
摘要:集成電路產業對國家經濟、科技發展具有重要的戰略意義,實證數據顯示近些年來我國集成電路產業發展迅猛,但集成電路布圖設計的行政管理制度還存在受理登記、確權、行政執法、政策引導扶持等方面的問題,現行制度設計無法滿足當前嚴格知識產權保護的迫切需要,也難以發揮促進集成電路產業高質量發展的作用。為提升集成電路布圖設計的管理效能,從優化受理登記制度、建立無效宣告制度、提高行政執法效率和增強政策引導扶持作用等方面提出對策建議。
關鍵詞:集成電路布圖設計;行政管理;制度完善
一、引言
集成電路產業是引領新一輪科技革命的關鍵力量,也是大數據、云計算、人工智能、區塊鏈等新技術新業態發展的重要基礎。自2014年《國家集成電路產業發展推進綱要》發布以來,在政府政策扶持和市場需求拉動的雙重作用下,我國集成電路產業獲得了長足發展。但不可否認的是,我國芯片的自給率依然很低,大部分芯片尤其是高端芯片還存在嚴重依賴進口的問題。"近些年來,美國還不斷加大對我國芯片的封鎖力度,發布多項芯片禁令限制向我國出售先進半導體和芯片制造設備,阻止我國獲得關鍵芯片技術,通過實施《2022 年芯片與科學法案》擾亂全球芯片供應鏈,極力遏制我國集成電路產業發展。"面對復雜嚴峻的國際形勢和促進經濟高質量發展的迫切要求,我國亟需提高集成電路產業的創新水平和發展質量,盡快突破集成電路設計、制造等領域的“卡脖子”關鍵核心技術。
2020 年8 月國務院出臺《新時期促進集成電路產業和軟件產業高質量發展的若干政策》(以下簡稱《若干政策》),在財稅、研發、知識產權、市場應用等方面提出一系列大力優化集成電路產業發展環境的政策措施。2021 年9 月,中共中央、國務院印發《知識產權強國建設綱要(2021 - 2035 年)》,明確指出要構建職責統一、科學規范、服務優良的知識產權管理體制,不斷加強機構建設,提升管理效能。集成電路布圖設計專有權(以下簡稱“布圖設計權”)是集成電路產業特有的知識產權,對其進行有效保護是新時期促進集成電路產業高質量發展的重要舉措,對其進行高效管理也是建設知識產權強國的題中應有之義。鑒于此,筆者從行政管理的角度分析當前集成電路布圖設計在受理登記、確權、行政執法、政策引導扶持等方面存在的不足,并針對性地提出完善集成電路布圖設計行政管理制度的對策建議,以期能夠提升集成電路布圖設計的管理效能,優化集成電路產業的發展環境。
二、集成電路布圖設計行政管理現狀
(一)集成電路布圖設計行政管理的法律依據
最早對集成電路知識產權保護作出系統、全面規定的國際條約是1989 年世界知識產權組織通過的《關于集成電路知識產權的華盛頓條約》。1994 年世界貿易組織引入該條約的相關條款,在《與貿易有關的知識產權協定》第二部分第六節明確了集成電路布圖設計這一獨立的知識產權客體,并對其保護范圍、期限等作出了具體規定,這也是當前關于集成電路布圖設計保護的唯一有效國際約定。
為了履行保護集成電路布圖設計知識產權的國際義務和更好地保護我國集成電路產業的知識產權,我國在2001 年3 月完成了《集成電路布圖設計保護條例》(以下簡稱《條例》)的制定,這也是迄今為止我國對集成電路布圖設計進行保護的位階最高的法律規范。2001 年9月和11 月,國家知識產權局對《條例》的相關規定進行細化,陸續發布《集成電路布圖設計保護條例實施細則》(以下簡稱《實施細則》)和《集成電路布圖設計行政執法辦法》(以下簡稱《執法辦法》)兩部部門規章。2018 年國家機構改革后,國家知識產權局成為國家市場監督管理總局管理的國家局,雖然不能制定部門規章,但其于2019 年4 月以指南的形式發布了《集成電路布圖設計審查與執法指南(試行)》(以下簡稱《審查與執法指南》)。
