集成電路布圖設計專有權保護機制探析

摘要：集成電路布圖設計作為一種新興的知識產權客體，其保護模式區別于著作權和專利權，但又存在緊密聯系，探索出了一條“工業版權”的保護路徑。針對布圖設計的現有保護機制尚不完善，司法實務中也存在不同裁判觀點的現狀，在理清布圖設計的保護客體、獲權要件、保護范圍、侵權判斷規則和非以“公開換保護”本質的基礎上，完善布圖設計專有權的確權機制、引入刑事保護措施等強化法律保護，與此同時以利益平衡原則為判斷標準，明確反向工程抗辯成立要素、限縮商業使用權的權能范圍等權利限制機制，以探索布圖設計專有權更優保護路徑。

關鍵詞：集成電路；布圖設計；反向工程

一、引言

在當前信息技術時代，集成電路承擔著運算和存儲功能，其廣泛運用于通訊設備、數字家電、工業器件、計算機等領域，是信息技術產業的核心，是支撐經濟社會發展和保障國家安全的戰略性、基礎性和先導性產業。"集成電路又被稱為芯片，它是將電阻、電容、晶體等元件通過一定的線路固化于一定的固體材料上，從而使之具備一定的電子功能的產品。集成電路作為一種綜合性的技術成果，包括工業技術和布圖設計，工業技術方面，其技術方案可以通過申請專利獲得專利法保護；而布圖設計既不是工業品外觀設計，也不屬于具有審美意義的美術作品，因此當前各國基本上對其采用了一種“工業版權”的保護模式。

2020 年8 月4 日國務院發布《新時期促進集成電路產業和軟件產業高質量發展的若干政策》（下稱《若干政策》），從財稅、投融資、研究開發、知識產權等八個方面加大了對于該產業的政策支持力度。在知識產權政策方面，該文件提出，嚴格落實集成電路布圖設計及軟件知識產權保護制度，加大侵權違法行為懲治力度，有效保護集成電路和軟件知識產權。"本文試圖通過對集成電路布圖設計專有權現有法律保護機制和保護現狀進行分析，理清布圖設計專有權的幾個關鍵問題，在集成電路布圖設計專有權保護機制強化的同時，完善權利限制規則，以期促進我國半導體集成電路產業的高質量發展。

二、現有保護機制及案例實證分析

（一）現行法律制度的總體分析

1989 年，世界上首部關于保護集成電路布圖設計的國際條約《華盛頓條約》制定，其對于集成電路布圖設計的立法具有指導性意義。該條約規定各國可以任選著作權法、專利法、工業設計法或不正當競爭法等形式，或采用特別法形式保護布圖設計。1994 年TRIPS 協議進一步強化了集成電路布圖設計專有權的法律保護，布圖設計專有權的效力不限于布圖設計及含有該布圖設計的集成電路，還延伸到了安裝含有該集成電路布圖設計的產品。

為履行加入世貿組織的相關知識產權保護義務，我國于2001 年10 月1 日實施了《集成電路布圖設計保護條例》（以下簡稱《條例》），《條例》針對集成電路布圖設計專有權的法律定義、權利內容、登記程序、法律責任等方面內容進行了規定。2001 年10 月1 日同步實施了《集成電路布圖設計保護條例實施細則》（以下簡稱《細則》），《細則》針對《條例》關于集成電路布圖設計申請登記的相關規定進行了細化。2001 年11 月28 日，國家知識產權局頒布實施了《集成電路布圖設計行政執法辦法》，就集成電路布圖設計侵權行為的處理和調解程序進行了規定。經過多年實踐，國家知識產權局于2019 年4 月發布《集成電路布圖設計審查與執法指南（試行）》。以上是我國現有的針對集成電路布圖設計專有權的全部法規及部門規章，其中《條例》和《實施細則》是目前我國集成電路布圖設計保護的主要法律依據。在知識產權其他部門法已經多次修改完善的背景下，關于集成電路布圖設計專有權的法律保護仍然存在立法階層不高，缺乏全面的、與時俱進的法律指引等問題，相關法律規定亟待進一步完善。

