銅及鉬含有膜的蝕刻液組合物

專利申請號: CN201810996546

公開號: CN109136925A

申請日:2014.09.22公開日:2019.01.04

申請人: 易安愛富科技有限公司

本發明涉及一種蝕刻銅及鉬含有膜時，控制鉬或鉬合金膜的側蝕，實現穩定的蝕刻工程，并可改善蝕刻錐角、蝕刻偏差和蝕刻直線度等蝕刻特性的蝕刻液組合物。所述蝕刻液組合物中，相對于總重量，過氧化氫的含量為10%～30%(質量分數,下同)，蝕刻抑制劑的含量為0.1%～5%，螯合劑的含量為0.1%～5%，蝕刻添加劑的含量為0.1%～5%，氟化物的含量為0.01%～2%，側蝕抑制劑的含量為0.01%～2%，及使總質量達到100%的水。