目前,國家知識產權局管理集成電路布圖設計的主要法律依據就是上述的《條例》《實施細則》和《執法辦法》。《審查與執法指南》作為行政規范性文件,也是國家知識產權局開展集成電路布圖設計登記申請審查及專有權管理相關工作的重要參考依據。
(二)集成電路布圖設計的登記申請及授權確權狀況
自2001 年《條例》施行以來,截至2022年底,國家知識產權局共受理集成電路布圖設計登記申請80,644 件,發證61,062 件,筆者根據國家知識產權局公布的歷年知識產權統計年報整理了2017 年至2022 年集成電路布圖設計登記申請量和登記發證量的具體數據,如表1所示。
根據表1 可知, 除2022 年出現回落外,2017 年―2021 年集成電路布圖設計的登記申請量和登記發證量都呈現快速增長的趨勢。就登記申請量來看,2019 年的增長速度最快,2021年同比增長率為41.6%,登記申請量超過2 萬件;就登記發證量來說,2020 年的同比增長率最高,為77.3%,登記發證量達到11,727 件。可以預計,在國家愈發重視集成電路產業發展的政策背景下,集成電路布圖設計的登記申請量和登記發證量還將繼續保持高位運行態勢。
中國半導體行業協會和上海硅知識產權交易中心聯合編寫的《中國集成電路產業知識產權年度報告》顯示,國內布圖設計權主要集中于廣東、江蘇、上海、北京、浙江和安徽等地,2018 年至2020 年排名前三位的省份始終是廣東、江蘇和上海,這三個地區每年的布圖設計權累計數量均占全國數量的一半以上,其中2020 年約占全國數量的三分之二。
申請人若不服國家知識產權局駁回其集成電路布圖設計登記申請的決定,可以在法定期限內請求復審;國家知識產權局也可以依職權撤銷已經公告授權但不符合《條例》有關規定的布圖設計權。從國家知識產權局專利局復審和無效審理部公告的集成電路布圖設計審查決定可知,截至2022 年4 月總共只有10 件撤銷案件的審查決定,其中6 件維持專有權有效、3件撤銷專有權,1 件撤銷程序終止。
(三)集成電路布圖設計侵權糾紛的行政處理現狀
當前,通過反向工程對模擬芯片和中小規模數字芯片進行復制侵權的現象較為普遍,芯片的抄襲者在極短的時間內就可以輕松盜取他人投入高昂研發成本所獲得的包括集成電路布圖設計在內的創新成果,嚴重擾亂了正常的市場競爭秩序,破壞了國家集成電路產業的發展環境。"雖然根據《條例》規定,國家知識產權局享有布圖設計權侵權糾紛的行政裁決權,在認定侵權行為成立的前提下還可依當事人申請調解賠償數額,但自《條例》施行以來,國家知識產權局直到2018 年才辦結首起布圖設計權侵權糾紛案件?無錫新硅微電子有限公司請求處理南京日新科技有限公司侵犯其BS.155508385 號布圖設計權一案,2019 年也僅辦結兩起布圖設計權侵權糾紛案件。
顯而易見,不管是保持高位運行的集成電路布圖設計登記申請量、登記發證量,還是現實中大量存在的集成電路布圖設計復制侵權現象,都與國家知識產權局辦理的布圖設計權侵權糾紛案件量之間形成了強烈反差。
三、集成電路布圖設計行政管理制度存在的問題
結合集成電路布圖設計相關法律規范和前述集成電路布圖設計行政管理的現狀,筆者認為現行集成電路布圖設計行政管理制度存在如下問題。
(一)受理登記制度存在缺陷
1. 受理窗口設置不夠科學
國家知識產權局在2014 年開通了集成電路布圖設計電子申請平臺,申請人可以通過集成電路布圖設計電子申請系統以電子文件形式向國家知識產權局提出登記申請,國家知識產權局也通過該系統向申請人發送各種通知書和決定書。
但集成電路布圖設計登記申請業務的專業性非常強,很多企業對具體的業務辦理還存在很多疑問,雖然國家知識產權局提供了一個對外咨詢電話,但面對每年萬余件的登記申請量,一個電話顯然很難滿足公眾的咨詢需求。
