第十一屆等離子基離子注入與沉積國際會議征稿通知
2011-02-14 20:27:49
中國有色金屬學報 2011年3期
第十一屆等離子基離子注入與沉積國際會議(The 11th International Workshop on Plasma-based Ion Implantation & Deposition, PBII&D 2011)將于2011年9月8～12日在黑龍江省哈爾濱市舉行，同時舉行產品展覽。歡迎大家積極投稿，同時歡迎各參展單位聯系展覽。會議組織單位為哈爾濱工業大學和先進焊接與連接國家重點實驗室等。
會議的主要內容包括：等離子基離子注入與沉積（PBII&D）；高功率脈沖磁控濺射（HPPMS）；等離子基離子注入與沉積系統；等離子基離子注入與沉積工業應用；等離子基離子注入與沉積相關等離子體診斷；半導體處理；建模和理論研究；等離子基離子注入與沉積制備納米結構；生物材料；等離子基離子注入與沉積材料表面加工與分析；DLC和聚合物處理；等離子體和離子源；與PBII相關的IBAD、離子注入和等離子體氮化等。
會議所收論文及摘要均需以英文撰寫，會議所收錄的論文將以專刊的形式發表在SCI收錄的國際期刊（SCT和NIMB）中，具體要求見會議網站或聯系秘書處。
電話: 0451-86418784； 傳真: 0451-86418784
E-mail: PBIID2011@163.com；wuzhongzhen2003@163.com
Web: www.pbiid2011.org
