精神分裂癥自我面孔加工的研究進展

徐園園 賈竑曉

(首都醫科大學附屬北京安定醫院北京重大腦疾病研究院精神分裂癥研究所 精神疾病診斷與治療北京市重點實驗室，北京 100088)

·精神分裂癥和抑郁癥的基礎和臨床 ·

精神分裂癥自我面孔加工的研究進展

徐園園 賈竑曉*

(首都醫科大學附屬北京安定醫院北京重大腦疾病研究院精神分裂癥研究所 精神疾病診斷與治療北京市重點實驗室，北京 100088)

精神分裂癥是一組病因未明的精神疾病，具有廣泛的認知功能損害。其臨床表現各異，涉及感知、思維、情感、意志等多方面的障礙和行為的不協調。自我異常是精神分裂癥的核心病理特征，對自我面孔識別的研究發現，精神分裂癥病人在識別自我面孔時存在困難，但對自我面孔加工是否受損未取得一致的研究結果。

精神分裂癥；自我異常；自我面孔加工

精神分裂癥是一組異質性的精神障礙，具有廣泛的認知功能損害，包括感知覺障礙、思維障礙、注意障礙等，其中自我異常是精神分裂癥的核心病理表征，自我面孔加工是自我異常的一個重要研究方向。為此本文對精神分裂癥的自我面孔加工進行了綜述。

1 自我及自我異常

自我是對自身心理狀態的表征，是人的過去經驗和現在經驗的綜合體，包含人的意識活動，是可以加以控制的，具有內外部力量的適應性。自我既是獨特的又是社會性的，如何認識自我，心理學從自我參照效應、自我面孔識別、自我代理、自傳體記憶等方面進行研究。自我發展背后的推動力是自我-他人的交互[1]，區分自我和他人是人類的基本認知能力，也是社會交往的關鍵。區分自我-他人的能力的一種重要體現是自我優勢效應，自我優勢效應是指對自我相關性信息加工快于自我無關性信息加工。自我相關性信息包括描述某人自己特質的形容詞、自傳體記憶、自我名字和自我面孔等。其中自我面孔是與自我相關最強烈的刺激，是獨一無二的，標志著個體自己的身份，影響到個體的自我概念，與其他面孔完全不同，所以在自我面孔的研究中發現了最大的自我優勢效應。自我面孔識別是人類獨特具有的高級認知能力，相比于識別他人面孔，在健康成人表現為對自己面孔的識別速度顯著快于識別名人和陌生他人，即自我面孔識別的優勢效應，即自我面孔加工優勢[2]。

而自我異常是精神分裂癥的核心病理特征[3-4]，現象學觀點認為基本的自我異常是指行動主導感和體驗主體感的異常，這些異常主要與3種異常的自我相互聯系，即超反思(hyper-reflexivity)、自我存在感的減弱(diminished self-presence)以及對認知或知覺的“支配”或“控制”被擾亂(disturbed “grip” or “hold” on perceptual and conceptual fields)；并與各種異常的主觀體驗有關，而各種主觀體驗異常與來源檢測受損(source monitoring deficits)和異常突顯(aberrant salience)等神經認知功能障礙有關[3-6]。

自我面孔識別作為外顯自我意識的重要指標，發現精神分裂癥病人在識別自我面孔時存在困難。在自我面孔加工方面，研究主要關注病人的自我面孔識別優勢和自我面孔識別的腦加工情況。

2 自我面孔識別優勢研究

對精神分裂癥的自我面孔加工受損，國內外并未取得一致的研究結果。一些研究[7-8]顯示精神分裂癥病人存在特定的面孔識別受損，在識別自我面孔時相較于熟悉面孔和陌生面孔受損。相反，其他研究[9-11]沒有發現支持特定自我面孔受損的證據。這些結果之間的差異可能是使用的實驗方法不同以及缺乏對影響因素的控制造成的。