國家知識產權局在全國主要城市設有30 多家專利代辦處及分理處,近年來為響應國家深入推進“放管服”改革的號召,國家知識產權局也積極部署在部分專利代辦處如南京代辦處開展集成電路布圖設計相關業務。但集成電路布圖設計畢竟是與專利不同的知識產權,公眾很難將二者聯系起來,一般不會想到在專利代辦處可以辦理集成電路布圖設計相關業務,專利代辦處工作人員對集成電路布圖設計的業務也相對陌生,一般很難解答較為專業的業務問題。因此,將集成電路布圖設計相關業務延伸到各地的專利代辦處對于提高集成電路布圖設計的管理效能作用有限。
2. 提交的復制件或圖樣模糊不清
根據《條例》及《實施細則》的規定,申請人申請集成電路布圖設計登記,必須提交布圖設計的紙質復制件或圖樣,且該紙質復制件或圖樣須放大到用該布圖設計生產的集成電路的二十倍以上,申請人可自愿提交該復制件或圖樣的電子版本,布圖設計在申請日前已投入商用的,申請人還須提交相應的集成電路樣品。布圖設計登記公告后,公眾可請求查閱該布圖設計的復制件或圖樣。
由于集成電路產業是當代技術更新最快的產業之一,以往放大幾十倍的紙質復制件或圖樣已無法清晰、完整地展示集成電路內部的細節,以0.35 微米工藝制程為例,至少要放大1,000 倍才可能看清集成電路內部的具體細節,更何況我國當前的集成電路設計水平已進入28納米及以下工藝制程時代。因此,讓申請人在申請登記時提交一個放大倍數足夠清楚完整地展示集成電路內部細節的紙質復制件或圖樣并不現實。在實踐中申請人提交的紙質復制件或圖樣呈現的版圖,常常不能清晰地展示布圖設計的全部細節。既給相關部門辦案帶來難以進行準確的侵權比對的困惑,影響辦案效率,又無法讓公眾清晰了解已登記公告的布圖設計的內容,影響公眾借鑒他人的布圖設計進行技術改進和創新。
(二)確權制度不夠健全
根據《條例》規定,國家知識產權局受理全國的集成電路布圖設計登記申請,經初步審查沒有駁回理由的即由國家知識產權局登記并公告,這種審查實質上是一種形式審查,優點是集成電路布圖設計申請能夠快速得到授權,缺點是權利的穩定性不強,有時會產生權利人無法主張其布圖設計權的后果,如在江蘇法院審理的原告昂寶電子公司訴被告南京智浦芯聯電子科技公司侵犯布圖設計權糾紛案中,法院最終以昂寶電子公司未提交完整的集成電路布圖設計復制件或圖樣為由,不支持其訴訟請求。
我國對實用新型、外觀設計專利申請采取形式審查,但從理論上來說,對專利新穎性的檢索不可能窮盡所有的現有技術,對專利創造性的判斷也會因審查員主觀判斷的不同而產生不同的結論,部分專利申請被錯誤授權也是不可避免的。"因此,我國在專利制度中專門設計了專利無效宣告制度?任何單位和個人認為某項專利不符合授予專利權的條件的,都可請求國家知識產權局宣告該項專利權無效。公眾可以借助專利無效宣告制度糾正對錯誤授權引起的“專利權人”對公共資源的獨占,實質上是對公共利益的救濟。
但對于同樣采取形式審查的集成電路布圖設計登記申請,其在糾正錯誤授權的制度設計上卻不夠健全。根據《條例》規定,對于集成電路布圖設計登記申請的審查,沒有無效宣告制度,只有所謂的主動撤銷制度,即國家知識產權局應當撤銷其“發現”的已經登記但實際上不符合授權條件的布圖設計權,但這種撤銷程序是一種依職權的行政行為,對行政機關的主動性要求較高,在行政資源有限的情況下并不具備可行性。即使公眾以“撤銷意見提出人”的身份向國家知識產權局提出撤銷意見,由于不是法定的程序,國家知識產權局也不必然會啟動撤銷審查程序,而且,當國家知識產權局作出不啟動撤銷審查程序的決定時,“撤銷意見提出人”也無法對該決定提起行政訴訟。在實踐中,首例撤銷案件由深圳富恒達科技公司在2006 年3 月向原國家知識產權局專利復審委員會提出撤銷意見而“啟動”,該公司認為深圳富享微電子公司關于IC FS9932 的05500149.1 號布圖設計權因在登記申請日兩年前已投入商用而應予撤銷。此后,撤銷案件也偶有發生,但最終作出審查決定的案件也僅十余起,對錯誤授權的布圖設計權的糾錯和補救作用甚微,不利于集成電路布圖設計整體質量的提升,從本質上看不能實現專有權人私人利益和社會公共利益之間的利益平衡。
