雙面打磨機床的設計與制作

周 吉，金超煥，陳 慧

（臨海市中等職業技術學校，浙江臺州 317000）

1 雙面打磨機床背景技術

剎車盤是一個圓的制動盤子，車子行進時它也是轉動的，制動卡鉗夾住剎車盤而產生制動力，踩剎車時就是它夾住剎車盤起到減速或者停車的作用。剎車盤制動效果好，且比鼓形剎車更易維護。

在剎車盤磨損之后，一般需要對表面毛刺進行打磨修復，但傳統打磨裝置多只能通過機床夾持后單面打磨，打磨后再次反轉進行二次打磨，加工修復效率較低，并且加工夾具夾持穩定性較低，定位容易出現偏差，影響到剎車盤的加工打磨效果。

但是，由于剎車片的打磨精度要求高，需要采用類“8”字形的打磨方法進行打磨提高精度，較文獻公開的常規打磨方式精度低。

2 雙面打磨機床發明內容及技術方案

2.1 技術方案

這種雙面打磨機床，除了加工臺及安裝立柱（安裝立柱鄰設于加工臺一側），還有以下5 種主要機構。

（1）液壓機構。液壓機構安裝于安裝立柱的頂部、位于加工臺的正上方，用于壓緊定位加工臺上待打磨加工的剎車片。

（2）載料機構。載料機構安裝于加工臺上，用于承載剎車片且帶動剎車片旋轉。

（3）上打磨機構。上打磨機構安裝于加工臺的正上方，由液壓機構帶動升降設置，且該上打磨機構包括沿剎車片的徑向滑動設置的上打磨片（上打磨片用于打磨剎車片的上端面）。

（4）下打磨機構。下打磨機構安裝于加工臺上，包括沿剎車片的徑向滑動設置的下打磨片（下打磨片用于打磨所述剎車片的下端面）。

（5）側打磨機構。側打磨機構安裝于加工臺上，分設于剎車片徑向的兩側，且該側打磨機構用于打磨剎車片的側壁。

2.2 改進方案

2.2.1 液壓機構

（1）液壓缸。液壓缸豎直安裝于安裝立柱的頂部，該液壓缸豎直向下推送。

（2）升降板。升降板沿豎直方向通過滑塊副滑動安裝于安裝立柱上，與液壓缸的推桿固定連接。

（3）旋轉主軸。旋轉主軸豎直安裝于升降板上，其下端部安裝有壓蓋、用于壓緊剎車片的上部，且該壓蓋上貫穿設置有若干的通孔。

2.2.2 載料機構

（1）電主軸。電主軸豎直安裝于加工臺上，與旋轉主軸同軸設置。

（2）載料盤。載料盤安裝于電主軸上，由電主軸帶動旋轉，用于承載剎車片，載料盤上設置與通孔穿插配合的導柱。

2.2.3 上打磨機構

（1）上磨盤。上磨盤與旋轉主軸同心設置，通過導桿組安裝于升降板上，且該上磨盤與導桿組安裝連接部位設置有彈性調整組。上磨盤上沿周向等距設置有若干上滑槽，上滑槽均指向上磨盤的圓心。

（2）上卡合塊。上卡合塊與上打磨片一一對應地安裝連接設置，沿上滑槽滑動設置。

（3）上拉桿。上拉桿與上卡合塊一一對應地安裝連接設置，均指向上磨盤的圓心的端部設置有上導軸。

（4）上導向圓盤。上導向圓盤安裝于旋轉主軸上，隨旋轉主軸同步旋轉，且該上導向圓盤上開設有用于與上導軸配合的花形設置的上導槽。

2.2.4 下打磨機構

（1）下磨盤。下磨盤與電主軸同心設置，通過支撐柱安裝于加工臺上，且該下磨盤與支撐柱之間設置有彈性調節件，下磨盤沿周向等距設置有若干下滑槽，該下滑槽均指向下磨盤的圓心。

（2）下卡合塊。下卡合塊與下打磨片一一對應安裝連接設置，下卡合塊沿下滑槽滑動設置。

（3）下拉桿。下拉桿與下卡合塊一一對應安裝連接設置，均指向下磨盤的圓心的端部設置有下導軸。

（4）下導向圓盤。下導向圓盤安裝于電主軸上，隨電主軸同步旋轉，其上開設有用于與下導軸配合的花形設置的下導槽。

3 雙面打磨機床具體實施方式

在本發明的描述中，需要理解的是，術語“中心”“縱向”“橫向”“長度”“寬度”“厚度”“上”“下”“前”“后”“左”“右”“豎直”“水平”“頂”“底”“內”“外”“順時針”和“逆時針”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本發明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的設備或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本發明的限制。

除了加工臺及安裝立柱（安裝立柱鄰設于所述加工臺一側），該雙面打磨機床還包括：液壓機構，安裝于安裝立柱的頂部，位于加工臺的正上方，用于壓緊定位加工臺上待打磨加工的剎車片；載料機構，安裝于加工臺上，用于承載所述剎車片，且帶動所述剎車片旋轉；上打磨機構，安裝于加工臺的正上方，由液壓機構帶動升降設置，且該上打磨機構包括沿剎車片的徑向滑動設置的上打磨片，上打磨片用于打磨所述剎車片的上端面；下打磨機構安裝于加工臺上，包括沿剎車片的徑向滑動設置的下打磨片，下打磨片用于打磨剎車片的下端面；側打磨機構安裝于加工臺上，分設于剎車片徑向的兩側，且該側打磨機構用于打磨剎車片的側壁（圖1～圖3）。

圖1 立體結構

圖2 剖視結構

圖3 剎車片裝夾狀態剖視結構

4 小結

以上所述僅為本發明的較佳實施案例，并不用以限制本發明，凡在本發明的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本發明的保護范圍之內。