朱曉凡, 嚴(yán)國(guó)平, 鐘 飛, 黃 振
(湖北工業(yè)大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院, 湖北 武漢 430068)
電容裝箱過(guò)程中,計(jì)算機(jī)通過(guò)分析攝像機(jī)拍攝的電容圖像獲取電容的位置及角度,這一過(guò)程被稱之為特征識(shí)別和提取。圖像識(shí)別算法包括模板匹配法、相關(guān)法、幾何不變矩和投影法[1]。模板匹配法是建立一個(gè)目標(biāo)物的特征庫(kù),然后用模板遍歷被搜索圖,找出相關(guān)度最高的位置。數(shù)字圖像相關(guān)法是一種非接觸,用于全場(chǎng)形狀、變形、運(yùn)動(dòng)測(cè)量的計(jì)算機(jī)視覺(jué)技術(shù)。不變矩是根據(jù)圖像圖形特性來(lái)辨別圖像特征的一種方法,其概念由M.K.Hu在1961年首先提出[2]。Hu不變矩是圖像的一種統(tǒng)計(jì)特征,因其具有平移、旋轉(zhuǎn)與比例不變性而被廣泛應(yīng)用于圖像識(shí)別領(lǐng)域。投影法是將圖像中高維信息用低維信息來(lái)表示,能夠簡(jiǎn)單快速地提取圖像特征[3]。其中,模板匹配能夠?qū)ふ覐?fù)雜單一的特征,但是計(jì)算量大;投影法適用于簡(jiǎn)單的特征查找,計(jì)算量小;Hu不變矩計(jì)算量小,且能夠獲取多種集合特征,適用于簡(jiǎn)單物體的識(shí)別。本文采用Hu不變矩來(lái)識(shí)別電容的中心位置和傾斜角度。
電容裝箱流程分解為上料、裝盤、振平、引腳校形、開(kāi)箱、取托盤、裝箱與封箱等8個(gè)步驟[4],其機(jī)械結(jié)構(gòu)如圖1所示。
機(jī)器視覺(jué)系統(tǒng)主要由傳送帶、裝盤機(jī)器人、工業(yè)相機(jī)和計(jì)算機(jī)組成,其系統(tǒng)組成結(jié)構(gòu)如圖2所示。
電容加工完成后,從下料口散落在傳送帶上,傳送帶將電容運(yùn)送到另一端的識(shí)別區(qū),相機(jī)給電容拍照,拍攝的內(nèi)容傳遞給采集卡作處理,然后由計(jì)算機(jī)計(jì)算出電容的位置角度及針腳朝向,再將電容位置信息傳遞給機(jī)械手控制器,控制器控制機(jī)械手吸取電容到電容托盤中。排列好的電容如圖3所示。

1-電容裝箱機(jī)械手;2-儲(chǔ)料器;3-開(kāi)箱機(jī);4-電容上料皮帶; 5-電容裝盤機(jī)器人;6-電容裝盤;7-針腳梯形機(jī);8-封箱機(jī)圖 1 電容裝箱生產(chǎn)線

圖 2 視覺(jué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)

圖 3 電容托盤
電容在傳送帶的形態(tài)如圖4所示。擋板將電容約束在傳送帶中部,保證電容各部分都在拍攝范圍之中。傳送帶背部有光源,使電容與背景的區(qū)分更加明顯。

圖 4 傳送帶上的電容
為獲取單個(gè)電容在整張圖像中的位置,需要消除無(wú)關(guān)因素的干擾,同時(shí)將電容分割為獨(dú)立的部分。對(duì)電容作以下處理[5-7]:將三通道的圖像轉(zhuǎn)化為單通道的灰度圖,進(jìn)行中值濾波與二值化,腐蝕去除電容之間的粘連和針腳重疊,并將電容分割為獨(dú)立的個(gè)體,生成連通域,進(jìn)行面積選擇,并剔除不符合的區(qū)域(圖5)。

