不同濃度的氫氟酸對(duì)氧化鋯粘接強(qiáng)度的影響

魏萌 朱紅 梁琢然 蔣玉琳 陳劍鋒

中圖分類號(hào):R783.1 文獻(xiàn)標(biāo)志碼：A doi:10.3969/j.issn.1001-3733.2021.06.006

近年來(lái)，口腔修復(fù)逐漸向微創(chuàng)、美學(xué)方向發(fā)展，具有優(yōu)異性能的釔穩(wěn)定四方相氧化鋯吸引了較多醫(yī)生和患者的關(guān)注。但其不是硅基陶瓷，難以被酸蝕。如何對(duì)氧化鋯進(jìn)行表面處理并不改變抗折強(qiáng)度是現(xiàn)階段的研究熱點(diǎn)。本實(shí)驗(yàn)選用牙科常見的氫氟酸，以愛爾創(chuàng)和威蘭德氧化鋯作為研究對(duì)象，旨在探究適宜的表面處理方式。

1 材料與方法

1.1 材料與儀器

愛爾創(chuàng)氧化鋯(深圳愛爾創(chuàng)口腔技術(shù)有限公司)；威蘭德氧化鋯(Zenostar?，威蘭德，德國(guó))；集熱式恒溫磁力攪拌器(HWCL-3，鄭州長(zhǎng)城科工貿(mào)有限公司)；氫氟酸(上海阿拉丁試劑有限公司)；Panavia F樹脂粘接劑(Kuraray，日本)；掃描電子顯微鏡(SUPRA 55 SAPPHIRE，卡爾蔡司，德國(guó))；X射線衍射儀(帕納科，Empyrean X，the Netherlands)；Instron3345微力試驗(yàn)機(jī)(Instron，美國(guó))。

1.2 試件的制備與處理

分別切取2 種品牌的氧化鋯塊，燒結(jié)后打磨修整出30 mm×10 mm×1 mm的試件各25 個(gè)，3 mm×3 mm×1 mm的試件各35 個(gè)，水砂紙逐級(jí)拋光后依據(jù)處理方法的不同隨機(jī)分為5 組(A-E)，愛爾創(chuàng)記為1，威蘭德記為2。A組(A1和A2)：空白對(duì)照，不處理。B組(B1和B2)：用110 μm 的氧化鋁顆粒，在0.2 MPa壓力下，距離10 mm處理20 s。C組(C1和C2)、D組(D1和D2)和E組(E1和E2)：將氧化鋯試件分別放在裝有5%、9.5%和40%氫氟酸的密閉反應(yīng)釜(大連化學(xué)物理研究所自行定制)中，置于100 ℃的恒溫磁力攪拌鍋內(nèi)，處理10 min。將處理后的各組試件放置在去離子水中超聲震蕩30 min，吹干備用。

1.3 表面形貌檢測(cè)

從各組中隨機(jī)抽取一塊3 mm×3 mm×1 mm大小的試件，掃描電鏡下放大5 000 倍觀察表面形貌。

1.4 剪切實(shí)驗(yàn)

離體牙納入標(biāo)準(zhǔn)：(1)近6 個(gè)月內(nèi)拔除的前磨牙或磨牙[1]；……