集成電路布圖設計登記保護與商業利用的沖突與化解

摘 要：【目的】完善集成電路布圖設計登記制度。【方法】聚焦《集成電路布圖設計保護條例》第17條的立法原意，結合登記保護與商業利用沖突的司法案例，從利益博弈視角出發，尋求產業發展創新和公眾利益之間的平衡。【結果】集成電路布圖設計登記保護與商業利用之間的沖突限制了商業利用的靈活性，拖延了商業利用的時間?！窘Y論】針對《集成電路布圖設計保護條例》第17條提出修訂建議，主張取消兩年登記期限限制，通過正向措施引導布圖設計權利主體積極登記，以更好地平衡登記保護與商業利用之間的關系，從而加速布圖設計成果的轉化與運用。

關鍵詞：集成電路布圖設計；登記保護；商業利用

中圖分類號：D923.43" " "文獻標志碼：A" " 文章編號：1003-5168（2025）01-0107-05

DOI：10.19968/j.cnki.hnkj.1003-5168.2025.01.021

The Conflict and Resolution of Integrated Circuit Layout Design

Registration Protection and Commercial Utilization

—Analysis Based on Article 17 of Regulations on the Protection of Integrated Circuit Layout Design

YANG Xia

（Law School， Southwest University of Science and Technology， Mianyang 621000， China）

Abstract：[Purposes] This paper aims to improve the registration system for integrated circuit layout design. [Methods] Focusing on the legislative intent of Article 17 of the Regulations on the Protection of Integrated Circuit Layout Design and by examining judicial cases involving conflicts between registration protection and commercial utilization， this paper seeks a balance between industry development and innovation and the public interest from the perspective of interest negotiation. [Findings] The conflict between integrated circuit layout design registration protection and commercial utilization restricts the flexibility of commercial utilization and delays its timing. [Conclusions] In view of the revision of Article 17 of the Regulations on the Protection of Integrated Circuit Layout Design， the author advocates canceling the two-year time limit for registration ，guiding the holders of layout design rights to actively register through positive measures， in order to better balance the relationship between registration protection and commercial utilization， thereby accelerating the transformation and application of layout design results.

Keywords： integrated circuit layout design; registration protection; commercial utilization

收稿日期：2024-06-18

作者簡介：楊霞（1998—），女，碩士生，研究方向：知識產權法學。

0 引言

2024年5月11日，國家知識產權強國建設工作部際聯席會議辦公室印發了《2024年知識產權強國建設推進計劃》（以下簡稱《計劃》），在知識產權法律法規規章完善方面，《計劃》明確提出開展《集成電路布圖設計保護條例》（以下簡稱《條例》）修改論證?！稐l例》出臺23年從未修改，部分內容已不適應產業發展，因此有必要對現行法律進行修訂以適應實際需要［1］。

《條例》第8條規定了布圖設計專有權由登記產生，布圖設計的登記是受《條例》保護的前置程序。《條例》第17條規定布圖設計自首次投入商業利用之日起2年內未向我國相關部門提出登記申請的，將不再予以登記。該規定是根據當時國家的具體情況及布圖設計立法保護的背景而制定的，旨在引入國外的先進技術，同時維護布圖設計權利人的合法權益，以實現產業發展創新與公共利益之間的平衡。隨著國際布圖設計的發展與保護環境的變化，該條款已不能適應現實需要，且阻礙了布圖設計的商業利用，應修改法律以適應當下的變化，全面保護布圖設計，促進技術更好地轉化運用。

