過氧化聚吡咯修飾金電極研究全氟化合物對脫氧核糖核酸的損傷
2011-04-12 00:00:00魯理平王飛康天放程水源王玉婷
分析化學 2011年3期
摘 要 金電極在含有1．0 mol/L KCl的0．1 mol/L吡咯溶液中， －0．3～0．8 V循環掃描10圈制備了聚吡咯膜，在1．2 V進行過氧化處理，得到聚吡咯微孔膜，并將雙鏈小牛胸腺DNA沉積在膜的微孔內，利用差分脈沖技術以亞甲基藍（MB）為電化學指示劑研究了新型有機污染物全氟辛烷磺酸（PFOS）對DNA的損傷。結果表明隨著損傷時間的增加，MB還原峰電流減小，表明PFOS與DNA的相互作用阻礙了堿基鳥嘌呤G與MB的結合；同時電極的表面電子傳遞電阻從650增大到1350，表明PFOS對DNA的損傷降低了DNA的電子傳遞性能。該DNA傳感器為研究污染物的毒理提供了新思路。
關鍵詞 脫氧核糖核酸； 聚吡咯； 全氟辛烷磺酸； 化學修飾電極
