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含氟復(fù)合偶聯(lián)劑對聚四氟乙烯基微波復(fù)合介質(zhì)基板性能的影響

2022-02-08 01:03:22張立欣韓伏龍劉雨川
重慶理工大學學報(自然科學) 2022年12期
關(guān)鍵詞:復(fù)合材料

張立欣,武 聰,韓伏龍,龍 金,劉 嵐,劉雨川

(1.中國電子科技集團公司第四十六研究所, 天津 300220;2.華南理工大學 材料科學與工程學院, 廣州 510000)

0 引言

隨著集成電路的發(fā)展與應(yīng)用,電子產(chǎn)品的小型化、輕量化和高性能化對微波復(fù)合介質(zhì)基板材料提出了更高的要求,進而孕育出高介微波復(fù)合介質(zhì)基板。聚四氟乙烯樹脂(PTFE)因具備高對稱性的分子結(jié)構(gòu),在高頻狀態(tài)下展現(xiàn)出良好的介電特性,是5G用高頻微波復(fù)合基板理想的基體材料[1-4]。但由于自身熱膨脹系數(shù)大、強度低等因素,限制了其應(yīng)用。近幾年來,以陶瓷作為填料的PTFE基微波介質(zhì)基板憑借介電常數(shù)可調(diào)、熱膨脹系數(shù)低、可靠性高和加工性能良好受到廣泛關(guān)注,形成介電常數(shù)2.94、6.16和10.2相關(guān)產(chǎn)品[5-11]。目前高介微波介質(zhì)基板填料包括氧化物型(如TiO2)、鈣鈦礦型(如CaTiO3)和復(fù)合鈣鈦礦型陶瓷粉(如BZN、Sr2Ce2Ti5O16)[12-15]。Rajesh等[16]采用金紅石TiO2作為填料,進行PTFE高介基板的制備,最終在67% TiO2含量下獲得了介電常數(shù)10.2、損耗因子0.002 2、介電常數(shù)溫度系數(shù)-400×10-6/℃的高介復(fù)合介質(zhì)基板。Rajesh等[17]采用擠出壓延工藝制備出CaTiO3陶瓷粉填充PTFE復(fù)合介質(zhì)材料,并在61%填料含量下獲得介電常數(shù)11.8、損耗因子0.003 6、介電常數(shù)溫度系數(shù)-445×10-6/℃的高介復(fù)合材料。相對于氧化物型和鈣鈦礦型填料,復(fù)合鈣鈦礦型陶瓷粉具有更優(yōu)異的介電常數(shù)溫度系數(shù),更適合高介微波復(fù)合介質(zhì)板。Wu等[18]制備了ZrTi2O6/PTFE復(fù)合材料,并在50%填料量下獲得介電常數(shù)7.1、介電常數(shù)溫度系數(shù)-89×10-6/℃的高介材料。

由于陶瓷粉與PTFE表面狀態(tài)差異性大,傳統(tǒng)工藝常采用偶聯(lián)劑改性提高陶瓷粉填料和PTFE樹脂間的界面相容性。Murali等[19]研究發(fā)現(xiàn),使用硅烷偶聯(lián)劑改性陶瓷填料-PTFE復(fù)合體系能夠改善兩者間的界面結(jié)合特性,同時有助于提高復(fù)合材料介電性能以及吸水率等性能指標。Qi等[20]采用乙烯基硅烷偶聯(lián)劑處理Ba(Mg1/3Nb2/3)O3陶瓷粉,提高陶瓷粉的分散性能和PTFE浸潤性能。童忠良[21]認為,復(fù)合偶聯(lián)劑由于存在協(xié)同效應(yīng),改性效果比單一偶聯(lián)劑效果好,更有利于改善界面結(jié)合強度。Luo等[22]研究了含氟偶聯(lián)劑對Li2Mg3TiO6/PTFE性能的影響,發(fā)現(xiàn)采用氟偶聯(lián)劑改性后,復(fù)合材料致密度和吸水率等性能指標大幅提高。

本文采用PTFE樹脂為基體,鈣鈦礦型陶瓷粉為填料,通過基片成型和熱壓燒結(jié)方法進行復(fù)合材料的制備,并系統(tǒng)研究了復(fù)合偶聯(lián)劑中含氟硅烷偶聯(lián)劑含量對PTFE基微波復(fù)合材料的微觀結(jié)構(gòu)、致密度、吸水率、銅箔剝離強度以及介電性能的影響。

