摘 要:為了解決生產(chǎn)過程中需反復(fù)測量磁頭潤滑油飽和厚度的問題,結(jié)合原子力學(xué)顯微鏡(AFM),做反復(fù)動態(tài)測試,測試表明,在2.5 nm以內(nèi),磁頭讀寫磁碟數(shù)據(jù)處,潤滑油飽和厚度與該處距磁碟中心長度呈好的線性關(guān)系.2.5 nm以外到磁碟邊緣,采用改進(jìn)歐拉算法處理數(shù)據(jù),發(fā)現(xiàn)潤滑油飽和厚度的計算值和實際值的差值與該處距磁碟中心長度也呈線性關(guān)系.對實驗結(jié)果誤差進(jìn)行了理論分析和實際驗證,結(jié)果表明,由于空氣流壓力以及磁碟邊緣磁隙引發(fā)的局部磁泄,磁頭邊緣潤滑油飽和厚度很難預(yù)測.
關(guān)鍵詞:磁頭;潤滑油飽和厚度;原子力學(xué)顯微鏡;動態(tài)測試
中圖分類號:TN304.7 文獻(xiàn)標(biāo)識碼:A
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