本報訊7月9日,KLA公司發布392x和295x光學缺陷檢測系統和eDR7380電子柬缺陷檢視系統。這些全新的檢測系統是該公司旗艦產品系列——圖案晶圓平臺的進一步拓展,其檢測速度和靈敏度均有提升,代表了光學檢測的新水準。全新電子束檢視系統的創新使其自身價值進一步穩固,并成為缺陷和發現其產生根源之間的必要一環。對于領先的3DNAND、DRAM和邏輯集成電路(IC),該產品組合將縮短整個產品周期,加快其上市時間。
“為了有利潤地制造下一代內存和邏輯芯片,對所需的制程控制要求之高也是前所未有的。”KLA國際產品部執行副總裁Ah-mad Khan說,“元件結構變得更小、更窄、更高、更深,并且形狀更為復雜,以及材料更為新穎。將缺陷與其他無害的物理變化分開,已成為一個非常棘手的難題。我很高興地宣布我們的光學和電子束工程團隊開發了一系列創新的系統,將缺陷的檢測和檢視相結合,這將推動我們的行業繼續向前發展。”