閥門及氣相沉積設備

申請(專利)號：CN202211093253.9

公開(公告)日：2022-10-11

申請(專權)人：拓荊科技(上海)有限公司

摘要：本發明涉及一種閥門，以及一種氣相沉積設備。所述閥門安裝于反應腔體的上蓋板的上表面，并包括進氣口、第一出氣口及第二出氣口。所述進氣口經由進氣管道連接氣源。所述第一出氣口經由第一出氣管道連接排氣通道。所述第二出氣口經由所述上蓋板連通到其下方的氣相沉積反應腔體。通過采用該結構，所述閥門能夠快速切換反應氣體的流向，以滿足高精度控制薄膜厚度的實時性需求和穩定性需求。