太赫茲頻域內反鐵磁體薄膜中的和頻生成

【摘 要】在反鐵磁體的超晶格結構下，和頻的反射率光譜和透射率光譜將會被討論。被應用在一些幾何學中，其各項異性軸和外部靜電場與薄膜表面積和正常入射都平行。結果表明反射光譜和透射光譜取決于入射角和反鐵磁體的厚度。

【關鍵詞】和頻；反射；透射；超晶格

1.引言

近幾年，典型的非線性反鐵磁材料被附于巨大的重示，因為其共振頻率在太赫茲頻域范圍內，一些人申請研究太赫茲波。大多數的非線性光學及非線性材料導致了電極化強度材料及電氣元件電磁波的非線性響應。然而有強磁力的非線性光學來自于他們非線性磁場分量的電磁波。某些層獲得的非線性響應較弱，并存在于外部的磁性范圍，所以他們可以合理的適用于各種各樣的反鐵磁結構及幾何圖形。基于這些結果，在這篇論文中反射光譜與透射光譜將會被討論在反鐵磁體超晶格結構中。

2.理論模型和推導

幾何圖形使用論文中的Figt1，反鐵磁體的厚度與介電常數分別為da和εa。我們使用Voight位型下的外部靜電場Hl0，反鐵磁體的各項異性軸平行于薄膜表面和Z軸。Il0，Rl0和Tl0分別表示入射，反射，透射光譜。入射角為θ1θ2透射角為θ1'θ2'θn'。兩個光波同時入射到介質表面，頻率分別是ω1，ω2。

在線性情況下電場強度在各層間的表達式為：

我們討論了非線性反鐵磁體超晶格結構在鄰近共振頻率范圍內的反射率和透射率，其結果表明反射率與透射率可能取決于入射角度跟反鐵磁體的厚度。

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