王春波,李金蓮,張正洋,陳雪紅,韓彥弢
(1.青島大學醫學院藥理學教研室,山東青島 266071;2.濱州醫學院機能學實驗室,山東煙臺 264003)
一氧化氮(NO)是細胞在應激狀態下產生的高反應自由基。紫外線照射皮膚生成的NO參與了黑色素的產生、紅斑形成、免疫抑制以及光老化[1]。作為重要的細胞內信使,紫外線照射角質形成細胞后NO何時開始產生,又是如何隨時間而變化,尚未可知。本文采用電子自旋共振(electron spin resonance,ESR)技術,從生物物理角度直接檢測NO的動態釋放過程,并對其產生機制進行分析。同時,探討海洋天然抗氧化劑扇貝多肽(polypeptide from Chlamys farreri,PCF)對紫外線照射后NO動態釋放及HSP70表達的影響,從NO的角度闡述扇貝多肽抗紫外線損傷機制。
1.1 主要試劑和器材PCF由中國水產科學研究院黃海水產研究所分離純化;DMEM培養基為Gibco產品;iNOS抗體、HSP70抗體購自武漢博士德生物工程有限公司;β-actin抗體購自北京博奧森;iNOS抑制劑SMT購自碧云天生物技術研究所;紫外輻照儀由北京師范大學光電儀器廠制造;ER200DSRC ESR波譜儀為德國Bruker公司產品。
1.2 細胞培養與UVB照射人角質形成細胞HaCaT由韓國延世大學醫學院惠贈。用DMEM完全培養基,置于37℃,含體積分數為5%CO2的培養箱中常規培養。UVB(20 mJ·cm-2)照射時棄去培養基,用PBS漂洗2次,加入2 ml PBS覆蓋細胞。照射結束后棄去PBS,加入培養基進行常規培養。對照組照射時用鋁箔蓋住,其余同處理組。
1.3 電子自旋共振(electron spin resonance,ESR)檢測NO釋放量取5×107細胞,消化后離心,用0.2 mol·L-1的磷酸 HEPES 緩沖液(0.038 mol·L-1NaH2PO4,0.162 mol·L-1Na2HPO4,0.01 mmol·L-1EDTA,10 mmol·L-1HEPES,0.32 mol·L-1蔗糖,5 mmol·L-1巰基乙醇,10 mmol·L-1PBN,體積分數為 0.005的吐溫 80,2 mmol·L-1DETAPAC)冰浴勻漿,4℃、12 000r·min-1離心 10 min;取上清 1.4 ml,分別加入 0.5 mol·L-1Na2S2O4,0.6 mol·L-1DETC,10 mmol·L-1L-Arg,0.3 mol·L-1FeSO4各 30 μl,37℃水浴 30 min;迅速放于冰上,加入 300 μl乙酸乙酯,渦旋振蕩 15 s,4℃、12 000 × g離心8 min,取上層有機相用于ESR測定。測試條件:中心磁場3 385G,掃寬400 G,功率20 mW,放大倍數4×105。
1.4 Western blot檢測 iNOS、HSP70 蛋白表達將細胞用預冷PBS沖洗3次,棄去PBS后將培養板置于冰上,每孔加入100 μl裂解液,冰上裂解30 min,迅速將細胞刮下置于離心管中,12 000 r·min-1離心10 min,收集上清,測蛋白質濃度。每孔上樣約40 μg蛋白質,SDS-PAGE電泳;蛋白質轉移至硝酸纖維素膜上,封閉液室溫封閉1 h;加入一抗4℃孵育過夜;TBST洗滌3次后加入HRP標記的羊抗兔IgG二抗,室溫孵育1 h;TBST洗膜3次后以二氨基聯苯胺(DAB)顯色。
1.5 統計學分析用SPSS 12.0軟件進行單因素方差分析及q檢驗。
2.1 UVB照射HaCaT細胞后NO的釋放及PCF對釋放的影響待細胞融合至0.60~0.80時進行UVB 照射,照射后 1、3、12、18、24 及 30 h 分批次收集細胞。PCF組于照射前2 h加入2.84 mmol·L-1PCF。ESR檢測NO的釋放,NO釋放量以3個NO釋放波峰值的平均值表示。結果如Fig 1所示,UVB照射后1 h NO釋放即開始增加,3 h達高峰,12 h時釋放減少但仍明顯高于對照組(P<0.01),18 h時NO釋放量又開始增加,24 h時達第二峰值,30 h時下降。PCF組與相應各時間點的UVB照射組比較NO釋放量均明顯減少(P<0.05,P<0.01)。
2.2 UVB照射HaCaT細胞后iNOS表達的經時變化UVB 照射后 0.5、1、3、6、12、18、24 h 分批次收集細胞,Western blot檢測iNOS蛋白表達。結果如Fig 2所示,UVB照射后6 h iNOS蛋白表達開始逐漸升高,18~24 h達到高峰。

Fig 1 Effect of PCF on NO release of HaCaT cells after UVB radiation(±s,n=3)

