplicity185,法國Millipore公司)。ITO(Indium tin oxides)玻璃(中國建筑材料科學研究院)。自制薄層光透電極。
2.2 電沉積法制備大孔金陣列
取干凈的ITO,豎直插入2 g/L PS膠體溶液中,置于60 ℃烘箱中2~3 d,直至干燥,表面形成乳白色的膠體晶體。留出一定面積的膠態晶體模板,其它區域用防水A B膠密封。膠干之后,將電極浸入鍍液中5 min。鍍液主要成分是5×10-3 mol/L HAuCl4和6×10-2 mol/L K2HPO4(pH 8~10)。-0.8 V電沉積一定時間,以去離子水沖洗干凈,晾干后在四氫呋喃(Tetrahydrofuran,THF)中浸泡4 h,或者400 ℃高溫去除PS模板小球,得到二維大孔金陣列(沒有特殊說明,均采用THF法去除模板小球)。
2.3 大孔金陣列薄層光透電極的電化學和光譜電化學實驗
根據文獻[16]的方法,將大孔金陣列制成薄層光透電極,進行循環伏安測定和恒電位電解。電解液是1×10-3 mol/L 3,3′-二甲基聯苯胺, 1 mol/L HClO4及0.5 mol/L醋酸的水溶液。循環伏安測定時采用慢掃速(1×10-3 V/s)。 在0.4~0.8 V之間進行掃描。恒電位電解的同時記錄437 nm處的薄層吸收-時間曲線,直至吸光度不變,測定360~550 nm范圍的吸收光譜。測得不同電位下達到電解平衡時的吸收光譜,以437 nm處的吸收值計算3,3′-二甲基聯苯胺的Eo′和n。
3 結果與討論
3.1 電化學法制備單層大孔金陣列
3.1.1 沉積時間的影響 圖1中淺黃色的部分是PS球除去后留下的金網絡,深褐色的是形成的碗狀大孔。圖1A是電沉積50 s得到的大孔金膜,高度 76 nm, 圖1B和圖1C中大孔金膜高度分別是152和192 nm, 說明隨電沉積時間的延長,膠體晶體縫隙中生長的金越多,得到多孔金膜的越厚,孔形也越接近球形。大孔金陣列的三維AFM圖(圖1D)證明了這一點。當膜高為353 nm(約等于PS球的半徑)時,孔基本呈半球形,六角形緊密排列,是單層膠體晶體的反相復制。
3.1.2 去除模板小球方法的影響 模板法制備多孔材料的最后一個步驟是除去模板,常用的方法是溶解法和焙燒法[17,18]。從圖2A可見,多孔金膜粗糙不平,孔壁上有單個的或聚集的不規則納米金粒子,說明電沉積過程中,金是以納米粒子的形式填充在PS球縫隙中;PS球分解后,多孔金以反相形式保留,有機溶劑不影響金的存在狀態,保真度高。圖2B中金孔壁平整光滑,但孔壁凹陷或凸出。原因可能是,由于尺寸效應對納米晶體熔化溫度的影響,使納米金的熔點遠低于塊狀金(熔點1060 ℃)[19],在350 ℃融化,但此時未達到金的熔點,則液態金會凝固,變為非納米狀態,即發生金納米粒子的燒結,從而形成平整光滑的大孔金網絡。孔形不規則,可能是PS球燃燒放熱,造成金孔局部熔融發生變形。
3.1.3 掃描電鏡表征大孔金陣列的形貌和結構 圖3A顯示形成了較大范圍的、連續的、排列有序的單層孔狀金陣列。圖3B是圖3A的放大圖,金孔接近半球形,孔壁不光滑,布滿大小不同的納米金粒子,與原子力顯微鏡結果一致。這可能是由于電沉積的速度較快和金鍍液成分單一所引起的。在文獻[20]中,電化學法制備的三維多孔金網絡比較光滑、平整,是因為采用了商品化的金鍍液。
3.2 光學性能的測定
圖4中,當波長小于330 nm時,由于玻璃基底不透紫外光而使吸收值迅速上升;在330~900 nm,吸收曲線比較平坦,透光率穩定。三維大孔金陣列b和c的吸收曲線形狀相似,在450~500 nm之間都有一個最小吸收值。大孔金陣列b的透光率在14%~22%之間,比c的透光率(10%~16%)高,因為b的厚度(292 nm)比c(385 nm)薄。測得透光率的值與文獻[21]報道的平板金膜(20~50 nm)的透光率具有可比性,但比平板金的透光率更平穩。如果電沉積的時間超過400 s,隨著金陣列厚度增加,透光率會繼續降低,因此,電沉積時間不宜過長。
3.3 大孔金陣列的薄層電化學和光譜電化學性能研究
為了研究大孔金陣列作為 光透電極(Optical transparent elecrtrode, OTE)的電化學和光譜電化學性能,將其制作成光透薄層電極 (Optical transparent thin-layer electrode, OTTLE),采用循環伏安法和光譜電化學法測定3,3′-二甲基聯苯胺的Eo′和電子轉移數n。
圖5中,氧化還原峰形完整,對稱性較好;峰電位分別出現在0.71和0.61 V處,根據公式Eo′= (Eoxp+Eredp)/2,可計算得Eo′=0.660 V,與文獻[22]一致。可見,用大孔金陣列制備的薄層光透電解池的電化學性能良好。
