孫 青,柯美林,撒玉彪,張 儉,嚴 俊,盛嘉偉
(1.浙江工業大學材料科學與工程學院,杭州 310014;2.浙江工業大學溫州科學技術研究院,溫州 325011)
水污染已成為直接威脅人類生存、亟需解決的焦點問題。由于印染廢水具有污染持久、毒害大和難以降解的特點,它所帶來的環境問題一直是困擾人們生產生活的頑疾,而傳統化學氧化法和吸附法處理印染廢水,不但運行成本較高,污染物去除困難,而且處理效果不佳,易產生二次污染[1-2]。
相較而言,半導體光催化技術以其完全、綠色降解效果被諸多科學家視為最具發展前景的新型污染處理技術[3-4]。目前,為充分利用綠色環保的太陽能資源,以Bi2MoO6(Eg=2.71 eV)為代表的具有可見光響應活性的鉍系半導體進入廣大科研工作者的研究視野,它的電子結構較為獨特,能在可見光范圍內形成較陡峭的吸收邊,并利用陰陽離子間的反鍵作用使空穴的形成與流動更加順暢,有利于光催化反應的進行,有望取代傳統紫外光響應光催化劑(如TiO2)成為印染污水凈化處理領域的新寵[5-7]。

因此,為解決以上不足,本文采用水熱法制備Bi2MoO6/埃洛石(Bi2MoO6/Hal)復合光催化劑,并研究復合材料的形貌結構,考察其在氙燈下對亞甲基藍(MB)為目標污染物光催化降解性能。
原料:埃洛石(Hal)來自河北省靈壽縣,經提純后備用,其主要元素組成為SiO2和Al2O3,并含有少量雜質Fe2O3、CaO、MgO和Na2O等(如表1所示)。實驗所用Bi(NO3)3·5H2O、(NH4)6Mo7O24·4H2O、尿素、乙二醇、十二烷基苯磺酸鈉和亞甲基藍均為分析純,實驗用水為去離子水。……