一種高效銅鉬蝕刻液及蝕刻方法

專利申請號: CN201811013298

公開號: CN109136931A

申請日:2018.08.31公開日:2019.01.04

申請人: 深圳市華星光電技術有限公司

本發明提供一種高效銅鉬蝕刻液。蝕刻液的主要成分包括7%～15%(占蝕刻液總質量,下同)的過氧化氫、2%～7%的調節劑、1%～3%的穩定劑、3%～10%的有機酸、0.001%～1%的抑制劑以及1%～10%的pH調節劑，余量為去離子水；本發明還提供一種用于銅鉬金屬膜層的蝕刻方法。有益效果：本發明所提供的高效銅鉬蝕刻液及蝕刻方法，將含有過氧化氫的蝕刻液在蝕刻前通過微波輻射保持特定溫度不變，增強了對銅鉬金屬膜層的氧化能力，進一步加快了蝕刻反應速率，更進一步提升了蝕刻品質。