(三)行政執法效能不高
1. 執法主體單一
目前,國家知識產權局是我國唯一能夠處理布圖設計權侵權糾紛的行政機關,具體工作由其內設的集成電路布圖設計行政執法委員會負責,該委員會雖然是國家知識產權局的常設機構,但委員會委員均為兼職人員,主要來自知識產權保護司、條法司和專利局的復審和無效審理部、電學發明審查部等部門,委員會委員都需要處理原部門的日常本職工作,很難保證有充足的時間、精力處理隨時可能發生的布圖設計權侵權糾紛。但是,根據行政執法的相關要求,國家知識產權局處理任何一起案件都需要至少兩名工作人員開展現場調查取證等工作,對于可能在全國各地發生的侵權糾紛來說,辦案無疑需要投入大量的人力、物力和財力,本身就很緊張的行政資源就更難滿足辦案需求。
雖然根據《執法辦法》的規定,國家知識產權局可以要求省級知識產權管理部門協助調查取證,但協助調查取證并不意味著國家知識產權局可以將執法權授權給省級知識產權管理部門或委托其開展執法工作,對提高國家知識產權局辦案效率的意義不大。因此,現行集成電路布圖設計行政執法的主體過于單一,執法資源十分有限,不利于行政管理效率的提升,也不利于遭遇侵權糾紛的專有權人通過行政途徑維權。
2. 辦案期限不明確
國家知識產權局2018 年辦結的首起布圖設計權侵權糾紛案件從2017 年9 月12 日受理到2018 年8 月16 日辦結,除去中途鑒定的5 個半月時間,實際辦案時間在6 個半月左右,2019年辦結的蘇州賽芯電子科技有限公司請求國家知識產權局處理成都蕊源半導體科技有限公司侵犯其布圖設計權案件從2019 年7 月17 日受理到2019 年12 月27 日辦結,實際辦案時間接近5 個半月。
雖然目前《執法辦法》對國家知識產權局處理布圖設計權侵權糾紛沒有規定明確的辦案期限,但就國家知識產權局處理的兩起布圖設計權侵權糾紛案件來看,辦案期限與專利侵權糾紛“3 個月+1 個月”法定處理期限相比,還有進一步縮短的空間。而且《執法辦法》中對布圖設計權侵權糾紛受理后應當多長時間內立案也沒有明確規定,這也在一定程度上影響了布圖設計權侵權糾紛的行政處理效率,不利于當前國家知識產權“快保護”政策的有效落實。
3. 行政制裁力度有限
根據前期調研發現,集成電路企業了解國家知識產權局享有布圖設計權侵權糾紛行政裁決權,但企業并不采取或不優先采取請求國家知識產權局對糾紛進行行政裁決的維權方法。原因之一是企業距離地處北京的國家知識產權局較遠,請求行政裁決的成本較高;更重要的原因是,根據《條例》的規定,國家知識產權局即使認定侵權行為成立,最多只能沒收、銷毀侵權產品,對于侵權尤其是故意侵權、重復侵權的侵權人的制裁力度有限,行政保護的效果不大。
所以,在實際的維權過程中,企業更傾向于向公安機關控告以達到追究侵權人刑事責任的目的,如在門洪志、葉威等假冒注冊商標罪一案中,被告人通過反向工程手段獲取集成電路企業江蘇沁恒股份有限公司芯片的集成電路布圖設計,委托外包廠家加工生產后投放市場銷售。"被告人的行為其實分別侵犯了該企業的布圖設計權、計算機軟件著作權、商標權等多種知識產權,但該企業基于維權效果考慮,最希望其知識產權得到刑事保護,民事保護次之,最后才是行政保護。
因此,目前對侵犯布圖設計權行為的行政制裁力度無法滿足創新主體對其布圖設計權行政保護的需求,也不符合當前國家知識產權“嚴保護”的政策導向。