（二）相關案件的實證分析

為深入分析集成電路布圖設計現有司法案例，筆者在裁判文書網以“侵犯集成電路布圖設計專有權”為案由關鍵詞進行檢索，共獲得法律文書43 篇，其中判決11 篇，裁定31 篇，調解書1 篇。此外，查詢到兩件國家知識產權局公布的集成電路布圖設計專有權的行政撤銷案件。相較每年案件量不斷攀升的專利、商標等案件，集成電路布圖設計專用權的案件顯得尤為稀少。從世界范圍來看，美國、德國等作為制造業大國，其訴至法院的集成電路布圖設計專有權案件也屈指可數。"這與集成電路布圖設計專有權保護的客體范圍較小、法律規則有待完善等要素不無關系。通過梳理現有案例，筆者發現現有裁判中亦存在部分觀點沖突、規則不明晰之處。

1. 布圖設計專有權是否為“以公開換保護”存在不同判決

通過上述案例我們可以發現，在集成電路布圖設計專有權是否以“公開換保護”的問題上，法院存在不同的裁判觀點，而該問題直接關系到是否要求申請登記的相關文件需要達到專利法律制度下說明書的充分公開標準。

2. 布圖設計專有權保護范圍的確定存在不同判決

由于國家知識產權局針對申請登記的集成電路布圖設計并不進行實質性審查，其申請材料的紙質版是否清楚載明了該布圖設計的獨創性部分以及電子版與樣品是否一致的問題并不清晰，在后續司法訴訟中，如何確定案涉布圖設計的保護范圍成為一個關鍵問題。

三、布圖設計專有權的幾個關鍵問題

相較于版權、專利、商標等傳統知識產權客體而言，布圖設計專有權此種新型知識產權長期以來處于相對邊緣化的狀態，實務案例的缺乏導致理論界對布圖設計的關注度不夠，而理論研究的不足亦使得涉及布圖設計專有權的相關概念處于相對混亂的狀態，對此本部分試圖對幾個關鍵問題進行理清，以期為完善集成電路布圖設計專有權法律保護機制奠定基礎。

1. 布圖設計保護的客體：功能性表達

從產業鏈的結構來說，集成電路產業由設計、制造、封裝、測試、銷售等組成，布圖設計處于產業的上游。"而設計又可被分為不同的階段，最終的布圖設計文件是在功能、邏輯、電路的設計與驗證等步驟之后對電路元件位置的層疊排列，是以圖案形式對集成電路中的元件類型、大小以及元件之間的相對位置關系進行了物理描述，以此體現元件間更優的位置關系。具體而言，在布圖制作階段，集成電路設計者將以抽象形式表達的電路網表轉化成代表電路的幾何圖形，用于表示對元件間的排列、布局所作的安排。"在這個意義上，布圖設計與著作權法上的圖形作品存在類似之處，但圖形作品獲得著作權保護的關鍵在于其點、線、面構圖之間體現出來的嚴謹、對稱的科學美感，著作權法之所以將此種設計圖作為作品加以保護僅僅是因為圖形設計“看上去美”，并不是因為其變成實物之后的實用功能。"而布圖設計側重保護功能性，布圖設計不在于給受眾提供視覺上的美感享受，而在于執行電子電路功能。雖然布圖設計與高精尖技術緊密相關，但其本質上屬于獨立于思想方法與最終產品之間存在的智力成果形式，保護的是對元件的物理描述方式，與抽象的邏輯關系、元件功能以及技術思想無關。根據《條例》的規定，集成電路布圖設計指的是元件的部分或者全部互連線路的三維配置，此處的三維配置是布圖設計呈現的最終結果，即集成電路布圖設計專有權保護的是設計者對電路中布圖元件在特定空間中特定布局關系的表達。在保護對象這個客體概念上，集成電路布圖設計專有權與著作權存在類似之處，即不保護思想，保護的是思想的表達方式，這與專利法保護技術方案（技術思想）的規則存在較大區別。也正因為如此，在美國法律體系下，集成電圖布圖設計亦被稱為“掩膜作品”。

