張江鵬,李 迪,明鎮洋,付 虹,劉岳軍
(西南交通大學四川省大氣環境模擬實驗室,成都 610031)
對流層臭氧(O3)是大氣中重要的氧化劑,是光化學污染的重要產物之一,臭氧具有強氧化性,其濃度升高會對人體健康、環境系統以及全球氣候產生負面影響[1]。在光照條件下,對流層臭氧主要由揮發性有機物(VOCs)和氮氧化物(NOx)的光化學反應產生。隨著社會經濟的發展,我國臭氧污染問題日趨嚴重,一些大城市由于VOCs 的大量排放,臭氧污染問題尤為突出[2]。近年來,許多學者對成都市揮發性有機物和臭氧濃度分布特征分別進行了研究[3-4],但利用VOCs 排放清單分析臭氧及其前體物敏感源的研究較為缺乏。本研究利用2017年成都市人為源VOCs 排放清單及組分清單,通過BOXMCM 大氣化學模型模擬成都市7月臭氧生成的大氣化學反應過程,進而計算臭氧前體物的相對增量反應活性,分析臭氧生成過程中敏感的VOCs 組分和顯著源。
本研究利用BOX-MCM 大氣化學模型分析臭氧的生成過程和前體物敏感性。相比于按照化學物種官能團歸納性的化學機理,MCM(Master Chemical Mechanism)光化學機理詳細描述了揮發性有機物的氣相反應過程。MCM 化學機制主要不同點在于給出了具體的VOCs 物種的詳細氣相化學反應過程,充分考慮了自由基參與的反應,光化學反應過程更加具體,并且中間體化學物質也能得到很好的計算。目前共發布了MCMv1、MCMv2、MCMv3 和MCMv3.3 等多個更新版本的化學機制,本研究模型所用化學機制為MCMv3.3。該版本包……