(四)政策引導扶持作用不明顯
1. 數據資源庫支持政策缺失
根據《條例》規定,國家知識產權局定期對布圖設計權登記及撤銷、轉讓等相關事務進行公告,但在其官方網站上的公告僅簡單羅列布圖設計名稱及類別、登記號、申請日、權利人等信息,公眾也可以請求查閱已公告授權的布圖設計的復制件或圖樣的紙件。與國家知識產權局目前較為完善的專利數據資源庫相比,集成電路布圖設計數據資源庫處于尚未建立的狀態,公眾無法像查詢專利數據一樣方便地獲取布圖設計數據資源信息,更無法開展布圖設計檢索、分析以及大數據關聯信息研究;在侵犯布圖設計權糾紛案件的處理中,司法鑒定機構無法通過檢索某一布圖設計的數據資源庫而進行獨創性分析和技術鑒定,只能依賴于原被告雙方的說明以及相應舉證情況進行技術事實分析及判斷,其作出的司法鑒定意見的準確性難以保證。"而國家及地方知識產權管理部門目前尚無推動建立集成電路布圖設計數據資源庫的相關規劃及政策措施。
2. 促進轉化運用的政策較少
自《國家集成電路產業發展推進綱要》發布以來,各項集成電路產業利好政策相繼出臺,如2017 年4 月上海出臺《關于本市進一步鼓勵軟件產業和集成電路產業發展的若干政策》,對集成電路產業給予投資融資、企業培育、研發、人才、知識產權等各項政策支持,2021 年8 月四川天府新區出臺《四川天府新區成都直管區鼓勵知識產權創造保護和運用若干政策》,對新獲得布圖設計權的企事業單位給予每件不超過3,000 元的資助。但政府出臺的各項政策主要集中于集成電路布圖設計的創造和保護,與專利的創造、保護、運用等一系列配套政策相比,涉及布圖設計權的轉讓、許可以及質押融資等的政策較少,我國也鮮有布圖設計權轉讓、許可的案例,布圖設計權的轉化運用有待政府部門通過政策來促進。
四、完善集成電路布圖設計行政管理制度的對策建議
2001 年至今集成電路產業已發生了巨大變化,集成度不斷提高,"功耗不斷降低,體積也不斷縮小,二十多年前制定的《條例》《實施細則》等法律規范及現行的配套管理措施已經無法適應當前集成電路產業創新發展的迫切要求。針對現行集成電路布圖設計行政管理制度存在的問題,筆者提出如下幾點對策建議。
(一)優化受理登記制度
1. 優化受理窗口設置
集成電路產業是高科技產業,從事集成電路設計的企業一般是具備通過集成電路布圖設計電子申請平臺提交布圖設計登記申請能力的,但考慮到該業務的專業性很強,為了給公眾提供更好的咨詢服務,解答公眾申請之前的相關業務問題,國家知識產權局除了提供對外的業務咨詢電話之外,還有必要將咨詢服務延伸到全國主要城市,且咨詢方式不限于電話咨詢和當面咨詢。
國家知識產權局從2016 年開始在全國主要城市布局建設國家級知識產權保護中心,截至2022 年底,已經有60 余家知識產權保護中心獲批建設或正式運行,作為直接接受國家知識產權局業務指導的公益性知識產權服務機構,知識產權保護中心具有開展集成電路布圖設計業務工作的天然優勢,且根據國家知識產權局建設知識產權保護中心的相關要求,中心工作人員大多具備碩士研究生及以上學歷,有能力在短時間內熟悉集成電路布圖設計的業務知識,及時開展相關業務工作,給創新主體申請集成電路布圖設計登記提供業務指導和幫助,也方便有紙件申請需求的創新主體提交集成電路布圖設計登記申請。
2. 增加登記申請需要提交的要件
如前所述,傳統意義上放大幾十倍的紙質復制件或圖樣無法清晰、完整地展示集成電路內部的細節,《實施細則》第十四條中關于紙件須放大到用該布圖設計生產的集成電路的二十倍以上的規定并沒有實際意義。按照當前集成電路的設計水平,紙質復制件或圖樣至少需要放大到千倍甚至萬倍以上才可能看清集成電路內部的具體細節,但這樣的要求對于申請人申請登記來說缺乏可行性。