2. 專有權的獨創性要件：與著作權和專利權的比較

針對集成電路布圖設計的保護，《華盛頓條約》允許締約方以商業實施或登記作為權利取得的方式，TRIPS 協議允許締約方將登記注冊作為權利取得的一種方式，但不僅限于此。當前，除英國采取集成電路布圖設計專有權自動取得方式外，"絕大多數國家均采取登記注冊的權利取得模式。在登記取得制度下，除美國采取登記訴訟主義，即形式審查和實質審查相結合的方式外，其余大多數國家（包括我國）均采取登記保護主義，即采形式審查方式，此種審查類似于《專利法》中針對實用新型和外觀設計的審查模式，即僅對申請文件的形式要件進行審查，不對申請內容進行實質審查，此種審查模式契合了集成電路迭代更新快、應用周期短的現實要求。根據《條例》的規定，集成電路布圖設計專有權的獲權條件是“獨創性+非常規設計”?；谛问綄彶榈幕灸Ｊ?，布圖設計完成登記后，并不能當然推定該布圖設計具有獨創性，獨創性的判斷仍然需要法官在具體個案中分析。

集成電路布圖設計要求的“獨創性”與著作權法中關于作品的“獨創性”要求具有不同的法律內涵。著作權法在立法目的上鼓勵文學藝術創作，鼓勵思想表達的多樣化，只要具備文學藝術上的創造性即可構成作品。著作權法中的“獨創性”要求作者獨立創作，且達到一定水準的智力創作高度，作品獨創性的有無并無明確的客觀判斷標準，總體而言作品獨創性的判斷具有較大的主觀性。集成電路布圖設計中的“獨創性”相較于著作權法的“獨創性”而言，其所要求的獨創性同樣要求設計者是獨立設計完成的，因而集成電路布圖設計的法律規則和著作權法在允許設計巧合的問題上保持一致。但在“創”的判斷上具有更多的創新要求與客觀性標準，即集成電路布圖設計要求的是在技術上的進步，具有明確且客觀的指向性要求，與文學作品中百花齊放的“創”具有明顯不同。其次，集成電路布圖設計中的“創”要結合專利法中的“創造性”要件進行理解。

專利法要求的創造性（發明）是指技術方案具有突出的實質性特點和顯著的技術進步，對于本領域普通技術人員來說是“非顯而易見的”，即不是本領域普通技術人員無需經過創造性勞動就能聯想到的技術方案，而集成電路布圖設計中的“創”要求“非常規設計”即可。前者要求的是技術上“質的創造性”，后者強調的是“量的創造性”。"且由于布圖設計受限于電路設計過程中規則的限制，此處的“非常規設計”標準應低于專利法的“非顯而易見性”標準。反之，如果布圖設計的創造性已經達到了專利法意義上的“非顯而易見性”標準，則當然認定該設計符合“非常規設計”要求。

因此，集成電路布圖設計獲權條件中的“獨創性+ 非常規設計”標準高于著作權法中的獨創性標準，但低于專利法中的創造性要求，這也是針對集成電路布圖設計的保護法律采取區別于著作權法和專利法的保護規則，而采取“工業版權”保護規制的原因所在。

3. 保護范圍的判斷：電子圖樣法律地位的明晰

根據《條例》第16 條和《細則》第14 條的規定，申請集成電路布圖設計登記，應當提交申請表、布圖設計的復制件或者圖樣，可以同時提交布圖設計的電子版，如果布圖設計已經投入使用的還需要提交包含有該布圖設計的集成電路樣品。當申請人僅提交復制件或圖樣時，在后期涉及侵權判斷的司法訴訟亦或是行政處理過程中，當然以該復制件或圖樣中該集成電路布圖設計的獨創點劃定其保護范圍。但若申請人同時提交了布圖設計的電子版以及樣品時，此時在圖樣紙質版、電子版和樣品三種權利載體間，以何種確認保護范圍成為法律實務中存在的問題。本文認為，圖樣紙質版是任何申請時都必須提交的申請文件，其法律地位類似于專利申請文件中的權利要求書，應當以其確定保護范圍。《細則》要求該紙質版圖樣至少放大到用該布圖設計生產的集成電路的20 倍以上，但基于當前集成電路早已進入納米級別，諸多時候僅靠紙質版圖樣難以清晰地判定集成電路布圖的保護范圍。

