處理電壓對鈦合金微弧氧化膜相結(jié)構(gòu)的影響

摘要：在Na₂CO₃—Na₂SiO₃溶液中，采用正負(fù)不對稱的專用交流高壓電源制備了鈦合金微弧氧化膜．利用X射線衍射研究了處理參數(shù)(陰、陽極峰值電壓，處理時間等)對微弧氧化膜相結(jié)構(gòu)的影響．實驗結(jié)果表明，氧化膜主要由金紅石和銳鈦礦的TiO₂及少量不飽和氧化的Ti₆O₁₁(TiO_1.83)相組成，它們在氧化膜中各自所占的比例受處理時間和陰、陽極峰值電壓的影響較大．當(dāng)陰、陽極峰值電壓分別控制在45V和320V，處理時間為30min時，氧化膜中金紅石了10：的含量最高，達(dá)到80％．

關(guān)鍵詞：微弧氧化；鈦合金；處理電壓；相結(jié)構(gòu)

中圖分類號：TC174．53

文獻(xiàn)標(biāo)識碼：A

文章編號：1671-5489(2005)02-0190—04