1 實驗材料及方法

PTFE樹脂采用日本大金公司固含量為60%的D-210型PTFE乳液。陶瓷粉采用介電常數(shù)為92~100、粒徑D50約1.5 μm、純度大于99%的復(fù)合鈣鈦礦型高介陶瓷粉。偶聯(lián)劑采用阿拉丁試劑公司十七氟癸基三甲氧基硅烷(氟基偶聯(lián)劑)和 γ-氨丙基三乙氧基硅烷(氨基偶聯(lián)劑)。

目前,介電常數(shù)為10.2的微波復(fù)合介質(zhì)基板是市場上的主流高介產(chǎn)品,基于此本研究主要開展介電常數(shù)為10.2型微波復(fù)合介質(zhì)基板的研究。具體制備方法:首先,將陶瓷粉在乙醇溶液中混合60 min,之后將計算好(表1)的復(fù)合偶聯(lián)劑放入溶液中繼續(xù)混合60 min。將混合后漿料放入球磨機球磨30 min后,80 ℃烘干4 h,并過60目篩網(wǎng),獲得復(fù)合偶聯(lián)劑改性的陶瓷粉;然后,將37%PTFE+63%改性陶瓷粉在加熱平臺上邊烘干邊高速攪拌,混合120 min,形成“面團”狀胚體,采用成型儀器將胚體反復(fù)成型,制成厚度約1.0 mm的生基片;最后,將數(shù)層生基片疊成一定厚度,雙面覆以銅箔,放置高溫真空層壓機中,在380 ℃和20 MPa條件下熱壓燒結(jié),制得微波復(fù)合介質(zhì)基板。

實驗過程中主要研究復(fù)合偶聯(lián)劑中氟基含量的變化對介質(zhì)基板性能的影響。板材中氟基偶聯(lián)劑含量分別為0%、0.1%、0.2%、0.3%和0.4%。

表1 不同樣品偶聯(lián)劑組分

采用德國蔡司公司SUPPRA 55VP場發(fā)射掃描電鏡分析微觀形貌;采用德國馬爾文Mastersizer 2000型激光粒度儀測試陶瓷粉粒徑;采用阿基米德排水法測量基板密度;采用IPC-TM-650 2.6.2方法測試復(fù)合基板材料的吸水率測試;采用WDW-50型萬能拉力機測試基板的剝離強度;采用美國Agilent公司網(wǎng)絡(luò)分析儀配合帶狀線測試夾具對樣品在X波段(8~12 GHz)的介電常數(shù)和介電損耗進行測試。

2 結(jié)果與討論

圖1為不同含氟基含量的復(fù)合材料斷面SEM圖像。可以看出,陶瓷粉均勻地分散在PTFE中,并未出現(xiàn)團聚。從圖2(a)中可以看出,當氟基偶聯(lián)劑含量為0%時,復(fù)合材料間存在微小縫隙,有機-無機界面清晰可見;當氟基偶聯(lián)劑含量為0.1%時,PTFE與陶瓷粉間浸潤性提高,結(jié)合性有所改善,見圖2(b);而當氟基偶聯(lián)劑含量為0.3%時,此時復(fù)合材料發(fā)生明顯變化,PTFE幾乎全部包覆在陶瓷粉周圍,有機與無機界面消失,說明隨著含氟偶聯(lián)劑含量的提高,復(fù)合材料有機-無機相間結(jié)合更加緊密,基體致密度顯著提高。

圖1 不同含氟偶聯(lián)劑含量制備基板SEM斷面圖

圖2 陶瓷粉粒度分布圖

圖3為氨基偶聯(lián)劑分子結(jié)構(gòu)式。氨基中的N原子含有1個未共享電子對和sp3雜化的價軌道,正四面體的分子構(gòu)型。在復(fù)合體系中,聚四氟乙烯表面的氟原子會對氨基N的未共享電子產(chǎn)生排斥,使其遠離氟原子,而氨基中H原子受到F原子的吸引,并接受F原子表面的未共享電子對,從而形成分子間氫鍵,大大減少與聚四氟乙烯表面之間的排斥力,提高有機-無機界面結(jié)合強度。

圖3 氨基偶聯(lián)劑分子結(jié)構(gòu)式

圖4為氟基偶聯(lián)劑分子結(jié)構(gòu)式。對于氟基偶聯(lián)劑,其C-F基團與PTFE中C-F基團極為相似,因而在混合過程中,根據(jù)相似相容原理,采用含氟偶聯(lián)劑復(fù)合改性陶瓷粉與PTFE具有更好的相容性。

圖4 氟基偶聯(lián)劑分子結(jié)構(gòu)式

采用氟氨基復(fù)合偶聯(lián)劑改性的陶瓷粉,在熱壓燒結(jié)階段,氟基中C-F鍵相容性對陶瓷粉與熔融PTFE間的浸潤性的提高要優(yōu)于氨基中氫鍵作用,而隨著氟基偶聯(lián)劑含量的增加,這種效果更加明顯,因而當氟基含量達到0.3%時,有機-無機界面消失,PTFE完全包覆陶瓷粉周圍,提高基體致密度。