在我國首例侵犯集成電路布圖設計專有權糾紛案件中，國家知識產權局認為：以復制件和圖樣為基礎，以集成電路樣品為補充來確定布圖設計保護范圍的原則，即在復制件和圖樣與樣品具有一致性時，后者可對前者的細節進行補充，但未在前者中得到體現的部分，不應被納入布圖設計的保護范圍。"在賽芯電子訴裕昇科技侵害集成電路布圖設計專有權糾紛上訴一案中，最高人民法院認為：在確定布圖設計的保護范圍時，一般應根據復制件或圖樣的紙件進行。在樣品與復制件或圖樣的紙件具有一致性的前提下（此處的一致并不要求完全相同，不具有明顯區別即可），可以采用樣品剖片，通過技術手段精確還原出芯片樣品包含的布圖設計的詳細信息，提取其中的三維配置信息，確定紙件中無法識別的布圖設計細節，用以確定布圖設計的內容。"當前司法機關和行政機關的觀點基本一致，即原則上應該由紙質版圖樣確定保護范圍，樣品與紙質版存在一致性的情況下，可以作為參考。前述案例中，司法機關和行政機關均針對樣品的法律地位進行了分析，而并未對電子版圖樣在確定保護范圍時的法律地位進行判定。本文認為，電子版圖樣與紙質版圖樣僅在載體上存在差異，二者理應保持一致性，但在納米級別語境下，當紙質版圖樣已無法更好的再現布圖設計的獨創性內容時，通過電子版的圖樣更為清晰的再現獨創性部分，從而提交電子版圖樣，此時應該根據技術發展的實際情況，以紙質版圖樣為基礎，結合電子版圖樣更為細化、清晰的內容來確定布圖設計的獨創性部分，從而劃定其保護范圍是法律規則適應技術變化的應有之義。

4. 禁止性權利的外延分析

根據《條例》第7 條的規定，布圖設計專有權的范圍包括復制權和商業利用權。作為禁止性權利，對于法定權利類型的外延進行清晰的判斷是侵權認定的前提，也是布圖設計專有權保護的關鍵所在。

復制權是著作權的核心權利，其在著作權法意義上的內涵是指作品被相對穩定和持久地固定在有形物質載體之上，具體包括無載體到有載體的復制、有載體到有載體的復制行為。然而，我們不能將布圖設計專有權上的復制與著作權法意義上的復制做同等解釋。在實際操作中，對集成電路布圖的復制并非單純地復制設計圖本身，而是將布圖設計應用到集成電路當中，以提升集成電路的功能和效率，此種行為本質上是將布圖設計用于產品制造，類似于專利法上的制造行為，因此國外關于集成電路的立法以及相應的國際條約針對集成電路中的復制所使用的大都是“reproduce”而非“copy”一詞。"故布圖設計中的復制權，范圍應包括著作權法意義上的復制以及專利法意義上的制造。

根據《條例》對商業使用權的定義，該權能包含三個層次的保護范圍，即將布圖設計直接投入商業利用，將含有布圖設計的集成電路投入商業利用，將含有前述集成電路的物品投入商業利用。此種權利范圍的設計類似于專利法的保護模式，譬如對專利方法的保護不僅包括該專利方法，還延伸到依照該方法直接生產的產品上，此種立法模式的選擇是參照TRIPS協議的結果。

5. 侵權的判斷：“接觸+ 實質性相似公式”的應用

根據《條例》第7 條、第23 條的相關規定，當被控侵權人不能證明被控侵權設計與受保護的布圖設計存在相同的部分是自己獨立設計完成時，構成對權利人集成電路布圖設計專有權的侵權。針對實質性相似的判斷，要注意的是當受保護設計并非整體具備獨創性的條件下，比對的對象應當是受保護設計中具有獨創性的部分與被控侵權設計中的相應部分，而非將被控侵權設計與受保護設計進行整體比對。在當前司法實務中，針對集成電路布圖設計專有權的侵權采取與著作權侵權判斷同樣的規則，即“接觸+ 實質性相似”規則。在具體的案件中，司法機關和行政機關在諸多時候將重點放在了實質性相似的判斷上，忽視了“接觸”要件的判斷。譬如在鉅泉光電公司與深圳市銳能微科技公司、上海雅創公司侵害集成電路布圖設計專有權糾紛案中，法院通過被訴侵權產品與涉案布圖設計構成實質性相似，便認定該案被告侵犯了權利人布圖設計專有權中的復制權。在前述無錫新硅微電子公司與南京日新科技有限公司侵犯集成電路布圖設計專有權案中，國家知識產權局亦通過認定被訴侵權產品與涉案布圖設計的獨創性部分相同或實質相同，直接認定被訴侵權人復制行為的存在。