圖 5 預(yù)處理流程圖
工業(yè)相機(jī)拍攝的照片為三通道圖。該圖像不便于計(jì)算機(jī)計(jì)算(計(jì)算速度慢),所以需要將圖像灰度化,其處理公式
(1)
式中:fi,j為灰度化后(i,j)點(diǎn)的灰度值,Ri,j、Gi,j、Bi,j分別為(i,j)處紅、綠、藍(lán)分量的值。圖像背景中的噪音會(huì)影響識(shí)別效果,需要將灰度圖進(jìn)行濾波降噪處理。濾波的常用方法有均值濾波、中值濾波和高斯濾波,其濾波效果如圖6所示。

圖 6 濾波效果
由圖6可知,雖然三種濾波方式的降噪效果相同,但是中值濾波的對(duì)邊緣保留的效果最佳。
為將電容從背景中分割出來(lái),需將圖片進(jìn)行二值化,即將大于閾值的灰度值設(shè)為1,小于或等于閾值的灰度值設(shè)為0:
(2)
式中:gi,j為二值化后的值,fi,j為原灰度值,k為閾值。二值化后的圖像如圖7所示。

圖 7 電容圖像二值化
將電容從背景中分離出來(lái)之后,所有電容為一個(gè)整體,需要將單個(gè)電容分離出來(lái)。由圖7可知,電容與電容之間有重疊與粘連,不易通過(guò)連通域?qū)⑵浞蛛x,在操作之前需要對(duì)電容進(jìn)行腐蝕操作。

圖 8 腐蝕示意圖
如圖8所示,以矩形結(jié)構(gòu)元遍歷整個(gè)區(qū)域,如果結(jié)構(gòu)元與該像素點(diǎn)及周圍像素完全重合,則保留該點(diǎn),否則,拋棄該點(diǎn)。經(jīng)過(guò)腐蝕操作,區(qū)域范圍變小,邊緣回縮,電容粘連和交叉的部分被分離。電容腐蝕后的效果如圖9所示。

圖 9 腐蝕效果圖
腐蝕操作過(guò)后,電容之間連接的部分被分離開(kāi)來(lái),方便單個(gè)電容的識(shí)別。電容的針腳特征在腐蝕操作中丟失,但是可以通過(guò)電容針腳端的缺口特征來(lái)識(shí)別電容的朝向。
單個(gè)像素周圍的8個(gè)像素單元稱為八鄰域(圖10)。

圖10 八鄰域
通過(guò)遍歷所有像素點(diǎn)的八鄰域,若八鄰域中有像素點(diǎn),則認(rèn)為該點(diǎn)和中心點(diǎn)連通。遍歷所有的像素點(diǎn),并標(biāo)記所有連通域。
通過(guò)以上處理,得到圖11所示的電容區(qū)域圖,不同的區(qū)域以不同的顏色顯示。在預(yù)處理過(guò)程中,每個(gè)電容各自區(qū)域的位置被找出,求解電容的位置角度需遍歷所有電容區(qū)域,求解每個(gè)區(qū)域中電容的中心位置和傾角。

圖11 電容區(qū)域圖
由于電容針腳端有缺口,電容圖片的質(zhì)心和外接矩形的中心不重合。在抓取過(guò)程中,機(jī)器手的真空吸盤應(yīng)該吸取電容重心處。由于電容針腳有質(zhì)量,電容的重心與電容區(qū)域圖的外接矩形中心近似重合,故將電容區(qū)域圖的外接矩形中心作為抓取點(diǎn)。
(3)
式中:x、y為像素點(diǎn)的坐標(biāo);M、N為圖像的高與寬;f(x,y)為該點(diǎn)的灰度值。
圖像的零階矩代表被測(cè)對(duì)象的面積,一階矩表示被測(cè)對(duì)象的質(zhì)心,二階矩代表其方向[9]。
(4)
式中mpq為圖像的(p+q)階矩。
對(duì)于一個(gè)二值化后的圖像,式(4)可改寫為:
(5)
由上可知,m00表示為待測(cè)物體的面積,離散的圖像中心距
(6)

