劉爾春,孫慶龍,盧志誠,惠相君,周鵬飛,汪家樂,孫靖康,崔玉國
(1.寧波大學 機械工程與力學學院,浙江 寧波 315211; 2.首信自動化有限公司,河北 遷安 064400)
壓電微動平臺是一種由壓電執行器驅動的微位移機構,具有結構小巧緊湊,輸出力大,分辨率高,響應速度快及負載能力強的特點,因而被廣泛應用于高精密定位系統中。如在超精密加工中,它可以推動刀架使刀具實現微移動,進而使加工更精準[1];在微結構表面形貌測量中,它可以作為掃描探針顯微鏡的掃描平臺,進而和微探針相配合,實現對微結構表面的精密測量[2];在微機電系統(MEMS)裝配中,它可作為微零件、微部件的載物臺,帶動微零件、微部件產生微運動,從而在微機器人操作手的配合下,將微零件裝配成微部件,或將微部件裝配成微系統[3]。另一方面,由于壓電執行器存在遲滯誤差特性,會使由其驅動的微動平臺產生定位誤差,因此需要采取相應的控制方法對平臺進行控制,如前饋控制[4]、比例、積分、微分(PID)控制[5-7]、魯棒控制[8]、自適應控制[9]、復合控制[10-11]等。宋林等基于所提出的閾值優化Prandtl-Ishilinskii(PI)遲滯模型,設計了壓電微動平臺的前饋控制器,平臺在前饋控制作用下,達到5 μm階躍參考位移的響應時間為0.01 s,跟蹤最大值為17 μm的變幅值三角波參考位移時,使定位誤差變化范圍由-1.15~1.35 μm減小為-1.15~-0.05 μm[4]。Lin等采用灰色相關分析法來整定壓電微動平臺的PID控制器參數,使平臺在PID控制下的穩態誤差減小了97%[6]。Ghafarirad等將基于改進觀測器的魯棒控制同PI逆模型相結合,設計了壓電微動平臺的魯棒控制器,實現了平臺在預估干擾作用下的精密定位[8]。張桂林等基于傳統PI遲滯模型來描述壓電執行器的遲滯特性,并采用自適應投影法來在線辨識壓電執行器的PI遲滯模型,進而設計出了壓電執行器的自適應PI逆控制器,使執行器的定位精度提高了49.8%[9]。Lin等將雙前饋補償與反饋控制相結合,設計出了壓電微動平臺的復合控制器,在復合控制作用下,平臺沿x、y向的定位誤差分別達到21.5 nm、20 nm[11]。
在上述這些控制方法中,前饋控制屬于開環控制,無需傳感器,系統構成簡單,成本低,但因無反饋環節,很難實現平臺的高精度定位。PID控制、魯棒控制、自適應控制屬于反饋控制,在對平臺進行控制時,往往需要精密位移傳感器,故成本較高,但能夠實現平臺的高精度、高分辨率定位。其中,PID控制技術最成熟,簡單易用,且不需要被控對象的精確模型,故應用更廣泛。復合控制可使平臺獲得良好的靜、動態特性,但整個控制系統構成較復雜。
本文為提高壓電微動平臺的定位精度,并消除其工作過程中所受到的擾動或沖擊(包括控制過程中的超調),引入低通濾波器來降低PID控制器中微分環節對擾動或沖擊的敏感性,進而來設計平臺的PID反饋控制器,并實現平臺的精密定位控制。
PID控制通過對被控對象的偏差(即被控對象參考輸入與實際輸出的差值)進行比例(P)、積分(I)、微分(D)的線性運算,來實現對被控對象的控制,如圖1所示。圖中,s為復數變量,1/s、s分別為積分環節、微分環節。PID控制器的控制規律為

(1)
式中k=0, 1, 2,…為采樣序號,即0,T, 2T,…采樣時刻;u(k)為在kT采樣時刻的控制量;e(k)、e(k-1)分別為在kT、(k-1)T采樣時刻的偏差;KP、TI、TD分別為比例系數、積分時間常數、微分時間常數;T為采樣周期。

圖1 PID控制框圖
式(1)給出的PID控制器的輸出,包含了當前和以往所有時刻偏差的積分,這樣會占用較大的計算機內存,使計算時間變長,被控對象的響應時間變慢。為此,本文采用具有遞推關系的PID控制。由式(1)可得,PID控制器在(k-1)T時刻的輸出為