忽視對“接觸”要件的判斷，可能導致《條例》23 條第3 款規定的“對自己獨立創作的與他人相同的布圖設計進行復制或者將其投入商業利用”不視為侵權條款被架空。在著作權侵權判斷規則中，“接觸”要件并不要求舉證證明實際接觸，只要求存在接觸的可能性即可，該規則在布圖設計專有權侵權判斷中同樣適用?！敖佑|可能性”的判斷因素可參考著作權法下的規則，"即在構成實質性相似的基礎上，判斷接觸可能性時可以一方面從被控侵權人與權利人之間是否存在雇傭、親友、合作等特殊關系角度以及被控侵權人的利害關系人與權利人是否存在前述特殊關系的角度分析；另一方面若被控侵權設計與受保護設計的保護范圍完全一致，無法用巧合來說明的情況下，可以推定被控侵權人存在接觸受保護設計的可能性；此外如果受保護設計在本行業領域廣為知曉，亦可以作為存在接觸可能性的考慮因素。

此外，還需要注意的是在滿足“接觸+ 實質性”相似判斷要件的基礎上，實質性相似部分在整個布圖設計中的占比要件亦不可忽視。在著作權侵權判斷規則中，僅復制個別獨創性表達尚不足認定構成侵權，但在布圖設計專有權侵權判斷中，只要被控侵權布圖設計與權利布圖設計中任何獨創性部分構成實質性相似即可構成侵權。布圖設計與文學作品存在不同，其設計具體功能性，各設計點相互依存，具有牽一發而動全身的特點，因此布圖設計中任何具有獨創性的設計點都應該給予法律保護。

6.“以公開換保護”的否定：布圖設計與專利的區分

“以公開換保護”是專利法律制度下專利權授權的本質，也是權利獲取的對價。有觀點認為“與專利法相類似，布圖設計專有權的制度邏輯也是以技術公開作為專有權保護的對價，以有期限的保護換取社會公眾對先進技術的接觸。”在前述昂寶電子公司與被告南京智浦芯聯公司等害集成電路布圖設計專有權糾紛一案和賽芯電子訴裕昇科技侵害集成電路布圖設計專有權糾紛上訴一案中，不同法院對此問題亦存在觀點差異。

本文認為集成電路布圖設計專有權的登記程序類似于著作權中作品的登記程序，登記的目的在于進行權利固化，是后續維權的基礎，而非通過登記進行公開換保護。首先以公開換保護法律規則的實質在于申請人將智力創造成果完全公開，使得社會公眾可以根據公開的內容復制實施該成果，避免社會公眾重復性研發，也使得有價值的新技術可以迅速普及、應用，發揮其價值，基于此法律給予申請人一定期限的壟斷性權利，以獎勵其智力性投入。該規則要求申請人必須充分公開其智力成果，達到本領域普通技術人員不經過創造性勞動就可以復制實施的程度。而根據《細則》的規定，公眾可以查閱已經登記的布圖設計復制件或者圖樣的紙件，而登記備案的電子版布圖設計只能在侵權訴訟或行政處理程序的條件下可查閱，其余任何人不得查閱或復制。由此可知，已經登記的集成電路布圖設計，其并不必然提交了設計的電子版，即使提交了電子版本的設計圖，公眾也無法查閱。且針對申請時未投入商業利用的布圖設計，該登記申請可以保密最多不超過設計一半的信息。由此可見，立法者并未要求布圖設計者在申請材料公開方面履行類似專利法中針對說明書等材料的全面公開原則，且在當前微電子技術已經進入納米級別的背景下，僅設立放大20 倍的下限要求，并不能實現充分公開的效果。其次，專利法在“以公開換保護”的規則下，當專利申請文件充分公開后，默示推定任何第三人在此后完成的落入專利保護范圍的技術產品（外觀設計）構成專利侵權，第三人主張獨立完成并不能成為侵權阻卻事由，這是專利充分公開后強排他性權利的體現。而與著作權規則類似的集成電路布圖設計專用權，《條例》中明確表示獨立完成可以成為侵權阻卻事由，在未充分公開，不以公開為權利獲取前提的規則下，承認獨立設計不具有侵權可能性的制度設計符合法律的基本邏輯。

