專利文摘

牛金平 整理

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牛金平 整理

一種用于清洗煙氣脫硫系統GGH結垢物的中性清洗劑

專利申請號：CN201110209050.7 公開號：CN102296008A

申請日：2011.07.26 公開日：2011.12.28

申請人：西安熱工研究院有限公司

一種用于清洗煙氣脫硫系統GGH結垢物的中性清洗劑，其特征在于：該中性清洗劑按質量百分比含20%～30%的草酸鹽或水楊酸鹽、0.1%的助溶劑滲透劑JFC、0.3%～0.5%的緩蝕劑TP-1、0.05%～0.1%表面活性劑OP-10，余量為水。本發明的有機酸鹽能夠溶解、疏松、膨化GGH換熱片上形成的堅硬結垢物；助溶劑能夠促進有機酸鹽對結垢物的溶解；緩蝕劑能夠減緩清洗劑對GGH鋼質框架及GGH換熱片表面搪瓷的腐蝕損壞；表面活性劑用于降低清洗劑的表面張力，增強清洗劑對結垢物的浸潤性能。

有機硅環保清潔劑及其制備方法

專利申請號：CN201010218404.X 公開號：CN102296005A

申請日：2010.06.24 公開日：2011.12.28

申請人：威海賽奧新材料科技有限公司

本發明公開了一種非耗臭氧型有機硅環保清潔劑，主要成份為有機硅氧烷。該清潔劑具有優良的清洗能力，ODP值為0，能取代HCFC-141B、CFC-113、HCFC-225等溶劑，可應用于精密金屬零件、精密光學部件、塑膠部件、電子元件等的脫脂清洗，同時它們也是油類、潤滑劑、涂料和有機硅聚合物的良好溶劑。本發明同時公開了一種有機硅環保清潔劑的制備方法。

一種用于清洗離子交換樹脂機油污染的清洗劑

專利申請號：CN201110209265.9 公開號：CN102296002A

申請日：2011.07.26 公開日：2011.12.28

申請人：湖北省電力公司電力試驗研究院

本發明提供一種用于清洗離子交換樹脂機油污染的清洗劑。所述清洗劑由以下重量百分比的物質組成：3%～8%十二烷基苯磺酸鈉、1%～4%辛基酚聚氧乙烯醚、0～2%椰子油脂肪酸二乙醇酰胺、0.75～3%脂肪醇聚氧乙烯醚、0.005%～0.015%有機硅消泡劑、0.5%～2%氯化鈉、0.5%～2%助劑A、0.5%～2%助劑B、余量為水。本發明的清洗劑中含有陰離子表面活性劑和非離子型表面活性劑，復配有各種助劑，既有能徹底清洗離子交換樹脂表面的油污，還能洗除離子交換樹脂孔內吸附的油污，恢復離子交換樹脂的交換功能，同時配方中還考慮有離子型的表面活性劑,不會二次污染離子交換樹脂。

清洗組合物及用其形成半導體圖形的方法

專利申請號：CN201110193699.4 公開號：CN102296006A

申請日：2011.06.28 公開日：2011.12.28

申請人：韓國拉姆科技有限公司

揭露了一種清潔組合物及半導體圖形形成的方法。所述清潔組合物包括基于所述清潔組合物總量的10%～70%重量的醚化合物、0.1%～2%重量的含氟化合物作為蝕刻劑、0.1%～3%重量的抗腐蝕劑、及去離子水的余量。所述方法中，在包括預定結構的基底上形成絕緣層，并且在所述絕緣層中形成大馬士革圖形。使用所述清潔組合物進行清潔，形成填滿所述大馬士革圖形的金屬層，并且使得所述金屬層平面化以暴露所述絕緣層的上部，并且形成金屬布線。在蝕刻處理之后，可去除蝕刻殘留物而不會損傷金屬布線，特別是銅布線，并且可減少處理缺陷的生成。

一種平板顯示用清洗液及其制備方法

專利申請號：CN201110206269.1 公開號：CN102296001A

申請日：2011.07.22 公開日：2011.12.28

申請人：綿陽信利電子有限公司

本發明公開了一種平板顯示用清洗液及其制備方法。該清洗液，包括式I所示表面活性劑、有機溶劑、螯合劑、防腐劑、消泡劑和水；所述式I所示表面活性劑占所述清洗液總重的百分比為1%～20%；所述有機溶劑占所述清洗液總重的百分比為5%～30%；所述螯合劑占所述清洗液總重的百分比為0.5%～5%；所述防腐劑占所述清洗液總重的百分比為0.01%～5%；所述消泡劑占所述清洗液總重的百分比為0.01%～5%；余量為水。該清洗液能有效除去玻璃基板上面的金屬離子、有機及無機雜質和固體粒子，清洗能力強，且對環境無污染，清洗后對基板無腐蝕等特點。

