葡萄根域限制栽培技術

文/ 山東省農業科學院農產品研究所 管雪強 / 山東省果茶技術推廣站 高文勝

根域限制栽培就是利用一些物理或生態的方法將葡萄的根系范圍控制在一定的容積內, 通過控制根系的生長來調節地上部的營養生長和生殖生長的一種新型栽培技術。

1.根域限制栽培的模式

目前常見的根域限制栽培模式有4 種。

（1）溝槽式：采用溝槽式進行限根。挖深50 厘米、寬100 厘米的定植溝，有積澇風險的地區還需要在溝底再挖寬、深各為15 厘米的排水暗渠。用厚塑料膜( 溫室大棚用)鋪墊定植溝、排水暗渠的底部與溝壁，排水暗渠內填充毛竹、硬枝、河沙與礫石( 有條件時可用滲水管代替)，并和兩側的主排水溝連通，保證積水能及時排出。

（2）壟式：在地面鋪墊塑料膜，在上面堆積營養土成壟，將葡萄種植在其中。生長季節在壟的表面覆蓋黑色或銀灰色塑料膜，保持壟內土壤水分和溫度的穩定。壟的規格因栽培密度而不同，一般行距8 米時，其壟的規格應為上寬100 厘米、下寬140 厘米、高50 厘米。壟式限根栽培的優點是操作簡單，但根域土壤水分變化比較大，生長容易衰弱，必須配備良好的滴灌系統；而且壟式栽培時根系全部在地面以上，冬季容易出現凍根現象，在北方產區應當慎用。

（3）壟槽結合式：將根域一部分置于溝槽內，一部分以壟的方式置于地上。一般以溝槽深度30 厘米、壟高30 厘米為宜。溝壟規格因行距而不同，一般行距8 米時，溝寬100 厘米，壟的下寬100 厘米、上寬60 ～80 厘米。壟槽結合模式既有溝槽式的根域水分穩定、生長中庸、果實品質好的優點，又有壟式操作簡單、排水良好的好處，還能在很大程度上減少冬季凍根的風險。

（4）坑穴式：在地面以下挖出一定容積的坑，在坑內放置控根器，控根器下部用園藝地布做底，內填營養土后栽植葡萄苗。根域的容積以樹冠投影面積計算， 根域的范圍控制在每平方米樹冠投影面積0.125 ～0.2 平方米，根域厚度以40 ～50 厘米為宜。

2.根域限制栽培的配套措施

（1）配備肥沃的營養土：根域限制栽培模式下，根系分布范圍被嚴格控制在樹冠投影面積的1/5 左右，深度也被限制在50厘米左右的范圍。因而，須提供良好的土壤環境，可提高根域土壤有機質含量到20%以上、含氮量提高到2% 以上，一般用優質有機肥與6～8倍量的熟土混合即可。

（2）配備良好的水肥供應系統：由于根域限制栽培模式下，植株無法獲取限制區域以外的水分和礦質營養，因此在樹形構建期和正常結果狀態下的大量需肥期，應通過水肥一體化系統給予充分供應，以保證樹形構建和果實發育的營養。