專利名稱:一種刻蝕金屬鉬材料的方法
2014-01-30 19:55:22
中國鉬業 2014年3期
關鍵詞：方法
專利申請號:CN201110362349.6
公開號:CN102417156A
申請日:2011.11.15
公開日:2012.04.18
申請人:北京大學
本發明公開了一種刻蝕金屬鉬材料的方法，在金屬鉬材料上形成刻蝕掩膜，然后采用高密度等離子體(如ICP、TCP 等)干法刻蝕工藝，產生高密度、高能量離子和自由基，實現了對金屬鉬體材料的高速率、各向異性刻蝕。刻蝕速率可達2.63 μm/min，刻蝕結果側壁的陡直度可達70°。基于本發明的方法，可利用金屬鉬襯底基片作為制備MEMS 器件的主體材料。
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