朱成俊 孫育竹
(①河南工業(yè)職業(yè)技術學院,河南 南陽 473009;②武漢理工大學機電工程學院,湖北 武漢 430070)
旋轉主軸的內(nèi)噴上水部件是光學平面研磨機床的關鍵部件,它是影響該類加工機床的平均無故障時間的關鍵因素。該類平面加工機床在運轉時,由于工作磨盤比較大(平模直徑300~450 mm),僅使用外噴的研磨液難以達到磨盤中間的部位,無法對工件進行有效的研磨和冷卻的作用,使被研磨工件形成不均勻磨削、局部溫度過高,結果就會導致工件尺寸超差甚至被燒傷而成為不合格產(chǎn)品。
為解決現(xiàn)有問題,達到預定的加工效果,人們提出了由主軸中心向工件盤上不間斷地噴射研磨液的方案。但是,研磨液中含有的高硬度研磨顆粒和研磨液本身的腐蝕性,都會對橡膠密封件直接造成損壞,大大降低它的使用壽命,直接造成泄漏、研磨液噴射不充分,并且污染環(huán)境。國內(nèi)現(xiàn)有光學平面研磨機床主軸內(nèi)噴上水密封結構的使用壽命普遍在2~5個月左右,主要問題在于密封件容易失效。出現(xiàn)故障后,需要停產(chǎn)維修,增加維修成本,影響生產(chǎn)效率。
綜上,光學平面研磨機床主軸內(nèi)噴上水密封結構設計的好壞,直接影響該類設備的精度、使用壽命和維護成本。分析研究、優(yōu)化設計新一代的主軸內(nèi)噴上水密封結構顯得尤為重要。本文分析了現(xiàn)有上水結構中密封件失效原因,提出了用柔性結構補償密封件磨損后的間隙,采用耐腐蝕的高強度金屬密封件代替橡膠密封件,以提高密封結構的使用壽命。
上世紀八九十年代直到目前,光學平面研磨設備常用圖1所示的主軸防水密封結構。該結構中,靜密封接頭2靠固定支架1和螺母3定位固定,靜密封接頭2、密封圈5、密封螺套6、骨架油封7和動密封接頭8 組成一個密封腔體。其中,密封螺套6和靜密封接頭2旋合壓緊密封圈5,骨架油封7過盈配合裝在密封螺套6內(nèi),此兩處均為靜密封配合,密封可靠,壽命長,不會泄漏;骨架油封7和動密封接頭8為動密封配合,靠油唇彈簧密封。工作時,帶輪10在電動機帶動下以一定速度旋轉,帶動主軸旋轉完成研磨削任務,研磨液在壓力下由靜密封接頭2向上流動,先經(jīng)過骨架油封7和動密封接頭8,再通過主軸中心孔流入工作區(qū)域。研磨液經(jīng)過骨架油封7時,由密封圈防止液體泄漏。本結構簡單,對零部件制造要求低,安裝方便,成本低,曾被廣泛使用。
圖1中密封結構的性能完全靠密封圈保證。由于研磨液中的研磨顆粒的沖刷及其腐蝕性,密封圈容易磨損,研磨液將會泄漏,此時可以停機調(diào)節(jié)螺母3,重新壓緊密封圈。但由于密封圈本身壽命有限,工作環(huán)境惡劣;同時,骨架油封和主軸間也有摩擦,會造成油封磨損而漏液,故該結構的可靠性較差。密封結構失效后,需停工維修頻繁,維護成本高,生產(chǎn)效率低,容易造成場地污染。在實際生產(chǎn)中,其壽命一般在1~2個月。該結構壽命不足的主要原因有:(1)密封件材質(zhì)易受研磨液腐蝕。(2)動密封接頭與油封為周向接觸,會產(chǎn)生磨損間隙。(3)密封件磨損后,無法自動壓緊密封件,需停機手工操作。

根據(jù)現(xiàn)有主軸內(nèi)噴上水密封結構的失效的主要原因,去掉動密封中的骨架油封,改進主軸內(nèi)噴上水密封結構,增加機構的柔性,典型的有基于球面接觸的密封結構和基于球面接觸閉式結構兩種。
如圖2結構,動密封接頭1和靜密封接頭2均為機械連接件,以球面接觸。其中,動密封接頭1通過螺紋和主軸連接,并隨主軸同步旋轉;靜密封接頭2和調(diào)整板4靠螺母7固定在一起。固定板9固定在主軸軸承座下端面,用來固定兩個調(diào)節(jié)螺栓3。調(diào)整兩個調(diào)節(jié)螺母7推動支撐板6,通過彈簧5和調(diào)整板4,調(diào)節(jié)靜密封接頭2和動密封接頭1之間的壓力,以保證球面密封面在壓力最小的情況下研磨液不泄漏。

該結構優(yōu)點:由于采用金屬件球頭接觸,其強度較高、耐磨性和耐蝕性較好,隨著時間增加,球面接觸面積增加,密封效果越好;球面磨損后,由彈簧的預緊作用,系統(tǒng)會自動補償間隙,故使用壽命能夠提高到原來的2.5~3倍。但該結構也有不足之處:機構運行之初,由于動靜密封接頭的球面加工精度的影響,需要時間磨合,磨合階段液體泄漏易污染環(huán)境;安裝復雜,需同時調(diào)節(jié)螺母,才能使結構平衡。
為解決圖2所示結構平衡問題和磨合階段研磨液泄漏問題,對結構進一步優(yōu)化,仍采用球面接觸密封,并設計了密封殼體用于回收研磨液,如圖3所示。圖中,動密封接頭2靠螺紋和主軸連接,保證兩者的同步轉動,壓緊的密封圈1,保證密封可靠。上密封殼體3內(nèi)的推力軸承4和深溝球軸承5,用于保證動密封接頭2的定位精度和旋轉靈活性,同時,還可以承受來自靜密封接頭6的軸向密封壓力。導向調(diào)節(jié)螺母9對靜密封接頭6起定位導向和密封壓力調(diào)節(jié)的作用,通過動、靜密封接頭對中性和彈簧的壓力調(diào)節(jié)來保證密封面的良好密封性。鎖緊螺母10對導向調(diào)節(jié)螺母9有防松作用,鍵11是防止靜密封接頭6的轉動。密封面磨合階段泄漏的研磨液,可由泄漏排水口流向研磨液容器,避免研磨液的浪費和環(huán)境污染。