采用一種包括內置沖洗助劑的組合物清洗烹飪設備或器具

專利申請號：CN200980156061.4 公開號：CN102300973A

申請日：2009.12.01 公開日：2011.12.28

申請人：美國迪瓦西公司

本發明公開了一種清洗烹飪設備或器具的方法，包括使用清洗組合物接觸至少是烹飪設備或器具的烹飪室，清洗組合物包括一種片型聚合物，這種片型聚合物至少在烹飪室表面上提供一層薄膜，致使在水沖洗步驟中提供撥水作用。片型聚合物是選自陽離子多糖和馬來酸-烯烴共聚物組成的組分。

納米洗車液

專利申請號：CN201010279283.X 公開號：CN102399635A

申請日：2010.09.13 公開日：2012.04.04

申請人：上海伊宇商貿有限公司

本發明涉及一種納米洗車液，由重量百分比為5%的20～65nm的納米氧化鈦，重量百分比為6%的脂肪醇聚氧乙烯醚，重量百分比為1%的硅油，重量百分比為12%的液體石蠟，重量百分比為5%的0.8%的硼酸水溶液，重量百分比為1%的芳香劑，余量為水組成。

鍋爐洗液

專利申請號：CN201010282661.X 公開號：CN102399649A

申請日：2010.09.14 公開日：2012.04.04

申請人：顧世琴

本發明公開了一種鍋爐洗液，由檸檬酸銨、羥胺、碳酸鈉、銅離子封閉劑組成。本發明配方合理，使用效果好，生產成本低。

冷卻水處理設備用化學清洗劑

專利申請號：CN201010282906.9 公開號：CN102399647A

申請日：2010.09.15 公開日：2012.04.04

申請人：陸忠躍

本發明公開了一種冷卻水處理設備用化學清洗劑，由聚烯酸、異丙醇、鄰苯二甲酯、水組成。本發明配方合理，使用效果好，生產成本低。

清洗組成物

專利申請號：CN201010288941.1 公開號：CN102399650A

申請日：2010.09.19 公開日：2012.04.04

申請人：盟智科技股份有限公司

本發明涉及一種清洗組成物，包括多胺基羧酸鹽(polyaminocarboxylicsalt)、酸及水。多胺基羧酸鹽的含量為0.01重量%至0.5重量%。酸的含量為0.01重量%至0.5重量%。其中，清洗組成物的剩余部分為水。本發明能有效地移除進行化學機械研磨過程后所產生的殘留物。

中性清洗劑及其制備方法

專利申請號：CN201110289495.0 公開號：CN102399642A

申請日：2011.09.27 公開日：2012.04.04

申請人：英特沃斯(北京)科技有限公司

本發明提供一種中性水基清洗劑及其制備方法。該中性水基清洗劑，按質量百分比計算，包括脂肪醇烷氧基表面活性劑0.5～1.5%，優選1%；脂肪醇聚氧乙烯醚類表面活性劑1～5%，優選3%；聚醚型表面活性劑1～5%，優選3%；直鏈烷基苯磺酸鈉0.5～1%，優選0.7%。本發明通過將非離子表面活性劑與陰離子表面活性劑復配，降低了清洗劑的表面張力，并且保持清洗劑pH為中性。本發明的中性水基清洗劑配合超聲波清洗、高壓噴淋、刷洗等物理清洗手段，對極性和非極性污染物都有良好的清洗效果，在狹小縫隙清洗方面取得了意料不到的有益效果。

從基板去除污染物質的方法和裝置

專利申請號：CN201080017053.4 公開號：CN102405276A

申請日：2010.04.08 公開日：2012.04.04

申請人：美國太陽索尼克斯公司

本發明提供了一種用于從基板去除污染金屬以改善電氣性能的方法。陽離子金屬已知對絕緣體或半導體基板的電氣性能是特別有害的。該方法包括將基板接觸下列結構式(1)的至少一種化合物的水性溶液：其中，n在每種情況中是獨立的0和6之間的整數值，X在每種情況中是獨立的H、NR4、鋰、鈉或鉀，以及至少一個X是NR4；R在每種情況中是獨立的H或C1～C6烷基，以改善基板的電氣性能。一種用于制備這種溶液的試劑盒,包括1～20總重量百分比的結構式(I)的至少一種化合物的濃水劑。該試劑盒還提供了用于濃水劑稀釋以形成該溶液的操作指南。

