拋光對(duì)不同處理方法粘結(jié)托槽的瓷表面粗糙度和光澤度的影響

[摘要]目的：探討用不同處理方法在瓷面上粘結(jié)的托槽去除后，拋光對(duì)瓷表面粗糙度和光澤度的影響。方法：甲乙兩組瓷面上的托槽經(jīng)剪切去除后，用粗糙度儀和光澤度儀測(cè)定瓷面拋光前后及對(duì)照組的表面粗糙度值和光澤度值。結(jié)果：粗糙度值：拋光前相同方法中甲組比乙組均高(P＜0.05)，甲組各方法間無(wú)差異(P＞0.05)，乙組方法A、C間無(wú)差異(P＞0.05)，方法B小于方法A、C(P＜0.05)：拋光后相同方法甲組與乙組無(wú)差異(P＞0.05)，甲、乙組內(nèi)各方法之間也無(wú)差異(P＞0.05)，甲、乙組各方法都達(dá)到了對(duì)照組水平(P＞0.05)。光澤度值：拋光前相同方法甲組比乙組均低(P＜0.01)，甲組各方法間無(wú)差異(P＞0.05)，乙組方法A、C無(wú)差異(P＞0.05)，方法B小于方法A、C(P＜0.05)；拋光后相同方法甲組與乙組無(wú)差異(P＞0.05)，甲、乙組各方法之間均無(wú)差異(P＞0.05)，甲、乙組中無(wú)論哪一種方法都低于對(duì)照組(P＜0.05)。結(jié)論：機(jī)械打磨最能影響瓷表面粗糙度和光澤度，2.5％氫氟酸對(duì)其有影響，陶瓷偶聯(lián)劑對(duì)其影響較小。光澤度雖隨著粗糙度的降低而升高，但粗糙度值與光澤度值之間并無(wú)絕對(duì)的對(duì)應(yīng)關(guān)系。拋光能使托槽去除后瓷表面粗糙度達(dá)到對(duì)照組水平，但光澤度稍差。

[關(guān)鍵詞]瓷修復(fù)體；托槽；粗糙度；光澤度；拋光

正畸結(jié)束去除瓷修復(fù)體上的托槽后烤瓷冠(橋)能否繼續(xù)使用的一個(gè)重要考慮因素就是瓷表面的粗糙度和光澤度。低粗糙光滑的瓷表面能減少口腔細(xì)菌粘附，提高美容效果，使患者舒適。適宜的光澤度能使瓷牙逼真，與正常活髓牙協(xié)調(diào)一致，不易分辯。本研究采用托槽剪切去除后瓷表面進(jìn)行拋光，用儀器測(cè)量拋光前后的瓷表面粗糙度值和光澤度值，觀察其內(nèi)在變化，并與未作任何處理的對(duì)照組對(duì)比，為臨床工作提供理論依據(jù)。

1 材料和方法

1．1 測(cè)試標(biāo)本：本實(shí)驗(yàn)采用美國(guó)VB公司的烤瓷合金及Shofu A3瓷粉，將烤瓷片甲組機(jī)械打磨，乙組未打磨，兩組均分別用3種方法粘結(jié)托槽。方法A：氫氟酸＋陶瓷偶聯(lián)劑＋釉質(zhì)粘結(jié)劑；方法B：陶瓷偶聯(lián)劑＋釉質(zhì)粘結(jié)劑；方法c：氫氟酸＋釉質(zhì)粘結(jié)劑。具體操作步驟參見相關(guān)文獻(xiàn)。粘結(jié)托槽并經(jīng)剪切后，去除瓷面上較明顯的粘結(jié)劑，從每種方法8個(gè)試件中選用4個(gè)瓷面完整的作為被測(cè)對(duì)象，使用Shofu公司拋光綠和氧化錫糊劑和Edenta公司拋光套裝，低速手機(jī)依次進(jìn)行瓷表面的拋光：①深黑色金鋼砂橡皮磨頭4000r／min 3分鐘；②深黃色橡皮磨頭＋拋光綠4000r／min 3分鐘：③小氈輪＋氧化錫糊劑2000r／min 3分鐘。另制作的4個(gè)金屬烤瓷片既不粘結(jié)托槽也不拋光處理作為對(duì)照組。