1 集成電路布圖設計登記保護的重要性與《條例》第17條的解讀

知識產權是絕對權。為了保護知識產權人以外不特定義務人行為的自由，避免義務人因不知道知識產權的權利范圍，而闖入知識產權的權利領地，法律法規普遍要求各類型知識產權的取得要履行公示手續。《條例》對布圖設計專有權的取得設定了程序條件與實體條件，登記備案是程序條件中不可缺失的一環，是法律要求取得權利的必要手續，是確定布圖設計內容的過程［2］?！稐l例》第8條明確了登記是布圖設計受保護的必要程序條件，布圖設計權利人向知識產權行政部門提交法律要求的材料并辦理相關手續申請登記，完成了以上程序性條件，其擁有的布圖設計才能受《條例》保護。一般情況下，絕大多數申請登記的布圖設計只要登記手續齊全，登記形式要件充分，基本上都能獲準登記。采用登記備案的優勢體現在以下幾點：第一，登記備案的內容能作為確定布圖設計專有權保護范圍的文件，為后續糾紛處理提供依據。第二，事先登記備案、事后確權的模式符合布圖設計客體高信息成本、多區別特征的特點，有利于保證管理效率［3］。第三，布圖設計登記數據能反映我國集成電路產業發展中的部分現狀，登記保護變化形態和相關數據能夠為國家制定產業發展政策提供研究依據。登記保護不僅是對創作者權益的保障，也是促進集成電路產業健康發展的關鍵［4］。

《條例》第17條規定，布圖設計自其在世界任何地方首次投入商業利用之日起2年內，未向國務院知識產權行政部門提出登記申請的，國務院知識產權行政部門不再予以登記。此條的立法初衷是維護布圖設計權利人的正當權益，又兼顧布圖設計使用者和公眾及國家的利益［5］，同時以失權為代價督促布圖設計權利人積極登記。《條例》第17條為在先投入商業利用的布圖設計附加2年登記期限，超過登記期限后布圖設計權利人申請登記的，國家知識產權局不再予以登記。若因審查不嚴已登記的，也隨時面臨被撤銷的后果。登記期限將《條例》施行以前商業利用已滿2年的布圖設計排除在保護范圍之外，有利于促進我國集成電路產業的發展［6］。然而，國際上布圖設計登記的數量幾乎沒有增加，反而是國內布圖設計登記數量維持穩定增長的趨勢。知識產權制度從其產生之初發展到今天，一直處于權利保護與限制的法律調整之中［7］。知識產權應該以登記保護為手段，以轉化運用為目的，以促進創新與技術進步為目標。集成電路布圖設計的登記限制，不但不利于保護權利人的權益，反而挫傷了在先創新者的創新積極性，打破了知識產權保護創新維護、公眾利益的價值平衡，應該對此做出調整。

2 登記保護與商業利用的沖突

2.1 限制商業利用的靈活性

集成電路布圖設計自首次投入商業利用之日起2年內未提出登記申請的將不予登記的規定限制了商業利用的靈活性。知識產權是人們基于知識依法享有的權利，布圖設計作為知識產權的客體，對其進行保護強調其必須依法產生，反映了立法者的價值判斷。我國對布圖設計采用登記保護原則，在登記過程中采取形式審查，只要形式上符合要求，不存在駁回理由就予以登記公告。布圖設計發展速度較快，通過登記便于確定布圖設計的創作完成時間，還能通過登記確定該布圖設計是否符合法定受保護條件，使設計人的權利趨于穩定［7］?！稐l例》第8條規定布圖設計專有權以登記為受保護的前提條件。但《條例》第17條規定，投入商業利用2年內未提出登記申請的，將不再予以登記?！都呻娐凡紙D設計保護條例實施細則》第20條規定，布圖設計專有權自申請日起生效，而并非自登記之日起生效［8］。總的來說，布圖設計專有權保護的前提是登記，但是布圖設計投入商業利用2年內沒有進行登記則直接失去了登記的權利。即使布圖設計在登記日前已投入商業利用，但由于沒有登記，布圖設計專有權還未生效，布圖設計權利人在商業利用日至登記日期間無法享有布圖設計專有權，因此不受《條例》保護。2年登記期限限制了布圖設計在商業利用中的靈活性。一旦超過這個期限，即使布圖設計在市場上具有巨大潛力，也將失去登記保護的機會。

