*劉 賀
(肇慶國華電子有限公司 廣東 526040)
在電子產業運行及發展中,為了更好的解決互聯延遲所引發的危機,通過鍍鈀工藝的使用,獲得最佳鍍液配方以及工藝條件,有效增強鍍層的粘結力,同時也可以提高其耐腐蝕性及焊性目的。在以往的工藝產業中,通常將銅作為連接工藝,這種工藝形式雖然被廣泛運用在電子產品的導線及接觸端,但是,在空氣條件下容易發生銅氧化的問題,從而影響導電性能。因此,在工藝產業運行及發展中,根據化學鍍的工藝特點,在具體的使用中,存在著成本低以及設備簡單的優勢,將其運用在復雜的導電以及非導電表面沉積中可以發揮其優勢,提高工藝研究及技術使用的效率。研究中,分析工藝條件對線路板化學鍍鈀的影響,結果如下。
在線路板化學鍍鈀問題研究中,電子基板在設計中,存在著獨立性的布線分布模式,通過銅電極、銅布線的科學使用,可以形成鍍鎳膜工藝,以增強化學鍍鎳工藝的使用效果,滿足工業產業的運行及穩步發展需求。而且,在鍍鎳膜/鍍金工藝中,為了避免腐蝕擴散問題的出現,需要形成3μm的鍍鎳膜,增強線路板實驗操作的穩定性,滿足工業產業的運行及電子元件的配比及時延需求,推動行業的穩步發展。伴隨電子信息技術的產業運行及穩步發展,通過致密化工藝產業的發展,在線路板設置的過程中,應該將線路、空間進行處理,并將其控制在合理的范圍內,保證布線與鎳異常沉淀的有效性,提高電路系統的使用效果。整個過程中,需要減少化學鍍鎳的處理效果,一定要避免布線沉降不合理問題的出現,為電子產業的運行及持續發展提供參考[1]。
結合化學鎳鈀金表面的處理特點,其工藝優勢如下:第一,通過化學鍍靶工藝的引入,可以利用鈀層阻擋優勢,避免鎳擴散及遷移問題的出現,實現阻擋鎳及浸金溶液的充分接觸,有效避免化學鎳金表面工藝出現黑盤的問題,充分滿足工藝產業的運行及持續發展需求。第二,在化學鍍鈀完全溶解的情況下,在合金接口上會出現高鱗片層,之后在鍍鈀溶解之后會增強鎳合的整體效果,提高焊點的可靠性,充分滿足電子產業的運行及持續發展需求。第三,根據化學鍍靶工藝的特點,在實際的工藝選擇中,通過耐磨性、大金線性能的分析,可以提高連接的穩定性,降低電路板表面的處理成本,提高電子產業的經濟運行效益。
在鍍靶層性能分析的過程中,對實驗結果的影響因素較多,如,工藝條件下溫度、pH值等都會對化學鍍靶的結果造成影響,因此,在具體的實驗分析中,需要根據這些影響因素,對化學鍍靶的各項影響因素進行分析,以便確定出最佳的工藝方案。
(1)實驗材料
在實驗的過程中,采用了5×5cm的銅基線路板作為測試片。
化學鍍鎳液配方主要包括:120mL/L的HDQ-209M化學鎳鍍液、45mL/L的HDQ-209A化學鎳鍍液、3mL/L的HDQ-209D化學鎳鍍液。化學鍍鎳工藝分析中,實驗標準如下:第一,鍍液pH=4.7;第二,化學鍍溫度84℃;第三,化學鍍時間25min。
化學鍍鈀液配方:0.005mol/L的硫酸四氨鈀(Pd(NH3)4SO4)、0.01mol/L的還原劑次磷酸鈉(NaH2PO2·H2O)、0.1mol/L絡合劑有機胺A、甘氨酸0.08mol/L、穩定劑B 0.3mol/L、穩定劑C 1ppm[2]。
(2)實驗性能測試
①沉積速率測試
在沉積速率測試的過程中,根據以往的實驗經驗,選擇牛津X-Strata920膜厚測試儀。實驗過程中要對線路板的正反面進行測量,最終確定鍍層的厚度,并測量鍍層厚度的平均值。
②綁定測試
在綁定測試的過程中,實驗中需要選擇ASM-EG60全自動焊線機,之后根據實驗的特點基本需求,進行鎳鈀金鍍綁定性能的檢測分析。綁定測試的實驗要求如下:第一,鍵合溫度需要設置為170℃,金線直徑為0.015mm;第二,使用DAGE4000推拉力測試儀對線路板進行拉力實驗,將拉線速度控制在20mil/s。
③鍍液穩定性測試