體系在不同的恒電位下達到電解平衡,薄層內[O]/[R]不再改變,記錄350~550 nm的吸收曲線(圖6)。3,3′-二甲基聯苯胺的氧化產物在437 nm處有最大吸收,而其還原態在此處沒有吸收。根據方程(1)和(2), 以最大吸收值計算Eo′和n。方程中,A2是吸光度測定值,A1是還原態的吸光度,A3是氧化態的吸光度。圖6的插圖是Eapplied vs. log (A2-A1)/(A3-A2)的能斯特曲線圖, 斜率為0.035(n=1.7), Eo′=0.659 V,與電化學法測得的值一致,n值與文獻[22]一致。
=(1)
Eappllied=Eo′+log(2)
4 結論
采用模板-電沉積法制備了連續、有序的二維大孔金陣列,用AFM和SEM進行了表征。結果表明,在-0.8 V電沉積300 s,制得大面積( >1 cm2)、膜厚為292 nm的大孔金陣列,其透光性能較好。將大孔金陣列制成OTTLE, 采用薄層循環伏安法和光譜電化學法測定3,3′-二甲基聯苯胺的Eo′和n,結果與文獻一致。因此,大孔金陣列作為一種新型的光透電極材料,電化學和光譜電化學性能較好,在光譜電化學領域具有潛在的應用價值。
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Preparation of Ordered Two-Dimension Macroporous Gold Array
and Its Application to Spectroelectrochemistry
L Hui-Dan1,2, LIU Yong-Ping2
1(College of Chemistry and Chemical Engineering, Central South University, Changsha 410083)
2(College of Chemistry and Bioengineering, Guilin University of Technology, Guilin 541004)
Abstract Ordered two-dimension macroporous gold array(MGA) was prepared for application in spectroelectrochemistry by electrochemical depositing method with colloid crystal as template. It was mounted to optical transparent thin-layer electrode using to measure Eo′ and n of o-tolidine. AFM and SEM were used to characterize the monolayer gold void. The absorption spectra of macroporous gold array were measured. Results show that gold hole is just about half-sphere shape and arranged to closed-hexagonal array when electrodepositing at -0.8 V for 300 s, and the transmission of MGA was about 20%. Eo′ was measured to be 0.660 V by thin-layer cyclic Voltammetry. The change of absorbance in thin layer was monitored at different potentials according to which Eo′ and n o-tolidine redox system were calculated to be 0.659 V and 1.7 in spectroelectrochemistry. The results were agreed with literature, which showed electrochemical and spectroelectrochemical properties of MGA were good
Keywords Macroporous gold array; Optical transparent electrode; Electrochemical depositing; Template; Spectroelectrochemistry
(Received 28 October 2010; accepted 26 December 2010)