GDS 文件可以清楚完整地呈現集成電路內部的層次、布局布線等具體信息,是比較理想的確定布圖設計權權利基礎的電子文件之一,建議將《實施細則》第十四條中關于申請人可以提交紙質復制件或圖樣的電子版本改為必須提交電子版本,電子版本的文件可以是GDS 文件或其它文件,只要能夠清楚完整地呈現集成電路內部布圖設計的具體細節即可。"這樣既符合布圖設計權登記的立法本意,又明確了布圖設計權的權利邊界,有利于充分保障專有權人的利益,也有利于相關部門辦理案件時準確地進行侵權比對。
(二)建立無效宣告制度
美國、韓國、日本等國都在其法律中規定了類似布圖設計權的撤銷程序,其中韓國關于“無效程序”的規定較為全面,韓國在其《半導體布圖設計法》中明確了專有權無效宣告請求的受理、審查、處理決定公布以及不服無效宣告請求處理決定的救濟等程序。"我國有必要借鑒韓國半導體布圖設計“無效程序”的做法對現行的集成電路布圖設計確權制度進行完善,主要理由如下:
第一,可以保障專有權人私人利益和社會公共利益之間的平衡。
近年來,集成電路布圖設計登記申請量每年數以萬計,要求國家知識產權局自行、主動地確認每一項已登記的集成電路布圖設計是否沒有駁回理由顯然是不現實的。因此,完善的糾錯和補救程序對于實行形式審查制度的集成電路布圖設計必不可少。
但對于“撤銷意見提出人”來說,集成電路布圖設計依職權的撤銷程序既沒有在法律上確立其提出異議的主體地位,又不能保障其進一步提起行政訴訟的權利,顯然無法充分調動其提出異議的積極性。為了最大程度地尋求專有權人私人利益和社會公共利益之間的平衡,保障公眾提出異議的權利,發揮社會對已授權的布圖設計權的監督作用,盡量避免在相關糾紛行政或司法處理程序中因專有權權利穩定性問題影響糾紛處理效率,建立布圖設計權無效宣告制度是值得考慮的途徑。
第二,可以提高集成電路布圖設計進入“實質”審查程序后的質量集成電路產業是高度技術密集型產業,集成電路布圖設計技術更新迭代步伐快,當前我國的集成電路設計水平已普遍進入28 納米及以下工藝制程時代,如果要對電路中每個元件或功能單元的位置擺放、電源線、地線及信號線走向進行實質分析,除了要對集成電路布圖設計的圖樣進行數個數量級倍數的放大之外,可能還需要借助先進設備和專用EDA 技術對集成電路本身進行技術分析,而這對于國家知識產權局來說并不現實。"據筆者了解,迄今為止也沒有國家知識產權局主動“發現”并撤銷布圖設計權的案例。
但通過布圖設計權無效宣告制度,可以借助無效宣告請求人的舉證及與專有權人之間在口頭審理中辯論來彌補國家知識產權局對于集成電路布圖設計技術審查上的不足,從而對某一項集成電路布圖設計是否具有獨創性作出更加準確的判斷,這種根據雙方當事人舉證及陳述意見來判斷涉案布圖設計權是否具有獨創性的做法也有利于平衡各方利益,促進我國集成電路布圖設計產業發展。
(三)提高行政執法效能
1. 賦予省級知識產權管理部門執法職權
為了提高行政執法效率和給權利人維權提供便利,筆者建議參照專利法實施細則的相關規定,將處理布圖設計權侵權糾紛的職權拓展至省級知識產權管理部門,國家知識產權局則對省級知識產權管理部門進行業務指導,并可以對行為發生地涉及兩個以上省、自治區、直轄市的重大案件或在全國范圍內有重大影響的案件進行處理。或者至少可以先在集成電路產業聚集度較高和綜合技術水平較先進的廣東、江蘇、上海等地做試點,將處理布圖設計權侵權糾紛的職權賦予這些布圖設計權數量大、知識產權糾紛實際處理能力強的省級知識產權管理部門。
而且,考慮到近年來上海、廣州、深圳、南京等地知識產權法院或中級人民法院積累了不少處理侵害布圖設計權糾紛案件的經驗,即使當事人不服省級知識產權管理部門作出的布圖設計權侵權糾紛行政處理決定,也可以向地方知識產權法院或中級人民法院提起行政訴訟,法院有能力和經驗處理集成電路布圖設計行政糾紛。因此,賦予省級知識產權管理部門行政執法職權也具備較強的可行性。