2.2 拖延商業利用的時間

《華盛頓條約》規定布圖設計專有權可以以登記作為保護條件，也可以以第一次投入商業利用時產生。我國采用登記保護原則，在《條例》頒布初期，即便法律賦予布圖設計以知識產權保護，可憑借商業利用登記期限的限制條款，使部分沒有及時登記的布圖設計得以自由利用，以平衡在技術發展不利條件下，布圖設計按照國際高要求的保護水平帶來的過度保護。如今此條款的立法目的已不能適應現實需求，在先投入商業利用會使布圖設計進入不受《條例》保護的“真空”狀態，布圖設計者為了實現布圖設計的全面保護，取得更長的保護期限，可能會先進行登記而再投入商業使用，這拖延了商業利用的時間。

登記保護與商業利用的沖突在司法實踐中也有所體現。2009年原告廣東省深圳市天微電子有限公司（以下簡稱“天微公司”）訴被告廣東省深圳市明微電子股份有限公司（以下簡稱“明微公司”）布圖設計專有權侵權案中，雙方都申請了布圖設計登記，天微公司的布圖設計先投入商業利用而后登記，但明微公司的布圖設計申請登記日期早于天微公司申請登記日期2個多月。天微公司以商業利用早于被告的登記時間主張明微公司侵權，最后深圳市中級人民法院以明微公司的申請日早于原告，判決不構成侵權①。即使商業利用在前也不構成侵權，原因在于布圖設計申請人在登記申請日前不享有布圖設計專有權。簡言之，即使商業利用日早于登記日也無法對抗登記的效力。這個案例是登記保護與商業利用沖突的直接體現。登記保護與商業利用的沖突不是個例，2006年因《條例》第17條，我國首次對集成電路布圖設計啟動撤銷程序。但因有關商業利用的證據鏈不完整，無法確認該布圖設計在申請日之日起2年前已投入商業利用，最終決定維持布圖設計專有權②?？梢?，布圖設計登記保護與商業利用的沖突早已產生，且一直沒有得以解決。

《條例》的立法目的是鼓勵集成電路技術的創新，促進科學技術的發展。《條例》只把登記作為權利保護的唯一依據，對于完成創作后未能及時登記而投入商業利用的主體就此喪失登記的權利，不利于保護在先創作人的權利，也不利于促進布圖設計相關技術的成果轉化，讓本就更新迭代迅速的集成電路技術因登記等因素，拖延了商業利用的時間。

3 化解登記保護與商業利用沖突的建議

3.1 取消布圖設計登記期限的限制

建議對第17條進行修改，取消登記期限的限制，以適應商業利用的實際需求。布圖設計及時投入商業利用可促進技術更快發揮經濟效能和社會效能，但是已經投入商業利用且未登記就不在《條例》的保護之下，顯然與法律鼓勵創新和促進科學技術轉化的精神相背離。對布圖設計專有權的保護應該考慮在登記之前已投入商業利用的權益人的一定權利，從而激勵布圖設計產業創新，提高布圖設計的利用率，促進科技成果轉化為現實的生產力。

我國采用登記作為受保護的程序條件，排除對投入商業利用后沒有完成登記的布圖設計的保護，以平衡在技術發展不利條件下，布圖設計按照國際高要求的保護水平帶來的過度保護。從布圖設計登記權利的名次看，美國亞德諾半導體公司作為布圖設計權利主體，2001年至2021年布圖設計總量為943項，居于布圖設計權利人登記數量之首，外國主體在我國布圖設計登記中具有明顯優勢。由此可見，發達國家在知識產權的登記保護上本就具有很強的主動性，如今利用此項規定很難達到排除相關技術受我國法律保護的目的。而國內眾多的權利主體在知識產權保護方面，對于積極登記的意識尚顯不足。加之布圖設計更新迭代迅速，登記過程可能會影響其商業利用的時效性。因此，應修改《條例》第17條關于登記期限的要求，取消登記期限的限制，采用正向引導方式，激勵布圖設計權利人積極登記，使布圖設計權利人積極創新的同時又能將設計出的布圖設計及時投入商業利用進行成果轉化。通過修改集成電路布圖設計法律制度，有利于強化集成電路產業知識產權保護［9］。