四、保護體系的完善：基于機制完善和權利限制的二維視角

在理清集成電路布圖設計專有權幾個關鍵問題的基礎上，立足當前法律保護機制的不足，進一步完善集成電路布圖設計專有權法律保護機制和權利限制機制是促進我國半導體集成電路產業發展的內在要求。

（一）保護機制的完善

1. 構建確權制度：引入無效宣告請求人

在專利法律制度中，專利授權后，任何主體認為該專利授權不符合專利法的規定，都可以向專利復審和無效審理部申請宣告該專利全部或部分無效，該制度旨在引入公眾對專利此種法定壟斷性權利的監督，糾正錯誤授權引起的專利權人對公共資源的獨占，將原本屬于社會公共領域的智力成果返還給社會公眾，實質上是一種對社會公共利益的救濟手段。在集成電路布圖設計法律制度中，現有法律制度并未規定公眾有權提起撤銷集成電路布圖設計的權利，即缺乏無效宣告程序。在法律實務中存在所謂的“撤銷意見提出人”，但該主體并未獲得法律“請求撤銷布圖設計專有權的請求權”授權。因此，從嚴格的意義上來說，專利復審和無效審理部并不會因為“撤銷意見提出人”提出的撤銷意見而必然啟動撤銷程序?！稐l例》第20 條規定“布圖設計專有權利人對國務院知識產權行政部門撤銷布圖設計登記的決定不服的，可以自收到通知之日起3 個月內向人民法院起訴。”但對于“撤銷意見提出人”而言，不論是對專利復審和無效審理部不啟動撤銷程序的決定，抑或是對處理決定不服的，其均不享有法律上的救濟路徑。

此外，由專利復審和無效審理部負責針對集成電路布圖設計的撤銷審查，該部同時負責專利的復審和無效的審查工作。但集成電路布圖設計專有權取得的條件與專利授權條件存在較大差異，集成電路布圖設計專有權的取得要件是“獨創性+ 非常規設計”，專利的核心授權條件在于專利“三性”，最為關鍵的在于“創造性”的問題。集成電路布圖設計專有權所要求的獨創性和非常規設計標準低于專利法創造性要求的實質性特點和“進步（發明要求突出的實質性特點和顯著的技術進步）+ 非顯而易見性”標準。在集成電路布圖設計撤銷案件遠少于專利復審和無效案件數量的現實背景下，由同一個機構針對不同法律標準的兩項權利進行審查，從理論上來說難以區分。因此，在布圖設計專有權法律制度中參考專利法律規則，賦予撤銷意見提出人以無效宣告請求人的法律地位，建立權利的確權機制具有現實必要性。

2. 建立布圖設計的刑事保護機制

信息技術時代，知識產權侵權類型不斷變化，強化知識產權保護成為社會共識，刑事保護作為嚴格的法律保護措施已然愈發重要。2020 年12 月26 日，全國人大常委會審議通過《刑法修正案（十一）》，擴大了侵犯著作權罪的入罪范圍，將侵犯注冊商標罪擴展到了服務商標類型等，都體現出立法者對強化知識產權刑事保護的意圖。當前針對嚴重侵害集成電路布圖設計專有權的行為缺乏刑事保護制度，在司法實踐中，權利人多是依托侵犯假冒注冊商標罪、侵犯著作權罪等刑事保護措施實現權利維護。譬如在門洪志、葉威等假冒注冊商標罪一案中，被告人通過反向工程獲取權利人的集成電路布圖設計，在缺乏針對集成電路布圖設計刑事保護的背景下，權利人基于針對該布圖設計“WCH”享有注冊商標專用權，通過假冒注冊商標罪路徑追究了侵權人的刑事責任。"在羅開玉等侵權著作權罪一案中，行為人通過反向工程獲取權利人的布圖設計，從而進行了芯片仿制，由于該行為同時侵犯了集成電路內部固件程序軟件的著作權，情節嚴重，最終以侵犯著作權罪追究行為人的刑事責任。"但并非所有集成電路布圖設計專有權權利人針對芯片都享有注冊商標專用權亦或是所有集成電路內部都有內置固件程序，在不涉及其他知識產權客體的情況下，針對嚴重侵犯集成電路布圖設計的行為，尚無法追究其刑事責任。