在鍍液穩定性測試的過程中,應該將溫度控制在50℃,pH為7.2的條件下,利用慧彩HH-1數顯恒溫水浴鍋持續加熱化學鍍鈀液,實驗人員要認真記錄鍍液或是杯臂上的金屬鈀時間,為之后的穩定性測試提供參考。
(1)溫度的影響
第一,溫度對鍍速度的影響。在pH值為7.2時,化學鍍鈀的沉積速度與溫度存在著曲線變化,也就是說,在溫度影響下,沉積率與溫度呈現出正比狀態。如,在45-60℃條件下的沉積率與溫度分析中,其計算方法如公式(1)[3]。式中的ν(μm/min)是沉積速率,θ(℃)是溫度。在溫度升高的情況下,沉積速率逐漸增加,同時可以提高離子的運動速率,增強鈀沉積的整體速率。

第二,溫度對膜層表面的影響。根據化學鍍鈀實驗的的情況,鍍穩溫度對Pd膜的顆粒生長、致密度等存在關聯,當施鍍溫度為40℃時,Pd膜的顆粒尺寸較小,整個膜的致密度也就越差。在溫度不斷增長的情況下,當溫度達到了70℃時,鍍層的溫度越高,Pd膜的邊界粘連情況越模糊,而且,相關的顆粒逐漸發生融合狀態,而且沒有不飽滿及鍍層破損的問題。對于這種情況,主要是由于施鍍過程中,液體揮發現象逐漸增強,而且,液體中含有較多的氣泡,導致膜層與合金融合度不高,從而影響循環使用效果[4]。
(2)穩定劑對鍍液的影響
在鍍液穩定性分析的過程中,與化學鍍鎳的流程一致,同樣的熱力學不穩定體系中,會不可避免的產生微小、具有催化的活性微粒,之后進行自催化反應,整個過程中鍍液會將金屬鈀析出,通過加入不飽和有機酸(含有碳碳雙鍵)可以改善鍍液的穩定性。需要注意的是,不同穩定劑化學鍍鈀液的穩定性存在差異,如表1所示。根據表1結果可以發現,在沒有添加穩定劑的情況下,鍍液在520℃的環境下持續加熱40min時,會出現嚴重析出的情況;在添加了0.3mol·L-1的不飽和有機酸B時,鍍液的穩定性也會提高[5]。

表1 不同穩定劑化學鍍鈀液的穩定性
(3)pH值的影響
化學鍍靶實驗中,化學鍍鈀與pH的影響分析中,結果如下:第一,當pH值在6-8的范圍內時,變化速率逐漸明顯,而且沉降速率也得到了明顯提升,從0.009μm/min提升到了0.01μm/min。在鍍液的pH值增加的情況下,鍍液中的OH-數量增多,而且會鈀離子發生還原反應,降低的H+的數量,在這種情況下,生態原子氫生長速度增加,鈀沉降率也會不斷提升。第二,在溫度為50℃的情況下,不同pH值下得到的鈀層表面存在差異,在鍍層表面大部分結晶細致的情況下,沒有缺陷變化,但是,在局部存在著少量微孔問題[6]。
(4)鍍液性能的影響
在實驗分析的過程中,通過優質實驗方案的使用,可以提高鍍液、鍍層的分析效果。第一,鍍液壽命分析中,需要選擇最優的鍍液配比,將pH值設定為7.2,將溫度控制在50℃,之后進行鍍液壽命實驗檢測。在實際的檢測過程中發現,在化學鍍液在4MTO的情況下區域穩定狀態,這種實驗條件下,之后少量鈀析出,滿足工業生產中鍍速在0.008~0.013μm/min范圍需求。第二,在鍍層性能分析的過程中,在實驗的過程中,通過最優配方的設定,可以保證實驗鍍層表面的干凈、整潔,而且無明顯缺陷問題。但是需要注意的是,按照化學鍍鎳/鈀/金工藝流程的實驗方法,在進行金線鍵測試的過程中,鎳層、鈀層和金層的厚度分別為3~4μm、0.12~0.20μm和0.025~0.050μm,也就是說,在斷裂層的實驗分析中,鎳鈀金鍍層具有良好的金線鍵合能力[7]。
總而言之,在實驗的分析中可以得到以下結論:
(1)溫度在40-50℃的范圍內,化學鍍靶的表面呈現出完整、無缺陷的狀態。
(2)在鍍液的pH值在6.0-7.8的范圍內,鍍層的表面呈現出完整的狀態,同時對鍍層的腐蝕性較低。
(3)最佳工藝條件下,鈀層性能良好,而且可以減少鍍金中對鎳層造成的影響,同時,這種情況下具有耐腐蝕工藝良好的優勢,可以被運用在線路板鎳鈀金的工藝生產中。