楊 樂, 張 亞
(中北大學 機電工程學院,山西 太原 030051)
目前,基于鋯鈦酸鉛(Pb-based zirconate titanate,PZT)的壓電超聲換能器在水下成像技術中占據著主導的地位。但其存在著制作二維陣列困難、成本高、帶寬小等嚴重缺陷。微制造技術的進步使得電容式微超聲換能器(capacitive micro ultrasonic transducer,CMUT)制造技術得以發展,其寬帶寬和設計靈活性已成為替代老化的PZT換能器的有力技術。此外,其與集成電路的兼容性等為CMUT的發展提供了很好的前景。CMUT的制造技術、陣列配置能力、良好的聲阻抗匹配,為工作于液體環境中的高運行效率設備提供了下一代傳感器。
超聲波換能器是水下探測和超聲成像系統的核心,本文針對CMUT的結構特點,對結構進行力電耦合分析,完成了微小敏感單元的設計。以惠更斯原理及Bridge乘積定理為依據,研究了陣元形狀、陣元大小、陣元數目及陣元間距對陣列指向性的影響,研究了CMUT陣列設計方法,測試證明該陣列具有良好的指向性并與仿真結果一致。
CMUT的振動頻率與膜的半徑與膜的厚度有關[1~5]。因為超聲波在較低的頻率上可以進行較遠的距離探測,根據以前的研究和工藝條件,設計CMUT膜的半徑和膜的厚度分別為110 μm和3.4 μm。
CMUT工作在發射模式下需要高的腔高才能獲得高的信號輸出。而CMUT工作在接收模式下換能器需要腔高度小才能獲得高電平,從而才能獲得高的靈敏度[2~4]。經過平衡考慮,確定了最佳空腔高度為1.2 μm。當CMUT頂部電極的半徑是膜的半徑的40 %~50 %時,換能器可以獲得寬頻帶,所以,頂部電極半徑為55 μm。利用高摻雜硅(Si)晶片作為襯底與電極形成歐姆接觸[5~8]。為使膜與上電極分離,防止傳感器發生短路[9~11],在頂部電極和振動膜之間添加一層二氧化硅(SiO2)絕緣層[12~14]。在CMUT中,多個相同的陣元(element)以一維或二維結構排列形成線陣或面陣[15]。Element由許多單個微小敏感單元(cell)組成,每個cell由頂部電極、振動薄膜、絕緣層、真空腔和硅襯底、底部電極組成。CMUT的cell橫截面圖如圖1(a)所示,單個Element如圖1(b)所示。

圖1 器件圖
另外,本文所設計的電容式微機械超聲波傳感器的其他結構參數為:塌陷電壓80 V,空氣中頻率2.8 MHz。
CMUT膜是絕緣體上硅(silicon on insulator,SOI)器件層硅(各向同性),方向為〈111〉,電阻率為0.001Ω.cm 。絕緣層為在鍵合之前濕氧單晶硅,氧化厚度為1 μm,襯底是500 μm厚的單晶硅,電阻率為0.001 Ω·cm,方向為〈100〉。Si具體參數為:密度為2 330 kg/m3,泊松比為0.27,楊氏模量為169 GPa;SiO2參數為密度為2 200 kg/m3,泊松比為0.17,楊氏模量為70 GPa,相對介電常數為3.9。
本文設計的CMUT工藝主要包括干法刻蝕(ICP,深硅刻蝕)、陽極鍵合、濕法腐蝕等主要工藝。利用SOI與氧化硅鍵合時,將SOI片的鍵合面與氧化硅的圖形面相對,利用氧化硅晶圓與托盤中的金屬配件將SOI片的鍵合面與金屬托盤連通,實現氧化硅與SOI片鍵合面、托盤之間的導通,進行陽極鍵合。具體工藝步驟:1)備片;2)在氧化硅的正面做圖形(2(b));3)SOI與氧化硅鍵合(如圖2(c));4)去掉SOI片襯底層(如圖2(d));5)去掉氧化片背面氧化層(如圖2(e));6)正面刻蝕硅形成隔離通道(如圖2(f));7)在氧化片背面進行離子注入(如圖2 (g));8)金屬圖形化,形成上下電極(如圖2(h))。工藝流程圖如圖2所示。