當前日本、韓國等國都針對集成電路布圖設計專有權建立了刑事保護制度：日本是最早用刑事手段保護集成電路布圖設計專用權的國家，日本《半導體集成電路線路布局法》規定對侵犯集成電路布圖設計專有權行為最高可以判處三年有期徒刑或一百萬日元的罰金。"在知識產權司法保護雙軌制不斷完善的背景下，建立符合市場需求的集成電路布圖設計專有權刑事保護規則是促進產業健康發展的路徑選擇。

（二）權利限制機制的完善

知識產權制度作為社會公共政策的產物，在強化知識產權保護的同時，對知識產權的限制亦成為核心問題。如何在強化保護的同時實現恰當的權利限制，關鍵在于利益平衡，法經濟學是知識產權領域中最常用的利益平衡分析路徑。法經濟學發源于科斯的著名論文《社會成本問題》，波斯納所著的《知識產權法的經濟結構》，將法經濟學全面引入知識產權法律分析體系，但遺憾的是，在波斯納的分析中并未囊括布圖設計專有權，但同屬知識產權體系的布圖設計專有權理應適用法經濟學分析模型。布圖設計專有權具備非排他性和非競爭性兩種屬性，使之具備成為公共產品的可能，作為公共產品任何人都可以使用，但與此同時任何人都將失去研發創新的動力，為使得布圖設計能夠源源不斷地創新，通過立法賦予本身不具有排他性的布圖設計以排他性權利，這就是布圖設計專有權立法的經濟學原理所在。然而對于社會來說，布圖設計進行廣泛的應用從而實現社會的發展是最具社會整體效率的，符合卡爾多-?？怂剐世碚?。因此，在保障布圖設計專有權利人享有壟斷性權利，從而不斷激勵創新的基礎上，對其權利進行一定的限制，從而在最大范圍內實現布圖設計的廣泛應用，是布圖設計立法追求最大社會效率的體現。

1. 反向工程認定要件的完善

“通過技術手段對公開渠道取得的產品進行拆卸、測繪、分析等而獲得該產品有關的技術信息，可以作為商業秘密侵權的合法來源抗辯”，"這是不正當競爭法律體系中關于反向工程的定義和法律地位的條款?；谏虡I秘密的秘密性要件，社會公眾無從知曉商業秘密的具體內容，排除此種行為的侵權可能性是防止商業秘密權利人信息壟斷的重要路徑。然而在專利法律制度中，并不存在所謂的反向工程抗辯，原因在于專利本質上“以公開換權利”，專利權獲得的條件下，專利技術已經全部公開，不存在需要通過獲取專利技術的理由?；诓紙D設計并非以公開換權利的理論，社會公眾并不能從布圖設計登記文件中獲取布圖設計的全部內容，給通過反向工程獲取布圖設計提供了現實可能性。

《條例》第23 條第2 款規定“在依據前項評價、分析受保護的布圖設計的基礎上，創作出具有獨創性的布圖設計的”可以不經權利人許可，不支付報酬。該條款即是布圖設計中的反向工程條款?；诩呻娐凡紙D設計的特點，其前期開發需要投入較大成本，但一旦登記公開之后，第三人利用反向工程技術進行研究利用的成本非常低，將不利于促進布圖設計的創新研發。但一刀切的禁止反向工程并不利于在現有布圖設計的基礎上進行進一步的創新研發，最佳的路徑即是提高第三人通過反向工程使用布圖設計的成本，在實現創新的基礎排除該反向工程的侵權性。此種制度設計在專利法律制度中存在類似情況，即從屬專利強制許可。"當然著作權法上的演繹行為，演繹創作者對演繹作品享有著作權也具有類似的立法考量。

然而，針對布圖設計合法反向工程的認定標準并不清晰。根據《條例》的規定，需要在原權利布圖設計基礎上，創作出具有獨創性的布圖設計的行為才能認定為合法反向工程，但此處獨創性的判斷問題缺乏客觀標準。此處的獨創性標準要求若過高，將阻礙社會公眾對布圖設計的利用，若標準過低則不利于對布圖設計的保護，有礙鼓勵創新的立法目的。對此需要在公共利益和個人利益之間尋找一個恰當的平衡點。本文認為，反向工程的獨創性要求與布圖設計專有權利取得要件中的獨創性要求一致，即只要布圖設計的部分或全部內容在功能性上具有創新性，且此種創新不是簡單的常規設計，即可滿足獨創性要求。在具體案件中，被控侵權人反向工程抗辯能否成立，應當對行為人主張不同于原有布圖設計的部分進行分析，判定其是否具備創造性同時也不屬于常規設計，并以該不同之處能否達到獲得布圖設計專有權授權標準為判斷基準。