3.2 明確登記保護與商業利用的平衡點

一味地強調登記保護并非促進產業發展的正確之道，還應注重促進知識產權的創新和知識的流通［10］。《條例》第12條規定：“布圖設計專有權的保護期為10年，自布圖設計登記申請之日或者在世界任何地方首次投入商業利用之日起計算，以較前日期為準…?！钡紙D設計在登記申請日前投入商業利用的，布圖設計申請人在登記申請日前不享有布圖設計專有權，這不僅產生了保護期計算與專有權生效起止時間的矛盾，還可能導致布圖設計權利人為了獲得更長的保護期限而選擇先登記后投入商業利用。布圖設計的登記與商業利用相比，登記僅是一些程序要求，只要按照法律規定完成相應的手續就能實現。但是布圖設計商業利用的難度高于登記，知識產權不能僅以登記保護為目的，還應重視知識產權成果的運用。成果的轉化利用對產業的可持續發展和技術的進步具有導向性，更能發揮知識產權的內在價值，比登記更具難度?，F有的法律規范的側重點往往是對布圖設計的保護，這種“重保護”而“輕應用”的失衡理念導致布圖設計專門法在實踐中顯得無足輕重。為了實現登記保護與商業利用的平衡，應對登記前已投入商業利用的布圖設計以一定的權利效力傾斜。例如，投入商業利用后一定期限內進行登記并獲得授權的布圖設計專有權，可以以第一次投入商業利用的時間計算其保護期限。

荷蘭、美國等國家的法律采用使用與登記取得的立法模式，該種方式是對登記取得制的一種補充和修正，主要為首次商業利用但未進行登記的布圖設計提供特別補救程序［7］。這種保護模式很好地平衡了登記保護與商業利用的關系，為我國法律修改提供了借鑒。當然，布圖設計專有權以第一次投入商業利用時產生打破了布圖設計登記產生的基本要求，需要對此加以限制。首先，布圖設計在投入商業利用后一定期限內必須申請登記，并且在發生爭議時只有經過形式審查予以登記的布圖設計才能得到保護。這是防止布圖設計權利人把權利保護的希望全部寄托于商業利用，而忽視知識產權依法產生的必要要求。除此以外，布圖設計的登記內容須與投入商業利用的布圖設計的權利范圍一致，如果發生登記與商業利用不一致的情形，要明確以登記的權利范圍作為判斷依據。提出這點是為了防止布圖設計權利人隨意擴大權利保護的范圍而限制了其他權利主體的合法利益。

集成電路布圖設計專有權包括復制權和商業利用權，商業利用權作為布圖設計專有權的權利內容，是布圖設計實現其知識產權成果價值的重要途徑。布圖設計專有權的保護與專利保護是不同的，專利權被授予后，其他人即使獨立完成了與專利技術相同的技術也不得投入商業利用。布圖設計人通過向國家知識產權行政部門登記獲得專有權保護后，并不排斥其他民事主體通過獨立創作的方式創造出與其完全相同的布圖設計?！稐l例》要求布圖設計專有權客體具有新穎性和創新性，其權利必須通過登記取得。布圖設計登記保護是法律規定權利產生的必要條件，布圖設計的商業利用是布圖設計權利的內容，兩者之間應保持平衡，既實現全面保護布圖設計，又能促進布圖設計在獲得保護的情況下盡快投入商業利用，實現成果的轉化利用。

