ASML全新光刻機準備中：沖擊2nm工藝

對于芯片廠商而言，光刻機顯得至關重要，而ASML也在積極布局新的技術。截至 2022 年第一季度，ASML已出貨136個EUV系統，約7000萬個晶圓已曝光。

按照官方的說法，新型號的EUV光刻機系統 NXE：3600D將能達到93%的可用性，這將讓其進一步接近DUV光刻機（95%的可用性）。數據顯示，NXE：3600D系統每小時可生產160個晶圓 （wph），速度為30mJ/cm，這比 NXE：3400C高18%。正在開發的 NXE：3800E系統最初將以30mJ/cm的速度提供超過195wph的產能，并在吞吐量升級后達到220wph。

根據ASML 在第一季度財務會議上披露的數據，公司的目標是在2022年出貨55臺EUV系統，并到2025年實現（最多）90臺工具的計劃。ASML同時還承認，90臺可能超過2025年的實際需求，不過他們將其描述為為滿足2030年1萬億美元半導體行業需求所做出的巨大努力。

按照之前的說法，ASML正在研發新款光刻機，價值高達4億美元（約合26億元人民幣），雙層巴士大、重量超過200噸。原型機預計2023年上半年完工，2025年首次投入使用，2026年到2030年作為主力出貨。這款機器應該指的就是High-NA EXE：5200（0.55NA），Intel是全球第一個下單的公司。所謂High-NA也就是高數值孔徑，2nm之后的節點都得依賴它實現。