基于不同氣體和壓力下通道型正壓標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的分析

劉燚 劉貝貝 周宇仁 莊煒杰 鄔昕 胡馨丹 / 上海市計(jì)量測(cè)試技術(shù)研究院

0 引言

隨著科技的迅速發(fā)展，通道型標(biāo)準(zhǔn)漏孔廣泛應(yīng)用于電子器件、制冷、航空航天等工業(yè)領(lǐng)域[1]。通道型標(biāo)準(zhǔn)漏孔根據(jù)出口端壓力是真空或是大氣壓，可以分為真空漏孔和正壓標(biāo)準(zhǔn)漏孔[2]。通道型正壓標(biāo)準(zhǔn)漏孔出口端壓力為大氣壓，進(jìn)口端壓力高于大氣壓，影響通道型正壓標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率值的因素主要有氣體類型和進(jìn)口端壓力以及氣體的溫度[3,4]。不同氣體類型對(duì)漏孔的漏率值有很大影響，有學(xué)者使用真空標(biāo)準(zhǔn)漏孔在H2、He、D2三種氣體以及不同的入口端壓力下研究了本底漏率對(duì)校準(zhǔn)漏孔漏率的影響，發(fā)現(xiàn)漏孔漏率與氣體黏度成反比這一結(jié)論[5]。與此同時(shí)，研究者用N2和He2兩種氣體對(duì)同一個(gè)金屬壓扁型正壓漏孔的漏率進(jìn)行了不同壓力下的研究，并根據(jù)黏滯流-分子流理論對(duì)結(jié)果作了修正[6]。此外，還有學(xué)者研究了同一氣體在多種壓力下金屬壓扁型正壓漏孔漏率隨壓力的變化，并推導(dǎo)出正壓漏孔漏率隨壓力變化的修正公式。

以往的研究主要集中于分析真空標(biāo)準(zhǔn)漏孔或金屬壓扁型正壓漏孔在不同壓力以及H2、He、D2或He2等氣體類型下漏率值隨壓力的變化，而使用高純空氣對(duì)通道型正壓標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率隨壓力的變化研究較少。本文主要采用高純空氣和高純氮?dú)庖约案呒兒夥謩e研究在不同壓力條件下漏率值隨壓力的變化，并將三種氣體在同一壓力條件下所得的漏率值作了比較分析。……