在不同退火溫度下射頻磁控濺射CNx膜的電子場發射性質
2005-04-29 00:00:00李哲奎李俊杰金曾孫呂憲義白曉明鄭冰田宏偉于狹升
吉林大學學報(理學版) 2005年2期
摘要：對磁控濺射沉積得到的CNx膜在不同溫度下進行真空退火，退火前后CNx膜的化學鍵合采用X射線光電子能譜表征．結果發現，沉積的CNx膜中氮原子與sp，sp2，sp3雜化碳原子相鍵合，并對經過退火的CNx膜的鍵合結構和電子場發射特性的影響進行了研究．
關鍵詞：射頻磁控濺射；CNx膜；退火溫度；電子場發射
中圖分類號：O484．5
文獻標識碼：A
文章編號：1671-5489(2005)02-0182—03