1．2 表面粗糙度和光澤度的測(cè)定：對(duì)測(cè)試組的拋光前后及對(duì)照組的瓷面中心區(qū)分別測(cè)定表面粗糙度和光澤度，每個(gè)試件變換方向3次，取均值統(tǒng)計(jì)分析，SPSS11.0軟件分析結(jié)果。用TR240觸針表面粗糙度儀(北京時(shí)代集團(tuán)公司)，取樣長(zhǎng)度0.8ma，評(píng)定長(zhǎng)度4.0mm，運(yùn)行速度0.1mm／s，測(cè)中心線平均粗糙度值Ra。表面光澤度以吸收入射光的百分比表示，采用VGA600型光澤度儀(日本電色公司)，標(biāo)準(zhǔn)黑板校正89％，入射、反射角度均為60°，測(cè)表面光澤度值。

2 結(jié)果(見表1～2)

統(tǒng)計(jì)結(jié)果：拋光前相同方法中甲組比乙組高(P＜0.05)，甲組各方法相比較無(wú)差異(P＞0.05)．乙組各方法相比較，方法A、C無(wú)差異(P＞0.05)，方法B小于方法A、C(P＜0.05)。拋光后相同方法甲組與乙組無(wú)差異(P＞0.05)，甲乙組內(nèi)各方法之間均無(wú)差異

統(tǒng)計(jì)結(jié)果：拋光前相同方法甲組比乙組均低(P＜0.01)，甲組各方法相比較無(wú)差異(P＞0.05)，乙組各方法相比較，方法A、c無(wú)差異(P＞0.05)，方法B小于方法A、C(P＜0.05)。拋光后相同方法甲組與乙組無(wú)差異(P＞0.05)，甲乙組各方法之間均無(wú)差異(P＞0.05)，與對(duì)照組比較甲乙組中無(wú)論哪一種方法都無(wú)法達(dá)到對(duì)照組的光澤度(P＜0.05)。

3 討論

表面粗糙度是物體表面的不規(guī)則狀況，是衡量物體表面平滑程度的量化指標(biāo)。根據(jù)GBl031－83的要求，表面粗糙度參數(shù)主要是從Ra(中心線平均粗糙度)、Ry(最大高度粗糙度)、Rz(十點(diǎn)高度平均粗糙度)這三個(gè)參數(shù)中選取。由于Ra易使用測(cè)量精度高且方法簡(jiǎn)單的觸針式輪廓儀測(cè)量，所以常用于表面粗糙度值。光澤度是根據(jù)物體表面受到光線照射時(shí)會(huì)產(chǎn)生反射光的原理進(jìn)行，以吸收入射光的百分比來表示，對(duì)入射光反射能力越大，光澤度則越高。

拋光是利用拋光材料反復(fù)摩擦修復(fù)體表面，使表面凸凹高低相對(duì)一致，表面光滑。陶瓷的成分不同，其表面拋光后的結(jié)果是不相同的。以白榴石、二硅酸鋰等晶體為增強(qiáng)相的硅酸鹽類陶瓷經(jīng)拋光表面粗糙度和光澤度變化較大，而以氧化鋁、氧化鋯為主要成分的非硅酸鹽類陶瓷，強(qiáng)度較高，經(jīng)拋光表面粗糙度和光澤度變化較小。本實(shí)驗(yàn)所用的金屬烤瓷片屬于前一種，一般拋光常用的磨具為硬度不同的金剛砂橡皮輪(或頭)、小氈輪等，磨料為拋光綠、氧化錫等，單純使用一種一般不能達(dá)到較好效果。

