專利申請號: CN201710121286
公開號: CN107099716B
申請日:2017.03.02
公開日:2019.01.08
申請人: 中廣核研究院有限公司; 中國廣核集團有限公司; 中國廣核電力股份有限公司
本發明公開了一種界面強化鉬合金及其制備方法,鉬合金包括以下質量百分比的成分:85%-98%Mo、0.5%-15%活性金屬元素、0.1%-5%碳化物以及0.1%-5%稀土金屬氧化物;所述鉬合金具有鉬-活性金屬相-鉬的強化界面。本發明通過活性金屬分離鉬-鉬弱結合界面,形成“鉬-活性金屬相-鉬”的強化界面,同時利用超細/納米碳化物與稀土氧化物的均勻復合彌散分布形成的大量微觀界面吸收中子輻照產生的點缺陷,從而提高鉬合金界面結合強度與韌性,并因此改善抗輻照脆化性能。