圖2 工藝流程
利用ANSYS仿真軟件建立CMUT模型,選用實體單元SOLID187,對其應力分析。對其振動膜上表面施加一個標準大氣壓,施加z方向的靜電力,從而耦合TRANS126單元,隨著靜電力的增大,薄膜受到靜電力的作用而向CMUT腔內塌陷,從而仿真得出CMUT的塌陷電壓為80 V。而本文設計的CMUT傳感器工作于沒有塌陷的模式下,可以保證傳感器的可靠性。
用ANSYS對結構進行諧響應分析,建半球模型模擬水中環境,加直流偏置電壓50 V和一個從0~5 mHz的聲壓,薄膜采用SOLID187單元,水中的環境采用SOLID163單元,腔氣隙采用TRANS126單元分析,對其進行耦合,得出其共振頻率為3 MHz,而本文所設計的傳感器在封裝后測得其頻率為2.8 MHz,造成頻率差的原因主要為封裝時所采用材料,另外,在對其進行諧響應分析時采用完全法,分析時沒有考慮預應力,導致計算結果有誤差[16]。
利用阻抗分析儀對CMUT進行C-V曲線測試,施加從-100~100 V的直流偏置電壓,頻率為2.8 MHz,得到的C-V曲線如圖3所示,從圖中可以看出,在0 V時單個傳感器的電容值最小,在80~100 V之間,電容值不發生變化,其原因為對CMUT施加80 V電壓時,CMUT發生了塌陷,從而電容值不變。

圖3 C-V測試
CMUT中每個cell膜的半徑和膜的厚度分別為110 μm和3.4 μm,初始電容值為:C=nεA/d(ε為真空介電常數,A為極板面積,d為極板間距)得到CMUT初始電容值680 pF。
利用阻抗分析儀將CMUT中上下極板連接起來,測得單個電容傳感器C-V曲線。如圖4(a)所示,重復測量單個陣元電容值,平均值680.62 pF。陣列上不同陣元電容測試如圖4(b)所示,計算得到陣列上電容平均值680 pF,誤差為0.62 pF,一致性良好。分析實際值與設計值有差距是傳感器中可能存在雜散電容值,或片內腔高、膜厚等參數存在加工誤差。

圖4 單個陣元與陣列靜態電容測試
對CMUT進行水下性能測試,在一個長5 m、寬3 m、高2 m的水槽內放滿水,將收發CMUT傳感器對準間距為5 m,固定于水槽內,利用信號發生器發射一個正弦脈沖信號,頻率為2.8 MHz,幅度為2VPP。將信號發生器輸出的正弦脈沖信號經過功率放大器,放大100倍,接上發射用CMUT,驅動其發出超聲波,從而引起接收CMUT膜的振動,引起電容值變化。利用信號采集電路將采集到的信號在上位機上顯示。超聲波在水中的傳播速率為1 480 m/s,通過計算接收信號和發射信號之間的時間差可以得到發射CMUT和接收CMUT之間的距離。利用這種測試方法測出CMUT的最大發射距離為5 m,測得的發射信號與接收信號如圖5(a)所示。把發射用CMUT換成標準傳感器,接收CMUT陣列不變,從而測出本文設計的CMUT帶寬如圖5(b)所示。

圖5 測試結果
使用阻抗分析儀提供芯片不同的頻率,從0.8 MHz逐步增加到5 MHz,再從5 MHz逐漸遞減至0.8 MHz。測試得到不同頻率下傳感器的電容值如圖6所示。分析曲線可以得到,在0.8~5 MHz頻率范圍內,電容值穩定在680 pF,傳感器固有頻率為2.8 MHz。

圖6 重復性測試
本文介紹了電容式微超聲波換能器的工作原理。由其制作的傳感器誤差小,工藝過程(采用陽極鍵合工藝)簡單,能進行量產。利用E4990A阻抗分析儀研究了CMUT的電容值隨工作頻率的變化,得出了傳感器的頻率特性。利用該儀器分析了CMUT的C-V特性,得出實際值與理論值的誤差僅為0.62 pF,說明采用這種工藝誤差非常小,特別適用于傳感器的生產。本文為CMUT結構和性能的后續研究提供了參考。