可溶性鹽濃度影響南瓜幼苗生長和熒光響應特性

李嘉煒，陳 瀟，常靜靜，宋 釗，何裕志，張白鴿

（廣東省農業科學院蔬菜研究所，廣東省蔬菜重點實驗室，廣州 510640）

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穴盤育苗以低成本、壯根好、省工省力等優點，在現代蔬菜育苗上有著廣泛的應用[1]，但在大規模應用上，由于澆水施肥等難以避免的人為因素影響，穴盤中央與邊緣長勢相差大，邊際效應明顯[2]。穴盤育苗應用最多的基質是草炭，但這種基質為不可再生資源，過度開采會破壞生態環境[3-5]。近年來出現了可以完全去掉傳統工廠化育苗中基質使用的新育苗技術—無基質營養液育苗。該技術采用營養液栽培，使幼苗根系完全生長在營養液中[6]。這種育苗方法克服了傳統穴盤基質育苗的弊端，并且苗齊、苗壯、發育快、易調控[7]。但由于無基質營養液育苗完全改變了傳統穴盤育苗的水肥供給方式，幼苗根系直接處于營養液中，對營養液可溶性鹽濃度(EC)的要求有別于傳統育苗，因此，研究EC對無基質南瓜育苗的影響對無基質營養液南瓜育苗的應用有重要意義。研究證明，植物根系所需的最適營養液濃度并不是傳統穴盤育苗研究中的澆灌濃度，而是由根系周圍養分含量決定的[8]。傳統穴盤育苗澆灌營養液的方式，植株根際養分含量遠遠高于所澆灌的營養液濃度[9]。實驗發現，黃瓜栽培的最適澆灌營養液濃度為2.5 ms/cm，而土壤的電導率卻高達5.41 ms/cm。如今營養液栽培在蔬菜成苗后的栽培體系已經很成熟[10-14]，在南瓜栽培上的應用也有較多研究[15-16]。關于營養液濃度對基質育苗的研究也有一些[17-19]，但對于完全由營養液進行育苗的研究較少，且鮮有關于南瓜方面的研究。……