一種含氟清洗液

專利申請號：CN201010277703.0 公開號：CN102399648A

申請日：2010.09.10 公開日：2012.04.04

申請人：安集微電子(上海)有限公司

本發明公開了一種具有低氮氧化硅刻蝕速率的半導體工業用含氟清洗液，該清洗液組合物含有：a)氟化物 0.1%～20%，b)多元醇0.01%～20%，c)水5%～75%，d)溶劑1%～75%，e)其他添加劑0～20%。本發明的清洗液組合物可有效地清洗半導體制造過程中等離子刻蝕殘留物，同時對于基材如低介質材料(SiO2、PETEOS)和一些金屬物質(如Ti，Al，Cu)等具有較低的蝕刻速率；特別是氮氧化硅刻蝕速率較低，從而進一步擴大含氟清洗液的清洗操作窗口，并進一步提高含氟清洗液的使用壽命，降低半導體廠的運營成本，在半導體晶片清洗等微電子領域具有良好的應用前景。

冷卻水處理設備用清洗劑

專利申請號：CN201010279030.2 公開號：CN102399633A

申請日：2010.09.13 公開日：2012.04.04

申請人：張紅濤

本發明公開了一種冷卻水處理設備用清洗劑，由磺基琥珀酸-2-乙基乙酯鈉鹽、乙二醇、苯甲酸、水組成。本發明配方合理，使用效果好，生產成本低。

一種洗潔粉配方

專利申請號：CN201010275472.X 公開號：CN102399653A

申請日：2010.09.08 公開日：2012.04.04

申請人：武生智

一種洗潔粉配方，它涉及一種超強去油污的產品。它的配方組成為：珍珠巖珠光砂5～15kg、乳化劑/表面活性劑5～15kg、電氣石粉5～10kg、護膚劑0.5～1.5kg、天然殺菌劑0.5～1.5kg、水85～75kg；適用于人手、衣物、家庭清洗地板、家具、玻璃、油煙機、廚具等，也適用于汽車維修、機械廠、模具廠、印刷廠、電動車維修等重油污行業去污，還適用于清潔各種不干膠、透明膠、口香糖殘留物及多種其他污漬均有很好的效果。

一種油脂清洗液

專利申請號：CN201110328594.5 公開號：CN102433224A

申請日：2011.10.26 公開日：2012.05.02

申請人：陳瑜

本發明提供了一種油脂清洗液，所述清洗液的組分包括烷基苯磺酸鈉、脂肪醇聚氧乙烯醚、焦磷酸鈉、氫氧化鉀、五水偏硅酸鈉和水。本發明提供的油脂清洗液，可有效地清除肉類及乳品的油污，既適用于肉類加工屠宰及乳品加工行業，也適用于同類食品商店、餐廳及家庭。

一種用于清除樹脂和焊跡的清洗劑

專利申請號：CN201110319827.5 公開號：CN102433226A

申請日：2011.10.20 公開日：2012.05.02

申請人：華陽新興科技（天津）集團有限公司

本發明涉及一種用于清除樹脂和焊跡的清洗劑，其組分及重量配比為：醇醚類溶劑、20～60%、松香類溶劑0～5%、腐蝕抑制劑0.001～0.01%、抗氧劑0.001～0.01%，碳氫溶劑加至100%。本清洗劑具有強的溶解樹脂、焊跡、油污的能力，清洗時間短只需10～15min，對集成線路板無腐蝕，使用過的清洗劑可以蒸餾再生，更重要的是這種環保型樹脂和焊跡清洗劑不含毒性強且對大氣有破壞作用的鹵代烴，是鹵代烴類清洗劑的替代產品。

一種汽車玻璃水

專利申請號：CN201010500169.5 公開號：CN102443492A

申請日：2010.10.08 公開日：2012.05.09

申請人：蔡全喜

本發明公開了一種汽車玻璃水，屬于日用化工領域，按重量份數比：包括六甲基環三硅氧烷10～30份，環氧乙烷12～20份，偏硅酸鈉1～2份，二甲苯磺酸鈉20～30份，烷基醇聚氧乙烯醚22～30份，正癸基二苯醚二磺酸鈉15～19份，十二烷基硫酸鈉12～15份，丁烷基葡萄糖甙5～8份，蘋果香精0.5～0.6份，弱酸藍0.1～0.2份和水25～40份；其配制方法是先把六甲基環三硅氧烷、環氧乙烷、偏硅酸鈉、二甲苯磺酸鈉、烷基醇聚氧乙烯醚、正癸基二苯醚二磺酸鈉、十二烷基硫酸鈉、丁烷基葡萄糖甙放在容器中保持50℃混合均勻，然后加入蘋果香精、弱酸藍混合均勻；該玻璃水清潔性能好，使用方便，實用環保。