將式(6)進(jìn)行歸一化,得到歸一化的中心距
(7)

對(duì)其求二階矩,得到待檢測(cè)物體的偏轉(zhuǎn)角度
(8)
通過(guò)求取電容區(qū)域最小外接矩形的一階矩,獲取電容的中心位置;通過(guò)外接矩形的二階矩獲取電容的傾角;遍歷所有電容區(qū)域,可以獲得整張圖片上所有電容的中心位置和傾角。
由電容輪廓(圖12)可知,電容的針腳端有兩個(gè)小缺口,識(shí)別出缺口的方向即識(shí)別出電容針腳的方向。

圖12 電容輪廓
由于電容的針腳朝向未知,通過(guò)電容圖像的二階矩獲取電容的傾斜角度φ之后,電容旋轉(zhuǎn)至水平角度為φ或-(180°-φ)。由式(3)可知,帶缺口的電容圖像的質(zhì)心會(huì)遠(yuǎn)離缺口端。如圖13所示,將帶缺口的電容圖像旋轉(zhuǎn)φ之后至水平,分別求取電容外接矩形的中心和帶缺口圖像的質(zhì)心,會(huì)有圖13a和圖13b兩種情況,即質(zhì)心在中心左側(cè)和質(zhì)心在中心右側(cè)。若質(zhì)心在中心左側(cè),則電容的待旋轉(zhuǎn)角度為φ;若質(zhì)心在中心右側(cè),電容的待旋轉(zhuǎn)角度為-(180°-φ)。

圖13 電解電容針腳朝向識(shí)別流程
根據(jù)以上方法,編寫Halcon程序,其結(jié)果如圖14所示。本方法正確識(shí)別了所有電容的位置、角度與針腳朝向,運(yùn)行時(shí)間為748.219 ms,識(shí)別速度與精度到達(dá)工業(yè)要求。

圖14 電容位置角度識(shí)別結(jié)果
在手眼標(biāo)定之后,世界坐標(biāo)系與相機(jī)坐標(biāo)系一一映射,計(jì)算機(jī)將圖像中的坐標(biāo)值轉(zhuǎn)化為機(jī)械手的坐標(biāo)[10]。實(shí)驗(yàn)結(jié)果見(jiàn)表1,其中,旋轉(zhuǎn)角度的正負(fù)代表機(jī)械手旋轉(zhuǎn)的方向,其旋轉(zhuǎn)角度總是小于180°。
視覺(jué)系統(tǒng)識(shí)別到電容位置姿態(tài)后,機(jī)械手開(kāi)始抓取電容。電容被抓取后,相機(jī)重新拍照,計(jì)算傳送帶上電容新的位置角度,即在機(jī)械手抓取過(guò)程中,計(jì)算機(jī)計(jì)算電容位置,節(jié)省單個(gè)電容識(shí)別抓取的時(shí)間。識(shí)別抓取單個(gè)電容所需的時(shí)間平均為1 s。

表1 電容位置信息
1)運(yùn)用圖像的二階矩求解電容圖像的中心和傾角的方法精度較高,滿足工業(yè)抓取電容的要求。
2)電容針腳朝向的識(shí)別可采用模板匹配的方法,但是此方法計(jì)算量大,且穩(wěn)定性不好。但是用電容針腳端的缺口特征代替針腳,運(yùn)用電容圖像質(zhì)心與外接矩形中心的差求解針腳朝向的方法計(jì)算量小,穩(wěn)定性高,運(yùn)行時(shí)間短,縮短了單個(gè)電容抓取的時(shí)間。
3)經(jīng)實(shí)驗(yàn)測(cè)試,電容位置角度識(shí)別時(shí)間為748 ms,平均抓取時(shí)間為1 s,而人工抓取時(shí)間平均2 s。機(jī)器人抓取效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于人工。