不銹鋼放射性模擬樣片在空氣中的激光去污技術

馬梅花，高智星，湯秀章，鄭佐西，朱欣研，張 怡，劉雨昕

不銹鋼放射性模擬樣片在空氣中的激光去污技術

馬梅花1，高智星2，湯秀章2，鄭佐西1，朱欣研1，張 怡1，劉雨昕1

采用APEX放電型準分子激光器作為激光光源，用低放廢液制備不銹鋼放射性模擬樣片，在激光去污裝置上開展激光去污工藝參數的研究。通過考察不同的輻照強度、脈沖頻率、輻照角度及掃描速率參數對不銹鋼放射性模擬樣片表面去污因子DF的影響，獲得了激光去污工藝參數。在此參數下對模擬樣片表面的去污因子大于200，剝離厚度小于20 μm。

激光去污；放射性模擬樣片；工藝參數

激光去污技術是近年興起的一種新型的去污技術[1]，該技術利用激光束將金屬表面燒蝕或利用特種氣體與核素發生光化學反應而氣化的原理，實現放射性核素從污染表面分離的技術。由于激光燒蝕和光化學反應效率高，因此污染表面能夠得到很好去污[2-6]。激光去污技術與常規去污技術相比具有明顯的優點：產生的二次廢物極少；不需要帶壓操作；利用光纖和機器人技術可實現遠距離操控。因此激光去污技術在工業應用方面已經開展了很多研究，但在核設施去污方面的研究國內尚未開展。

本研究在調研的基礎上，系統考察激光去污工藝參數對不銹鋼放射性模擬樣片表面去污效果的影響，擬為該技術的工程應用打下研究基礎。另外，由于使用放射性模擬樣片進行實驗，激光去污產生的等離子體暫沒有在本實驗中分析考察。……