地毯去漬劑

專利申請號：CN201010500337.0 公開號：CN102443493A

申請日：2010.09.30 公開日：2012.05.09

申請人：劉世超

本發明公開了一種地毯去漬劑，由下述組分按重量份組成：乙二醇丁醚6～8%、異丙醇2～4%、醋酸2～4%、月桂基硫酸鈉1～3%、AEO-9 12～15%、余量為水。本發明的地毯去漬劑能夠對地毯上的污漬進行清潔，去除咖啡、葡萄酒和茶類污垢，去除油脂污垢效果好。

清洗液組成物

專利申請號：CN201010510281.7 公開號：CN102443495A

申請日：2010.10.13 公開日：2012.05.09

申請人：明德國際倉儲貿易(上海)有限公司

一種清洗液組成物，其包括：(A) 0.1～20份重量的堿金屬氫氧基鹽類化合物；(B) 0.1～30份重量的如下式(I)結構非離子界面活性劑；式(I)其中，R1為氫原子或甲基；R2為氫原子或甲基；n是0至10的整數；m是4至20的整數；(C) 0.1～10份重量的陰離子界面活性劑；(D) 0.1～20份重量的螯合劑；(E) 0.1～20份重量的添加劑；以及(F)其余份重量的水配成100份重量的清洗液組成物。

一種用于清洗煙氣脫硫系統GGH結垢物的中性清洗劑

專利申請號：CN201110209050.7 公開號：CN102296008A

申請日：2011.07.26 公開日：2011.12.28

申請人：西安熱工研究院有限公司

一種用于清洗煙氣脫硫系統GGH結垢物的中性清洗劑，其特征在于：該中性清洗劑按質量百分比含20%～30%的草酸鹽或水楊酸鹽、0.1%的助溶劑滲透劑JFC、0.3%～0.5%的緩蝕劑TP-1、0.05%～0.1%表面活性劑OP-10，余量為水。本發明的有機酸鹽能夠溶解、疏松、膨化GGH換熱片上形成的堅硬結垢物；助溶劑能夠促進有機酸鹽對結垢物的溶解；緩蝕劑能夠減緩清洗劑對GGH鋼質框架及GGH換熱片表面搪瓷的腐蝕損壞；表面活性劑用于降低清洗劑的表面張力，增強清洗劑對結垢物的浸潤性能。

有機硅環保清潔劑及其制備方法

專利申請號：CN201010218404.X 公開號：CN102296005A

申請日：2010.06.24 公開日：2011.12.28

申請人：威海賽奧新材料科技有限公司

本發明公開了一種非耗臭氧型有機硅環保清潔劑，主要成份為有機硅氧烷。該清潔劑具有優良的清洗能力，ODP值為0，能取代HCFC-141B、CFC-113、HCFC-225等溶劑，可應用于精密金屬零件、精密光學部件、塑膠部件、電子元件等的脫脂清洗，同時它們也是油類、潤滑劑、涂料和有機硅聚合物的良好溶劑。本發明同時公開了一種有機硅環保清潔劑的制備方法。

五氟丙烷、氯三氟丙烯和氟化氫的類共沸組合物

專利申請號：CN201080005963.0 公開號：CN102300975A

申請日：2010.01.26 公開日：2011.12.28

申請人：美國霍尼韋爾國際公司

本發明涉及基本由有效量1，1，1，3，3-五氟丙烷、1-氯-3，3，3-三氟丙烯和氟化氫組成的三元類共沸混合物。

一種用于清洗離子交換樹脂機油污染的清洗劑

專利申請號：CN201110209265.9 公開號：CN102296002A

申請日：2011.07.26 公開日：2011.12.28

申請人：湖北省電力公司電力試驗研究院

本發明提供一種用于清洗離子交換樹脂機油污染的清洗劑。所述清洗劑由以下重量百分比的物質組成：3%～8%十二烷基苯磺酸鈉、1%～4%辛基酚聚氧乙烯醚、0%～2%椰子油脂肪酸二乙醇酰胺、0.75～3%脂肪醇聚氧乙烯醚、0.005%～0.015%有機硅消泡劑、0.5%～2%氯化鈉、0.5%～2%助劑A、0.5%～2%助劑B、余量為水。本發明的清洗劑中含有陰離子表面活性劑和非離子型表面活性劑復配有各種助劑，一方面能徹底清洗離子交換樹脂表面的油污，還能洗除離子交換樹脂孔內吸附的油污，恢復離子交換樹脂的交換功能，同時配方中考慮有使離子型的表面活性劑不會二次污染離子交換樹脂。