該結構優(yōu)點:體積小;動、靜密封接頭對中性好,運轉靈活,密封面的密封調(diào)節(jié)方便;使用前磨合時間縮短,密封面磨損時泄漏的研磨液可回收,不浪費、不污染;密封效果好,使用壽命提高到原來的3~5倍。缺點:結構復雜,整體零件加工精度提高;密封面磨損后,需要重新調(diào)節(jié)動、靜密封接頭之間的壓力。
以上兩種優(yōu)化后的主軸內(nèi)噴上水密封結構,它們的工作原理相同,結構形式略有差別,壽命比傳統(tǒng)的密封結構高。但是,兩類球面接觸式密封結構存在共性問題:(1)動靜密封接頭為非標準件,制造難度大,精度難以保證,成本高。(2)有磨合時間,且與材料硬度和球面精度關系很大。(3)由于靜密封部分為柔性結構,主軸轉速過高時,容易引起靜密封結構振動,影響密封效果。
針對柔性密封結構存在的問題,以降低成本、縮短磨合時間、解決主軸高速時的振動問題為目標。在分析內(nèi)噴上水結構的原理基礎上,借鑒標準的機械密封結構的基礎上,使用標準的密封件,以降低成本。

優(yōu)化后的密封結構如圖4所示。其結構和工作原理如下:簡化其結構核心,改變以往密封結構的關鍵,把自制設計加工的球形動、靜密封接頭,改為外購的標準平面密封環(huán),動、靜密封環(huán)的材質(zhì)、硬度、表面粗糙度和精度由專業(yè)廠家解決,密封面的表面質(zhì)量為上水密封提供可靠保障。連接軸1旋轉靈活性、對中性和受力的合理性,依靠和上腔體3、推力軸承4、深溝球軸承5組成的裝配體來保證,其下端的動密封環(huán)7和動連接軸1為可靠的靜密封連接。動密封環(huán)7和調(diào)整螺母11為靜密封連接,密封可靠;調(diào)整螺母11通過和下腔體9的螺紋旋合完成上下尺寸的調(diào)節(jié),并靠鎖緊螺母10鎖緊,最終完成動、靜密封環(huán)密封面的壓力調(diào)節(jié)和密封。此結構的特點:成對的標準密封件配合為平面接觸,易保證精度,磨合時間短;靜密封部分為剛性結構,無振動問題。標準密封件的耐磨性好、制造成本低,加工周期短,安裝調(diào)節(jié)方便,運轉靈活,密封面摩擦力小,無泄漏,使用壽命長,可達到原來的8~10倍。
通過對主軸內(nèi)噴上水密封結構的3次優(yōu)化,提高了其密封效果,增加了其使用壽命。優(yōu)化前后結構的性能對比如表1。
表1 密封結構優(yōu)化前后的性能對比

結構特點效果壽命/月成本缺點原有結構橡膠墊密封,結構簡單差2低密封件易損、無法自動調(diào)節(jié)球面接觸式金屬球面密封,耐腐蝕,可自動調(diào)節(jié)密封面一般5~6高有磨合時間、高速運動時有振動球面接觸閉式漏液可回收,對中性好,體積小,安裝方便較好6~10高高速運動時有振動標準機封式結構簡單,使用標準件好16~20低無法自動調(diào)節(jié)
通過以上對比分析可以看到,通過優(yōu)化設計,大大提高了主軸內(nèi)噴水的防水效果,其中標準機封式的壽命最長,綜合性能最好。通過對密封結構的優(yōu)化設計,有效的降低了光學平面研磨機床的維修頻率,提高生產(chǎn)效率。在優(yōu)化設計過程中,解決了如下工程問題,可為類似機械結構的優(yōu)化設計提供借鑒。
(1)以金屬球面接觸密封結構代替橡膠密封圈,解決了橡膠腐蝕老化問題。
(2)將靜密封部分設計為柔性結構,能夠自動補償密封件磨損后間隙。
(3)在靜密封部分設計了閉式腔體,回收泄漏研磨液,防止污染環(huán)境。
(4)以標準機封件代替球面密封,能夠簡化結構,降低成本,提高壽命。
[1]楊叔子.機械加工工藝師手冊[M].北京:機械工業(yè)出版社,2006.
[2]吳宗澤.機械設計師[M].北京:機械工業(yè)出版社,2006.
[3]徐灝.機械設計手冊[M].北京:機械工業(yè)出版社,2001.
[4]劉旸. 光學精磨拋光機床主軸防水密封結構的優(yōu)化設計[J].流體機械,2015(8):48,60-62.
[5]李勝林. 光學加工機床主軸用機械密封裝置:中國,ZL200420011043. 1[P]:2005-07-13.
[6]李勝林. 光學加工機床主軸上水密封裝置:中國,ZL200420011049. 9[P]:2005-07-20.