2. 商業使用權范圍的限制

當前我國在集成電路布圖設計專有權利范圍的立法上，針對商業使用權的禁止權范圍延伸到了第三層次，即包括安裝了使用布圖設計的集成電路的產品。對該問題學術界也存在不同的觀點。本文認為，通常，權利產生的條件越苛刻，權利的效力就越強，譬如僅需達到最低限度獨創性標準即可獲得法律保護的著作權效力低于需要達到實質性特點和技術進行的專利權效力：著作權只能保護思想的表達，而專利權延及作為思想的技術方案；著作權只保護對作品本身的復制，而專利權延及到應用了該技術方案的產品等。通過前述分析我們發現布圖設計專有權在創造性方面高于著作權，但又低于專利權，在此種權利產生條件下，對布圖設計專有權的保護采取幾乎等同于專利法延及二次產品的模式是否具有合理性有待商榷。

將布圖設計直接應用于集成電路，從而制造出芯片的行為才屬于對布圖設計的使用行為，該行為理應屬于布圖設計的禁止權范圍。而將含有該布圖設計的集成電路應用于特定的產品中，該行為在法律上屬于使用行為，即對該集成電路的使用，而非直接對布圖設計的使用。直接使用布圖設計制造出的集成電路已然是可以獨立售賣的產品，賦予布圖設計專有權利人控制此種未經許可而制造、銷售的行為足以給予權利人足夠的創新回報，達到了激勵創新的立法目的。倘若布圖設計專有權利人的禁止權還可以延伸至使用了前述集成電路的產品，無異于將權利人禁止性權利之手往前伸展了一大步，權利人在實踐中既可以起訴集成電路制造者侵權，亦可同時起訴使用該集成電路制造其他產品的制造者侵權，以此獲得的賠償金已經遠超過其創新投入應得的回報（在計算利用該布圖設計制造集成電路的侵權行為中，已經通過計算集成電路制造者銷售額等情況得出了賠償金，后又通過計算第三層次產品的銷售額計算了賠償金）。且在針對第三層次產品侵權中，賠償金額的判斷上，是否需要參考專利法律制度中的“專利貢獻率”問題來計算該集成電路在產品中的貢獻率，這給原本就疑難復雜的集成電路布圖設計專有權侵權案件增添了新的難度。基于此，本文主張對布圖設計專有權的商業使用權能范圍應當進行一定的限制，僅能包括第一、第二層次，即禁止將受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路投入商業使用。

五、結語

集成電路布圖設計專有權作為知識產權法律體系中的新成員，從《華盛頓條約》至今，該知識產權客體的法律保護機制建立也不過短短30 多年，我國針對布圖設計的法律保護至今亦不過20 年，且僅有行政法規作為最高位階的法律依據。但集成電路布圖設計與集成電路的發展緊密相關，在芯片產業高速發展的時代背景下，進一步完善布圖設計的法律保護機制迫在眉睫。在探究布圖設計專有權保護制度完善時，需要結合著作權法、專利法的保護模式分析，探析布圖設計專有權與著作權、專利權保護模式的異同，以此更好地理解布圖設計專有權的獲權要件、禁止權范圍以及侵權判定等核心要件。此外，一味的強調強化布圖設計保護并非促進產業發展的正確之道，知識產權制度的根本目的在于促進創新和知識的傳播，在知識產品的傳播和使用過程中，進行利益平衡以此促進知識產品的生產和流通所產生的社會效用的最大化是知識產權制度追求的最終目標。在探究強化保護的同時，亦不能忽視布圖設計專有權權利限制機制的完善，應當圍繞適當且有效的法律手段在強化保護與權利限制同步推進的路徑中探索最佳的利益平衡點，在不斷深化認識的過程中探索促進集成電路產業發展的更優保護路徑。