Lee等[6]使用了視覺搜索范式，發現精神分裂癥病人與正常對照組在自我面孔識別的錯誤率無差異，對自我面孔識別較對熟人面孔識別反應時間減少。精神分裂癥病人還表現出自我面孔識別的半球優勢異常，健康人對自我面孔識別表現出左半球優勢，而Kircher等[7]使用熟悉度的判斷任務研究不同視野的自我面孔識別，顯示精神分裂癥病人自我面孔圖片呈現在右側視野時的錯誤率明顯高于對照組，而對照組對自我面孔圖片呈現在左側視野時的錯誤率更高，結果預示了精神分裂癥病人與健康人相反的半球優勢，即自我面孔識別的右半球優勢效應。

有研究[8]表明，精神分裂癥病人的自我意識存在改變，有很大一部分在于自知力的改變程度。自知力屬于自我意識的一種，對于自知力與自我面孔識別能力的缺陷是否存在相關，賈竑曉等[9]采用自我面孔識別的神經心理學范式，研究了自知力與自我面孔識別速度的關系，研究發現正常被試對自我面孔識別速度快于識別陌生人面孔，但與名人面孔識別速度差異無統計學意義(P<0.05)；有無自知力的精神分裂癥病人均未表現出對自我-陌生人面孔識別速度上的自我識別優勢，提示精神分裂癥可能存在自我異常；無自知力病人對自我面孔識別速度慢于有自知力病人和正常被試；對陌生人和名人面孔的識別速度上，有無自知力的病人組間差異無統計學意義(P>0.05)。

精神分裂癥病人存在自我意識改變，對自我與他人區分能力降低，對自我敏感性降低，Zhang等[10]研究發現，精神分裂癥病人對熟悉性的加工和對自我的加工是獨立并行的加工過程，病人對自我面孔熟悉性的加工受損，而對自我概念的加工未受損，即精神分裂癥病人在自我面孔識別上的障礙是由于對自我面孔熟悉性加工的損傷引起的。

精神分裂癥根據臨床表現可以分為陽性癥狀組和陰性癥狀組，陽性與陰性癥狀的不同是否會影響病人對自我面孔的加工。朱虹等[11]研究以陰性和陽性癥狀為主的精神分裂癥病人的自我面孔的識別速度發現，以陰性癥狀為主的病人對陌生人面孔識別速度最快，自我面孔識別速度和名人面孔識別速度沒有差異；而以陽性癥狀為主的病人在各面孔的識別速度上差異無統計學意義(P>0.05)。

鑒于對精神分裂癥自我面孔加工研究結果的不一致，Bortolon等[12]使用“客觀測量(反應時間和準確度)”和“主觀測量(日常自我面孔識別的自我報告)”來探討精神分裂癥病人如何處理知覺的模棱兩可(perceptual ambiguity)和病人對自己面孔的心理表征與用Morph軟件處理的合成照片的不匹配。研究發現精神分裂癥病人與正常對照組一樣能夠識別自己的面孔，只是比較容易模棱兩可。對60%自我和40%他人的合成圖片，精神分裂癥病人表現出低的準確度。使用自我面孔識別問卷(Self-face Recognition Questionnaire, SFRQ)[13],評估病人日常生活中自我面孔識別的缺陷。與健康對照組相比，精神分裂癥病人沒有表現出更多的對日常生活中自我面孔識別的困難。

以上對精神分裂癥病人自我面孔加工的研究結果雖然不一致，但是區分自我和他人的能力作為人類的一個標志，對其在精神分裂癥病人中的異常研究還是十分重要的。當然，自我面孔識別損傷在自閉癥、阿爾茨海默病以及腦損傷病人中也有發現。

3 自我面孔識別的腦加工情況

既然自我面孔加工是獨特的，那么大腦中是否有對應于自我面孔加工的獨特腦區？對健康成人的自我面孔加工的認知神經機制的研究有較一致的發現，認為自我面孔識別主要涉及前額葉、腦島、扣帶回、顳葉和頂葉等腦區[14-16]。對正常人的功能性磁共振成像(functional magnetic resonanace imaging， fMRI)研究發現，自我面孔知覺在左下頂葉、左前額區域、右中顳葉、右邊緣區有更強的激活[14]。電生理研究[15]發現自我面孔與他人面孔相比，后側區域有一個增強的N170，額中區域有一個增強的峰峰值電壓(voltage peak-peak，VPP)。以上研究均是閾上水平的研究，運用連續閃爍抑制的范式，研究閾下水平的自我面孔加工發現，自我面孔比他人面孔有一個減小的早期成分VPP[16]。