圖5為復(fù)合材料試樣密度與氟基偶聯(lián)劑含量的關(guān)系曲線。可以看出,隨著氟基偶聯(lián)劑含量的增加,試樣的密度呈現(xiàn)增大趨勢,材料的致密性增強。當不含氟基偶聯(lián)劑時,PTFE與改性陶瓷粉主要利用分子間氫鍵作用,提高界面結(jié)合強度,而引入氟基偶聯(lián)劑后,PTFE與改性陶瓷粉間相容性增強,在分子間氫鍵的協(xié)同作用下復(fù)合材料致密度實現(xiàn)進一步提高,該結(jié)果與微觀形貌分析一致。當氟基偶聯(lián)劑含量為0.4%時,基板密度達到3.41 g/cm3。

圖5 復(fù)合材料試樣密度與氟基偶聯(lián)劑含量的關(guān)系曲線

圖6為氟基偶聯(lián)劑含量對復(fù)合材料吸水率的影響。可以看出,吸水率隨著氟基偶聯(lián)劑含量的增大而減小,不含氟基偶聯(lián)劑時,吸水率為0.085%,當含量達到0.4%時,吸水率降低到0.031%。造成這種現(xiàn)象的原因主要有:① 樣品SEM圖片顯示,當氟基偶聯(lián)劑含量為增加到0.4%時,陶瓷粉與聚四氟乙烯樹脂間的界面模糊,相互間連接緊密,氣孔減少,具有最高的致密度,致密度的升高有利于降低吸水率;② 氨基官能團為親水基團,而氟基中C-F基團為疏水基團,因而引入氟基基團后介質(zhì)基團疏水性增強,吸水率降低。

圖6 氟基偶聯(lián)劑含量對復(fù)合材料吸水率的影響

圖7是復(fù)合材料剝離強度隨氟基偶聯(lián)劑含量變化曲線。可以看出,隨著氟基偶聯(lián)劑含量的升高,剝離強度逐漸降低,當含量為0%時,剝離強度為2.3 N/mm;而含量為0.4%時,剝離強度降低到0.8 N/mm。這主要是因為引入氟基官能團后,C-F鍵本身具有極強的極性,F(xiàn)原子周圍束縛大量電子,而銅箔本身屬于導體,含有大量自由電子對,電子云相互排斥造成剝離強度降低,且氟基偶聯(lián)劑含量越多,排斥越嚴重,剝離強度越低。

圖7 復(fù)合材料剝離強度隨氟基偶聯(lián)劑含量變化曲線

圖8為介電常數(shù)和損耗因子隨氟基偶聯(lián)劑含量變化曲線。可以看出,隨著氟基含量的增大,基板的介電常數(shù)漸降升高,這主要是因為氟基偶聯(lián)劑的引入提高了陶瓷粉和聚四氟乙烯間的浸潤性,復(fù)合材料致密度提高,氣孔率降低,從而導致基板介質(zhì)層內(nèi)部空氣減少(相對介電常數(shù)為1),介電常數(shù)增加。當氟基偶聯(lián)劑含量為0.2%,基板介電常數(shù)為10.30,與目前主流微波復(fù)合介質(zhì)基板產(chǎn)品的介電常數(shù)接近。

圖8 介電常數(shù)和損耗因子隨氟基偶聯(lián)劑含量變化曲線

復(fù)合介質(zhì)材料電導、極化和結(jié)構(gòu)是導致?lián)p耗因子變化的3個主要因素[18]。從圖7可以發(fā)現(xiàn),隨著氟基偶聯(lián)劑含量的增大,損耗因子并未出現(xiàn)明顯的變化,這說明復(fù)合偶聯(lián)劑的引入對基板中極化和空間電荷積累效應(yīng)并無影響。

3 結(jié)論

1) 隨著氟基偶聯(lián)劑含量的提高,陶瓷粉與PTFE間浸潤性能增強,基板致密度提高,吸水率降低,基板介電常數(shù)增加,而損耗因子并無顯著變化。

2) 隨著氟基偶聯(lián)劑含量的提高,F(xiàn)原子周圍束縛大量電子,與銅箔本身自由電子對相互排斥造成剝離強度降低,氟基偶聯(lián)劑含量越多,排斥越嚴重,剝離強度也越低。

3) 當氟基偶聯(lián)劑質(zhì)量含量為0.2%時,基板綜合性能最佳,基板介電常數(shù)和介質(zhì)損耗分別達到10.30和0.001 6,吸水率達到0.042%,剝離強度強度達到1.30 N/mm。

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