改進三平面互檢法中測量位置的定量分析

鄭顯鋒 鄭 穎 田愛玲

(1.西安航天計量測試研究所，西安 710100；2.西安航空學院，西安 710065；3.西安工業大學光電工程學院，西安 710032)

0 引言

隨著科學技術的飛速發展，在生產、研究以及高端技術領域中，對光學元件的精度提出了新的要求，高精度光學元件已成為支撐一些領域發展的重要部件，所以高精度光學元件也需要與之相對應的高精度檢測方法。

目前，干涉法是用于高精度光學元件檢測最主要的方法，為了提高檢測精度，需要對參考面進行絕對檢測。在三維面型的絕對檢測中改進三平面互檢法的可行性已經得到驗證，其檢測結果與ZYGO干涉儀中“three-flat”檢測結果的PV值誤差小于0.001l。為了進一步減小誤差，對改進三平面互檢法中旋轉測量次數對最終檢測結果的影響進行了研究，發現不同測量位置的影響也是不同的，有的測量位置的測量次數需要達到18次或者以上才能保證偏差值小于0.0001l，而有的測量位置的旋轉測量次數僅需要達到8次就可以滿足偏差值小于0.0001l的要求。為了更好的完善改進三平面互檢法，需要定量分析其測量位置對最終檢測結果的影響，得到不同測量位置的檢測標準和操作指導。

1 改進三平面互檢法檢測原理

干涉法測量過程中總存在一個面作為參考面、另一個面作為測試面，如圖1中第1組測量所示，在這組測量中參考面為平面B，測試面為平面A。改進三平面互檢法如圖1所示由4組測量組成，其測量次序為：(BA，BAR,CA,CB)，平面A、B、C的三維面型均可以得到。……