3.3 引導布圖設計權利人積極登記

布圖設計登記具有重要意義：第一，明確權利歸屬；第二，登記是維權的有力武器；第三，提升客體價值。因此力求布圖設計登記保護與商業利用平衡的同時仍然要引導布圖設計權利人通過登記手段獲取權利，更好地推動布圖設計專有權的保護與運用。

化解布圖設計登記保護與商業利用的沖突并非主張布圖設計權利人可以不登記，也并不認同直接以商業利用作為權利產生的依據。布圖設計作為知識產權的客體之一，是依法產生的權利，登記保護制度有利于提前明確權利保護范圍，登記備案作為布圖設計法定賦權要求具有重要的意義。無論是設置登記期限還是取消登記期限，或是以投入商業利用作為權利產生的依據，都是為了平衡登記保護與商業利用，防止因過度依賴登記制度阻礙了布圖設計的成果轉化。但無論如何，布圖設計權利人都應在合適的條件下積極登記，通過登記全面享有權利，實現權利的自由行使。因此，布圖設計權利人要加強登記保護意識，對于自身研發創作的布圖設計及時向國家知識產權局申請登記。達到布圖設計登記保護與商業利用之間的平衡，仍然要引導布圖設計權利人積極通過登記程序明確自己的權利范圍。

4 結論

《集成電路布圖設計保護條例》第17條在保護布圖設計專有權的同時，也帶來了與商業利用的沖突。通過取消布圖設計登記時效的限制、明確登記保護與商業利用的平衡點、引導布圖設計權利人積極登記，有效化解這些沖突，促進集成電路產業的持續健康發展。國內有部分學者認為《條例》所起的作用有限，行業經過自身發展已經能夠避免布圖設計侵權問題，不必浪費立法資源對現有規定做出修改。但這是由于現有布圖設計的技術水平超過了制備設施和制造工藝的技術水平，一旦今后制備設備和制造工藝技術得到提升，那么布圖設計侵權問題又會再次出現。法律的規制應具有前瞻性，《條例》是工業版權法的一次有效探索，應當在此基礎上繼續修改完善，以應對今后可能會出現的新局面。未來，隨著技術的不斷進步和市場的日益變化，《條例》做出的適時修改將會更好地促進布圖設計專有權的保護與運用。

注釋：

①參見廣東省高級人民法院（2010）粵高法民三終字第256號民事判決書。

②參見原國家知識產權局專利復審委員會集成電路布圖設計撤銷案件審查決定（第0001號）。

參考文獻：

［1］國家知識產權強國建設工作部際聯席會議辦公室關于印發《2024年知識產權強國建設推進計劃》的通知［EB/OL］.（2024-05-11）［2024-06-05］.https：//www.gov.cn/zhengce/zhengceku/202405/content_6951322.htm.

［2］雷艷珍.我國集成電路布圖設計專門法保護中的基本問題：以布圖設計保護范圍的確定為中心［J］.法律適用，2023（2）：124-133.

［3］劉建臣.從排他到獲酬：芯片設計賦權模式的變革［J］.中外法學，2023，35（5）：1364-1380.

［4］祝建軍.對集成電路布圖設計專有權司法保護有關問題的思考［J］.知識產權，2016（9）：37-44.

［5］張耀明.中國知識產權保護的新視點：《集成電路布圖設計保護條例》立法簡介［J］.科技與法律，2001（2）：104-108.

［6］李志研.我國集成電路布圖設計專有權制度評析［J］.安徽工業大學學報（社會科學版），2003（4）：67-69.

［7］吳漢東.知識產權法學［M］.北京：法律出版社，2021.

［8］祝建軍.集成電路布圖設計專有權的保護［J］.人民司法，2011（4）：95-98.

［9］傅啟國，曹坤，李騰，等.江蘇集成電路產業發展現狀及高質量發展策略研究［J］.科技和產業，2023，23（1）：52-57.

［10］張一泓.集成電路布圖設計專有權保護機制探析［J］.電子知識產權，2023（6）：90-101.