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CuO-Ag復合光催化劑對甲基橙的降解性能研究

2020-11-09 01:42:42梁紅旗孫佳源薛晉卉韓勝男姚瑞青郭桂全
遼寧化工 2020年10期
關鍵詞:復合材料

梁紅旗,孫佳源,薛晉卉,韓勝男,姚瑞青,郭桂全

(邢臺學院,河北 邢臺 054001)

通過化學手段來解決水污染問題,逐漸成為人們關注的焦點。光催化降解技術節能、高效、環境友好,在印染廢水處理中具有良好的發展前景[1-3]。在眾多金屬氧化物中,CuO 由于其價格較低、毒性小和易合成在光催化領域應用較廣。

CuO 作為一種窄帶隙(1.2~1.8 eV)的金屬氧化物,可在可見光下作為光催化材料來降解有機污染物。但單一的CuO 光生電子與空穴易復合,量子效率低,光催化活性偏低。因此,對CuO 進行改性便引起了人們極大的興趣。研究者通過將CuO 分別與g-C3N4、Cu、AgBr、ZnO、TiO2、Zn/CuAl2O4、SiO2、SnO2/TiO2、NiO/TiO2、Cu2(OH)3Cl 等復合后,可以有效分離CuO 表面生成的光生電子和空穴,從而提高了光催化活性。另外,負載貴金屬也是一種有效的改性方法。眾所周知,Ag 具有良好的導電性,所以可以借助單質Ag 來傳導光生電子。將Ag 通過化學沉積法負載到CuO 上,Ag 與光生電子結合,而使光生空穴裸露在CuO 表面,通過降低光生電子和空穴的復合率來提高CuO 的光催化性能。然而,截至目前,有關CuO 與Ag 復合應用于光催化降解污水方面的研究還鮮見報道,而且CuO 與Ag 的復合技術還不成熟,需要深入的探討。

本文通過水熱法制備出CuO 納米材料,與不同濃度的AgNO3通過加入抗壞血酸還原沉積法將Ag負載到CuO 表面,獲得少量Ag 負載的CuO/Ag 復合材料,通過X-射線衍射儀(XRD)有效地檢測出Ag 的存在,通過在CuO 上負載Ag,用于對模擬廢水(甲基橙溶液)的降解,效果良好,相同時間下降解率是單一CuO 的2.5 倍。

1 實驗部分

1.1 納米氧化銅的制備

稱量1 g CuSO4·5H2O 放入100 mL 燒杯中,加入50 mL 蒸餾水,磁力攪拌至溶解,得到藍色澄清液;然后加入6 g 十六烷基三甲基溴化銨,繼續磁力攪拌10 min;接著加入6 g 尿素,攪拌至溶解;最后加入2 mL H2O2,繼續攪拌,來促進尿素水解。

于120 ℃水熱反應4 h,取出自然冷卻。室溫時,打開反應釜,將溶液倒入燒杯,靜置,倒掉上層清液,然后用離心機離心,對反應產物進行洗滌,水洗3 次,無水乙醇洗3 次,放入烘箱,于60 ℃干燥3 h,取出放入坩堝烘箱,于600 ℃煅燒2 h,得到黑色固體顆粒。

1.2 納米氧化銅與銀復合

稱取上述黑色固體顆粒0.1 g,溶解在20 mL 蒸餾水中,超聲分散。稱取50 mg 抗壞血酸,溶解在5 mL 蒸餾水中,加入50 mg 聚乙烯吡咯烷酮,使溶液分散。將加入表面活性劑的抗壞血酸溶液緩慢加入CuO 懸濁液中。以上實驗平行做三組。分別配制摩爾濃度為0.01 mol·L-1、0.03 mol·L-1和0.05 mol·L-1的AgNO3溶液,加入上述懸濁液中,恒溫60 ℃持續攪拌24 h。然后高速離心機離心,水洗3 次,無水乙醇洗3 次,放入烘箱烘干3 h,即得復合材料。依次編號為 CuO/Ag0.01 、 CuO/Ag0.03 、

CuO/Ag0.05。

1.3 光催化降解甲基橙

配制質量濃度為10 mg·L-1的甲基橙溶液,取50 mL 放于燒杯中,稱取CuO 與Ag 的復合物0.1 g 加入上述燒杯中,將燒杯置于暗處,恒溫30 ℃磁力攪拌30 min。將高壓熒光汞燈固定在與溶液距離15 cm處,在未用高壓熒光汞燈照射前取出5 mL,經離心后,最上層清液,用紫外-可見分光光度計測試溶液的吸收光譜,然后光照,每隔30 min 取一次樣,以464 nm 處吸收峰的強度變化來判斷溶液的降解率。

2 結果與討論

2.1 粒度

制備的樣品的粒度分布見表1,在相同的測試條件下,CuO 以及不同Ag 復合量的CuO/Ag 的平均粒徑都在72.28~226.36 nm 左右,屬于微納米復合光催化材料。