不同的處理工藝構(gòu)建成特定的表面微觀結(jié)構(gòu)，拋光前相同方法中甲組比乙組的粗糙度高、光澤度低，說明機(jī)械打磨對(duì)其影響較大，其原因可能是機(jī)械打磨后粘結(jié)性能強(qiáng)，殘留的粘結(jié)劑較多。在表面未作機(jī)械打磨的乙組的粗糙度、光澤度在拋光前方法A與方法C無(wú)差異(P＞0.05)，而方法B與方法A、c間有差異(P＜0.05)，說明氫氟酸對(duì)其有影響，陶瓷偶聯(lián)劑對(duì)其影響較小。有學(xué)者關(guān)于酸蝕時(shí)間與陶瓷表面形態(tài)的研究實(shí)驗(yàn)中，發(fā)現(xiàn)陶瓷表面粗糙度與酸蝕時(shí)間成正比例的線性相關(guān)，本實(shí)驗(yàn)的酸蝕時(shí)間僅60s，其數(shù)值變化不是非常顯著也印證了這一點(diǎn)。

拋光前后比較無(wú)論粗糙度和光澤度甲組比乙組變化顯著，說明拋光對(duì)粗糙度高，光澤度低的物體是一種行之有效的方法，而對(duì)本來粗糙度低，光澤度高的物體則效果較差，甚至?xí)档推涔鉂啥龋瑥囊医M的數(shù)值就可看出，這是因?yàn)閽伖馐勾杀韺酉挛⑿馀荼┞叮ズ鄢霈F(xiàn)。

拋光后每組的粗糙度能達(dá)到或接近對(duì)照組的水平，而光澤度仍有一點(diǎn)的差距，說明光澤度雖然隨著粗糙度的降低而升高，但粗糙度值與光澤度值之間并無(wú)絕對(duì)的對(duì)應(yīng)關(guān)系。當(dāng)表面粗糙度值比較高時(shí)，光澤度隨之變化且變化較大；當(dāng)表面粗糙度值較低時(shí)，其粗糙度值的降低對(duì)增加光澤度的影響就非常小了。經(jīng)過拋光解決了粗糙度問題，但光澤度并不能達(dá)到原有的水平。影響光澤度的因素較多，除拋光外還與陶瓷的成分、色線、致密性、硬度、排列方向等有關(guān)。本實(shí)驗(yàn)是在瓷面干燥的情況下所得的數(shù)值，但在口內(nèi)有唾液的環(huán)境下拋光后的光澤度肉眼觀是無(wú)法發(fā)現(xiàn)較大差別的。

拋光能否達(dá)到上釉同樣的光澤度或者說拋光與瓷爐上釉何種方法能達(dá)到更光滑的表面(即低粗糙度)目前尚存爭(zhēng)議。Fuzzi等研究發(fā)現(xiàn)陶瓷拋光能達(dá)到與上釉相同的光滑效果，而Patterson[6]和Brewer等發(fā)現(xiàn)單獨(dú)使用金剛砂拋光不能達(dá)到，Raimondo等認(rèn)為，單純使用拋光套裝拋光瓷表面肉眼觀不能達(dá)到，而結(jié)合使用拋光膏則能達(dá)到甚至優(yōu)于上釉，Scurria等的實(shí)驗(yàn)也與此相同。在本實(shí)驗(yàn)中隨著拋光粒度的逐級(jí)精細(xì)，瓷表面粗糙度值逐步下降，光澤度值逐步升高，提示在臨床瓷修復(fù)體拋光過程中，要按照拋光粒度由粗到細(xì)逐級(jí)打磨：打磨粒度越細(xì)，表面粗糙度值越低，越能獲得更加光滑的表面。但是，當(dāng)粒度細(xì)到一定程度后，表面粗糙度隨拋光輪粒度變細(xì)所降低的程度已經(jīng)不太明顯。

4 結(jié)論

機(jī)械打磨是最能影響瓷表面粗糙度和光澤度的，氫氟酸對(duì)其有影響，陶瓷偶聯(lián)劑對(duì)其影響較小。光澤度雖然隨著粗糙度的降低而升高，但粗糙度值與光澤度值之間并無(wú)絕對(duì)的對(duì)應(yīng)關(guān)系。拋光能使托槽去除后，瓷表面粗糙度達(dá)到對(duì)照組水平，光澤度稍差。提示在對(duì)口內(nèi)有瓷修復(fù)體作正畸治療時(shí)，應(yīng)根據(jù)烤瓷所在的前后牙位、正畸力大小及患者對(duì)美學(xué)要求的高低選用不同表面處理及粘結(jié)方法。