2. 明確行政處理侵權糾紛的辦案期限
國家知識產權局在2015 年對《專利行政執法辦法》進行修改時,縮短了處理專利侵權糾紛的辦案期限,由原先的自立案之日起4 個月內結案縮短為3 個月內結案,復雜案件可再延期1 個月。
布圖設計權與專利權相類似,都是專業性較強且最具技術含量的知識產權,為了順應國家知識產權“快保護”政策導向,充分發揮行政處理程序簡單、處理快捷的突出優勢,建議參照《專利行政執法辦法》中關于處理專利侵權糾紛期限的規定,在《執法辦法》中明確規定處理布圖設計權侵權糾紛的期限,如布圖設計權侵權糾紛應當自立案之日起3 個月內結案,案件特別復雜的,經批準可以延長1 個月。當然,這里的辦案期限不包含公告、鑒定、中止等時間。
同時,建議將《執法辦法》第八條中較為原則的“及時立案”的規定修改為明確的時間期限,如參照《專利行政執法辦法》的規定修改為自收到請求書之日起5 個工作日內立案。
3. 加強對侵權人的行政制裁力度
由于集成電路行業的特殊性,一般來說集成電路產品即芯片的單價很低,如在門洪志、葉威等假冒注冊商標罪一案中,侵權人通過反向工程獲取的江蘇沁恒股份有限公司的集成電路產品CH340 芯片的單價僅為人民幣一到兩元。所以,除非集成電路產品的數量特別大,一般情況下僅僅責令侵權人停止侵權,沒收、銷毀被查獲的芯片,對于侵權人來說并沒有太大的損失,相對于高額違法所得來說,這種制裁手段不能產生較好的震懾作用,更不能保證惡意侵權人不會轉移到其他秘密地點或改頭換面注冊新的公司繼續實施侵權行為。
《若干政策》中指出,要加強集成電路知識產權保護,加大對知識產權侵權違法行為的懲處。筆者建議對《條例》進行修改,對知識產權管理部門認定侵犯他人布圖設計權行為成立的,除可以責令停止侵權,沒收、銷毀侵權產品或物品外,還可以沒收、銷毀用于制造侵權產品或物品的離子注入機、化學機械拋光機等生產制造設備,大幅提高侵權人的違法成本。對于重復實施侵犯他人布圖設計權行為的,可以并處違法經營額一定倍數的罰款,比如參照商標法的相關規定,當違法經營額在五萬元以上時,處違法經營額五倍以下罰款,沒有違法經營額或違法經營額不足五萬元的,處二十五萬元以下罰款。
(四)增強政策引導扶持作用
1. 支持相關數據資源庫建設
為了方便公眾的查閱和后續集成電路布圖設計相關糾紛的處理,國家知識產權局應布局建設集成電路布圖設計的檢索資源庫,整合布圖設計的名稱,結構、技術及功能,布圖設計申請人、權利人、創作人,申請日期、創作完成日期和法律狀態等各類數據。地方知識產權管理部門也應出臺相關數據庫建設扶持政策,鼓勵數據服務機構通過申請人、權利人、創作人等字段實現多維度集成電路布圖設計、集成電路相關專利、商標等大數據串聯,推進包括集成電路布圖設計在內的集成電路知識產權大數據檢索分析、綜合服務和智慧管理,以便給創新主體、社會公眾等提供一站式的集成電路知識產權數據信息服務。
2. 出臺促進轉化運用政策
政府要加大對高校、科研院所開展集成電路技術研發的支持力度,并鼓勵其與企業、科技中介機構等開展更深入的合作,以集成電路關鍵核心技術研發項目為依托形成一體化的產學研合作聯盟。18 同時,整合知識產權運營服務和技術交易資源,匯聚集成電路布圖設計、專利、商標和計算機軟件著作權等知識產權數據,從項目、資金等方面支持集成電路產業知識產權轉化服務平臺建設,凝聚一批知識產權服務機構、運營人才、技術經理人團隊,構建集成電路產業知識產權轉化服務網絡;另外,可探索參照專利的開放許可制度,鼓勵權利人主動公布布圖設計權許可費標準、支付方式等信息,促進布圖設計權的轉化。