對精神分裂癥病人自我面孔加工相關腦區研究發現運用fMRI探索病人區分自我-他人的腦區活動時，與自我面孔識別相關的右緣上回、楔狀葉和前額-顳葉區域的有效連接減弱[17]。自我面孔除了中性面孔外，還有面孔表情，而精神分裂癥病人表現出對表情加工相關的缺陷，并發現病人的情緒處理腦區存在結構和功能上的損傷，表現為杏仁核對情緒面孔的激活程度低于中性面孔，同時在楔狀葉、頂葉、中央前回和上顳回激活程度增加。精神分裂癥不同的陽性和陰性癥狀會影響中性面孔的分類，陽性癥狀組更傾向于將中性面孔歸為惡心或恐懼表情，并且陽性的陽性和陰性癥狀量表(Positive and Negative Syndrome Scale,PANSS)得分與左顳小葉的早期成分 P100 和 N170以及右中間前小葉的晚期成分(N250) 成負相關[18]。

眼動追蹤技術在面孔識別領域中的研究越來越重要，因為它提供了一個自然、連續和在線的面孔加工記錄，通過視覺搜索范式來研究自我面孔的識別發現，精神分裂癥病人比正常對照組有更少更長的注視，與正常對照一樣，精神分裂癥病人也能夠關注自己面孔的相關特征[19]。對不同情緒面孔加工的眼動研究[20]發現，精神分裂癥病人與正常被試在中心面孔和負性面孔的加工時間和加工次數上顯著低于正性面孔，從而得出病人可能是對負性和中性面孔的加工存在特異性的損害。

4 小結和展望

縱觀以往對精神分裂癥自我面孔的研究，雖然對自我面孔加工是否受損仍未取得一致的研究結果，但是對精神分裂癥自我異常的研究都有推進作用。自我異常作為精神分裂癥的核心病理特征，自我面孔加工作為自我異常的一部分，對其進一步的研究將有助于自我異常的研究，發現自我異常的本質，有助于精神分裂癥的診斷、預防和早期干預。

現有的研究絕大多數只局限于刺激為閾上知覺水平的條件，即個體能夠意識到自我面孔的情況下，發現自我面孔加工存在知覺速度上的缺陷或沒有缺陷。那么，當自我面孔的呈現為閾下知覺水平時，自我面孔的加工是否也表現出加工速度上的缺陷呢？對此需要進一步的研究。而現有的使刺激處于閾下知覺水平的方法有很多，包括降低刺激的強度(調低刺激亮度)、降低被試的知覺度(減少刺激呈現時間)、視覺遮蔽范式、雙眼競爭、連續閃爍抑制等，也許在以后的相關研究中，使用合適的研究范式，能夠發現在無意識情況下，精神分裂癥的無意識自我加工是否受損，這樣可以區別于現有的研究結果，發現意識上與無意識情況下自我的受損情況，為精神分裂癥的臨床診斷和以后的有效干預有重要意義。

[1] Decety J, Chaminade T. When the self represents the other：a new cognitive neuroscience view on psychological identification[J]. Conscious Cogn,2003,12(4):577-596．

[2] Sui J, Zhu Y, Han S. Self-face recognition in attended and unattended conditions: an event-related brain potential study[J]. Neuroreport,2006,17(4):423-427.

[3] Nelson B, Whitford T J, Lavoie S, et al. What are the neurocognitive correlates of basic self-disturbance in schizophrenia? Integrating phenomenology and neurocognition. Part 1(source monitoring deficits)[J]. Schizophr Res,2014,152(1):12-27.

[4] 賈竑曉, 尹夢雅, 朱虹. 躁狂發作患者的自我面孔識別速度研究[J]. 首都醫科大學學報，2013，34 (2): 204-206.

[5] Borda J P, Sass L A. Phenomenology and neurobiology of self disorder in schizophrenia: primary factors[J]. Schizophr Res,2015,169(1-3):464-473.

