一種HF電子氣體深度純化材料的制備及應用方法
2021-04-04 19:52:56
低溫與特氣 2021年2期
關鍵詞：深度
申請(專利)號：202010296836.6
公開(公告)日：2021-04-09
申請(專權)人：浙江博瑞電子科技有限公司
摘要:發明涉及高純氣體提純領域，具體關于一種HF電子氣體深度純化材料的制備及應用方法；本發明制備了一種負載金屬氟化物活性炭材料AC/MFx·nH2O，運用碳酰氟/高純氮氣混合氣體流對該材料深度脫水后，得到一種HF電子氣體深度純化材料AC/MFx，該種材料具備氟化物，能夠形成結晶水，形成水合金屬氟化物，具備很強的吸水性能，而且無水氟化物和活性炭不存在被HF腐蝕的問題，不會造成骨架結構坍塌和反應產物對HF的二次污染，用于對HF進行高效除水具有純度高，水分含量極低的優點。
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