襯底溫度對ＮｉＴｉ薄膜晶化溫度的影響
2005-04-29 00:00:00陶艷春李永華徐躍孟繁玲鄭偉濤邵振杰趙江
吉林大學學報(理學版) 2005年2期
摘要：采用直流磁控濺射方法，制備出沉積在不同溫度襯底上的NiTi薄膜．應用X射線衍射、小角X射線散射和差熱掃描量熱法研究了兩種襯底溫度(室溫和573K)濺射的NiTi合金薄膜晶化溫度和在763 K退火1 h的晶化程度．
關鍵詞：NiTi薄膜；晶化溫度；差熱掃描量熱法
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中圖分類號：O484．4
文獻標識碼：A
文章編號：1671—5489(2005)02-0197-04