[6] Lee J, Kwon J S, Shin Y W, et al. Visual self-recognition in patients with schizophrenia[J]. Schizophr Res, 2007, 94(1-3): 215-220.

[7] Kircher T T, Seiferth N Y, Plewnia C, et al. Self- face recognition in schizophrenia[J]. Schizophr Res, 2007, 94 (1-3): 264-272.

[8] 賈竑曉,朱虹,韓世輝,等.精神分裂癥自知力與自我面孔識別速度的關系[J].首都醫科大學學報,2008,29(4):416-419.

[9] 賈竑曉,周勇,朱虹. 人類熟悉性特征識別障礙神經機制的研究進展[J]. 首都醫科大學學報，2016，37(2) ：172-175.

[10]Zhang L, Zhu H, Xu M, et al. Selective impairment in recognizing the familiarity of self faces in schizophrenia[J]. Chin Sci Bull,2012,57(15):1818-1823.

[11]朱虹,賈竑曉.以陰性與陽性癥狀為主的精神分裂癥病人的自我面孔識別速度研究[J].首都醫科大學學報,2014,35(2):200-204.

[12]Bortolon C,Capdevielle D, Salesse R N，et al. Further insight into self-face recognition in schizophrenia patients: Why ambiguity matters[J]. J Behav Ther Exp Psychiat, 2016,50:215-222.

[13]Laroi F, D’Argembeau A, Bredart S, et al. Face recognition failures in schizotypy[J]. Cogn Neuropsychiat, 2007,12(6):554-571.

[14]Kircher T T, Senior C, Phillips M L, et al. Towards a functional neuroanatomy of self processing: effects of faces and words[J]. Cogn Brain Res, 2000,10(1-2):133-144.

[15]Keyes H, Brady N, Reilly R B, et al. My face or yours? Event-related potential correlates of self-face processing[J]. Brain Cogn,2010,72(2):244-254.

[16]Geng H, Zhang S, Li Q, et al. Dissociations of subliminal and supraliminal self-face from other-face processing: Behavioral and ERP evidence[J]. Neuropsychologia, 2012,50(12):2933-2942.

[17]Yun J Y，Hur J W，Jung H，et al．Dysfunctional role of parietal lobe during self-face recognition in schizophrenia[J]. Schizophr Res,2014,152(1): 81-88.

[18]Anticevic A, Van Snellenberg J X, Cohen, et al．Amygdala recruitment in schizophrenia in response to aversive emotional material: a meta-analysis of neuroimaging studies[J]. Schizophr Bull,2012,38(3):608-621.

[19]Bortolon C, Capdevielle D, Salesse RN，et al. Self-face recognition in schizophrenia: an eye-tracking study[J]. Front Hum Neurosci,2016,10:3.

[20]Zhu X L, Tan S P, Yang F D, et al. Visual scanning of emotional faces in schizophrenia[J]. Neurosci Lett,2013,552(2):46-51.

編輯 慕 萌

Progress in studies on self-face processing in patients with schizophrenia

Xu Yuanyuan, Jia Hongxiao*

(BeijingKeyLaboratoryforMentalDisordersDiagnosisandTreatment，BeijingAndingHospital,CapitalMedicalUniversity，Beijing100088,China)

Schizophrenia is a group of mental illness with unknown etiology, which has a wide range of cognitive impairment. The disease have different clinical manifestations, including perception, thinking, emotion, will obstacles and behavior inharmony. Self-disturbance is the core phenotypic marker of schizophrenia. The study of self-face recognition found that patients with schizophrenia have difficulties in identifying self-face, but no consistent results have been obtained on whether self-face processing is damaged.

schizophrenia; self-disturbance; self-face processing

北京市自然科學基金(7152069)，北京市科委首都臨床特色應用研究專項(Z151100004015061)。This study was supported by Natural Science Foundation of Beijing(7152069), Clinical Characteristics Program of Beijing Municipal Science and Technology Commission (Z151100004015061).

時間：2017-04-13 19∶58

http://kns.cnki.net/kcms/detail/11.3662.R.20170413.1958.038.html

10.3969/j.issn.1006-7795.2017.02.011]

R749

2017-01-20)

*Corresponding author， E-mail： jhxlj@ccmu.edu.com