表1 各樣品的粒度分布

2.2 XRD

圖1 中a 是以CuSO4·5H2O、尿素等為原料制得的納米CuO 材料的X-射線衍射花樣,圖中可知該樣品在衍射角為32.45°、35.56°、38.72°、48.79°、61.56°等處出現明顯的衍射峰,分別對應單斜晶型CuO 的(110)、(-111)、(111)、(-202)和(-113)5 個晶面,與標準卡片比對發現沒有其他雜質的衍射峰,CuO尖銳的峰形說明其有較好的結晶度。圖1 中b、c、d 是 CuO 與不同濃度的AgNO3制備的復合產物CuO/Ag 的XRD 圖譜,除了有CuO 的衍射峰外,還觀察到了Ag 在38.1°、44.2°、64.5°、78.5°的明顯的衍射峰,證明成功制備出了CuO 和Ag 復合的產物,復合后CuO 在2θ=35.56°、38.72°處的衍射峰值明顯降低,表明負載上Ag 以后對CuO 的衍射峰強度有影響。

2.2 降解性能

圖2 是用納米CuO 材料單獨降解甲基橙每隔30 min 取樣測定的紫外-可見吸收光譜,在464 nm 處的吸光度分別為0.79、0.78、0.74、0.71、0.69,通過計算120 min 降解率為12.66%。未與Ag 復合的CuO并未表現出對甲基橙較好的降解率,這是由于CuO表面的空穴與光生電子結合緊密,易復合,無法使具有氧化性的空穴與甲基橙結合達到降解的目的。

圖1 CuO 及CuO/Ag 復合材料的XRD 圖譜

圖2 CuO 不同光照時間降解甲基橙的可見光譜

圖3 是CuO 與摩爾濃度為0.01 mol·L-1的AgNO3制備的復合材料CuO/Ag0.01 降解甲基橙的紫外-可見吸外光譜,最大吸光度分別為0.79、0.72、0.69、0.64、0.62,120 min 降解率為21.52%,與單一CuO 的降解率相比,降解率稍微增大。

圖4 是CuO 與摩爾濃度為0.03 mol·L-1的AgNO3制備的復合材料CuO/Ag0.03 降解甲基橙的紫外-可見吸外光譜,最大吸光度分別為0.79、0.73、0.71、0.64、0.54,120 min 降解率為31.65%,加大濃度后使CuO 負載更多的Ag 單質來傳導光生電子,來與CuO 的光生空穴分離,能和甲基橙結合從而降解甲基橙。

圖3 CuO/Ag0.01 不同光照時間降解甲基橙的可見光譜

圖4 CuO/Ag0.03 不同光照時間降解甲基橙的可見光譜

圖5 是將AgNO3摩爾濃度增大到0.05 mol·L-1,制得的復合材料CuO/Ag0.05 的情況,以期探討是否能增大對甲基橙的降解率,發現其最大吸光度分別為0.79、0.75、0.71、0.66、0.64,經計算求得其120 min 降解率為18.99%。

圖5 CuO/Ag0.05 不同光照時間降解甲基橙的可見光譜

結果表明,加大Ag 的含量并未達到較好的降解目的,原因可能是,由于Ag 含量的增大,一部分Ag 傳導與空穴結合的光生電子,一部分Ag 包圍在CuO 的表面,不能使空穴與甲基橙結合,使降解效果不再提高。

圖6 是隨著時間的延長各種材料的降解率,圖6a 是CuO 在不同時間的降解率,分別為1.27%、6.33%、10.13%、12.66%,隨著時間的改變,單一CuO 對甲基橙的降解率效果不是很明顯。圖6b 的降解率分別為8.86%、12.66%、18.99%、21.52%,降解率在逐步增大。圖6c 的降解率分別為7.60%、10.13%、18.99%、31.65%,線c 的斜率較其他的斜率大,CuO/Ag0.03 具有較高的降解率。圖6d 的降解率分別為5.06%、10.13%、16.46%、18.99%,原因可能由于CuO/Ag 發生團聚,顆粒粒度偏大,在降解過程中,不能與甲基橙有效的接觸,減少了活性位點。

圖6 各種光催化劑在不同光照時間下對甲基橙的降解率

3 結論

通過水熱法-煅燒法成功制備出納米CuO,再通過氧化還原法成功將Ag 沉積到CuO 上,制成CuO/Ag 復合材料,并考察其對甲基橙的降解性能。單一的CuO 降解效果不佳,經與Ag 復合后,Ag可有效地將CuO 上生成的光生電子轉移,減少與空穴的復合,使其與甲基橙反應,達到降解的目的,效果良好,復合后的材料在120 min 后降解率最多是單一CuO 的2.5 倍。

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