Fig 2 The changes of iNOS protein expression after UVB radiation in HaCaT cells
2.3 iNOS抑制劑對UVB照射HaCaT細胞后NO釋放的影響實驗分為正常對照組(3、24 h)、UVB照射組(3、24 h)及 iNOS抑制劑組(3、24 h)。待細胞融合至0.60~0.80時進行UVB照射,iNOS抑制劑組于照射前2 h加入1 mmol·L-1SMT。ESR檢測NO的釋放,從Fig 3可以看出,iNOS抑制劑3 h組NO的釋放量與UVB照射3 h組相比無差別,24 h時,iNOS抑制劑組與UVB組相比NO的釋放明顯減少(P<0.01)。
2.4 PCF對HaCaT細胞HSP70蛋白表達的影響細胞分組如下:正常對照組、UVB模型組、UVB+1.42 mmol·L-1PCF 組(PCF1)、UVB+2.84 mmol·L-1PCF 組(PCF2)、UVB+5.69 mmol·L-1PCF組(PCF3)。PCF組于照射前2 h分別加入各劑量PCF,照射后 12 h收集細胞,Western blot檢測HaCaT細胞中HSP70蛋白表達。蛋白表達水平以HSP70與β-actin光密度比值表示。結果如Fig 4所示,與對照組相比,UVB組HSP70表達明顯升高,各劑量PCF組HSP70表達較UVB組明顯升高且呈劑量依賴關系(P<0.05)。

Fig 3 Effect of iNOS inhibitor on NO release after UVB radiation in HaCaT cells

Fig 4 Effect of PCF on UVB-induced HSP70 expression in HaCaT cells(±s,n=3)
ESR技術直接檢測UVB照射HaCaT細胞后NO的經時釋放情況,結果發現,20 mJ·cm-2的UVB照射早期NO的產生即開始增多,在1 h及3 h時出現高峰,12 h則下降并且在18 h又逐漸增多,24 h達第二次高峰。UVB是如何引起NO產生增多的?眾所周知,iNOS可催化L-精氨酸合成NO。本研究顯示,在UVB照射后6 h,HaCaT細胞內的iNOS蛋白開始表達,并逐漸升高,18~24 h達高峰。與NO經時釋放情況相比較發現,NO產生的第2次高峰期(24 h)與iNOS高表達的時間點一致,說明NO釋放的第2次高峰可能是由UVB照射后iNOS表達的增加引起。但在NO的第1次釋放高峰期(1~3 h)未檢測到iNOS的高表達,那么此時細胞中的NO是如何產生的呢?有研究指出[2],雖然皮膚細胞中的NO是由NOS催化產生的,但是在UVA輻射后,也能以非NOS依賴的形式氧化并釋放大量NO。因此可以推測,在UVB損傷初期,HaCaT細胞可能通過非iNOS途徑生成NO,例如其他酶催化的亞硝基或其他含氮化合物的氧化。采用iNOS抑制劑SMT預孵育細胞可明顯減少24 h時NO的釋放量,但對3 h時NO的釋放無影響,此結果進一步驗證了上述推測的可能性。
PCF作為一海洋天然抗氧化劑,其抗紫外線氧化損傷的作用已得到證實[3-4]。在本研究中,與PCF預孵育的HaCaT細胞經UVB照射后,在各時間點NO的釋放量均低于模型組,表明PCF可有效抑制NO的釋放。UVB照射后期PCF對NO釋放的影響可能與其抑制iNOS的表達[5],從而抑制NO的生成有關,但其對UVB照射早期NO的抑制作用表明,PCF還可能通過其他途徑抑制NO的釋放,尚待進一步的研究。
熱休克蛋白(heat shock protein,HSP)是一組結構上高度保守的多肽,環境中各種有害刺激可誘導HSP的產生而啟動細胞內源性保護機制。研究發現[6],HSP70高表達能有效抑制UVC誘導的A549細胞DNA損傷,抑制UVB誘導的黑色素瘤細胞caspase-3活化及 PARP的裂解,從而抑制凋亡[7]。本研究中,經20 mJ·cm-2的UVB損傷HaCaT細胞后,HSP70表達水平明顯升高,說明UVB在誘導DNA損傷和細胞凋亡的同時也通過促進HSP70基因表達而產生細胞內適應性保護機制。在UVB照射前分別加入各劑量PCF,HaCaT細胞HSP70的表達與UVB照射組相比均增加,說明PCF可通過上調HSP70的表達而起到保護作用。
Kiang等[8-9]研究認為,HSP70 能夠與轉錄因子KLF6結合形成復合物,減少KLF6與iNOS啟動子的結合,從而降低了iNOS蛋白表達、抑制NO的產生而對細胞起保護作用。本實驗室前期研究已證實,PCF可有效抑制UVB誘導的HaCaT細胞iNOS表達[5],綜合本次實驗結果可以推測,PCF可能通過增強UVB照射后HSP70的表達,進而抑制iNOS蛋白表達、減少NO的生成而保護HaCaT細胞免受UVB輻射損傷。
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