(2)
將式(1)減去式(2)可得具有遞推關系的PID表達式為
u(k)=u(k-1)+KP{e(k)-e(k-1)+
g1e(k-1)+g2e(k-2)
(3)
其中
(4)
(5)
(6)
由式(3)可知,具有遞推關系的PID的控制量u(k)僅與u(k-1)、e(k)、e(k-1)、e(k-2)有關,不僅減小了計算機內存的占用量,且還可顯著縮短計算時間,易于實現快速控制。
對式(3)兩端同時進行z變換,可得具有遞推關系的PID控制器的離散脈沖傳遞函數為
(7)
在PID控制中,微分項能夠提高系統的動態特性,縮短瞬態響應的過度過程,但其對干擾或沖擊信號非常敏感,它會使干擾所引起的控制量變化幅度增大。對壓電微動平臺而言,控制量的這種大幅度變化不僅會造成平臺定位精度的下降,有時還會使壓電執行器及平臺受到破壞。
干擾或沖擊信號為高頻信號,而低通濾波是去除高頻干擾信號的有效方法。為此,本文在PID控制器中引入低通濾波器,以降低PID控制中微分環節對擾動或沖擊信號的敏感性,即使微分環節對擾動或沖擊產生鈍化(見圖2)。圖中,E(s)為偏差e(t)的拉氏變換,U′(s)為PID控制器輸出的拉氏變換,U(s)為低通濾波器輸出的拉氏變換,τ′為低通濾波器的時間常數。

圖2 鈍化微分PID控制框圖

(8)
式中α為常數,且α<1,則有
(9)
于是,鈍化微分PID控制器的離散脈沖傳遞函數為
(10)
基于所設計的平臺改進PID控制器以及所建立的壓電執行器與平臺的動力學模型,設計出了平臺的控制系統,其MATLAB/simulink仿真框圖如圖3所示。

圖3 平臺控制仿真框圖

圖4 濾波器對平臺控制結果的影響
圖4為平臺在干擾(其幅值為0.5 μm,頻率為10~100 Hz)作用下,對階躍目標位移(其值為5 μm)的響應。其中,圖4(a)為無濾波器時平臺的響應,這時平臺輸出已不穩定;圖4(b)為有濾波器時平臺的響應,此時平臺輸出仍穩定,且無超調,也無穩態誤差。可見,所設計的鈍化PID控制器可有效消除干擾對平臺輸出位移的影響。
圖5為平臺在5 μm的階躍目標位移且不受干擾的情況下,不同的KP、KI、KD對平臺輸出位移的影響。由圖5(a)可知,隨著KP(此時KI、KD均為0)的增大,平臺響應加快,穩態誤差減小,但KP太大時,平臺輸出位移會出現超調。由圖5(b)可知,KI(此時KP=4.5、KD=0)可顯著減小平臺輸出位移的穩態誤差,KI增大到一定程度時可完全消除穩態誤差,但KI會使平臺輸出位移出現超調。由圖5(c)可知,隨著KD(此時KP=4.5、KI=0.45)的增大,平臺響應變慢,但平臺輸出位移的超調減小。

圖5 KP、KI、KD對平臺控制結果的影響
圖6為測量壓電微動平臺位移特性的實驗系統,它由驅動電源、多功能卡、壓電微動平臺及電渦流位移傳感器組成。其工作過程如下:由計算機發出相應的控制信號,該控制信號經多功能卡上的D/A轉換器轉換為連續的模擬電壓,施加于驅動電源上,在電源所輸出的驅動電壓作用下,壓電執行器伸長,推動微動平臺使其產生微位移,該位移由電渦流位移傳感器所測得,經多功能數據卡上的A/D轉換器轉換為數字信號,被輸入計算機內。

圖6 壓電微動平臺位移測量系統
由圖6可知,電源輸出電壓的紋波為10 mV,線性度為0.1%,頻帶為0~2 kHz;電渦流位移傳感器的測量范圍為0.36~1.36 mm,非線性誤差為0.4%,分辨率為0.1 μm。多功能數據卡上的A/D及D/A轉換器的位數為16位,采樣速度為100 kS/s。
圖7為采用鈍化微分PID控制時壓電微動平臺的階躍響應。由圖可知,此時平臺的響應時間較短(為0.3 s),穩態誤差為0,且無超調,可見所設計的鈍化微分PID控制器可使平臺具有良好的動態和穩態特性。

圖7 鈍化微分PID作用下微動平臺的實際階躍響應
給壓電微動平臺施加最大值為15.25 μm的變幅值三角波信號,由圖8的測量結果可知,平臺在未受控制的情況下,實際輸出位移相對于目標位移的誤差中線的變化范圍為-0.7~1.2 μm;在鈍化微分PID反饋控制的作用下,平臺的實際輸出位移相對于目標位移的誤差中線的變化范圍為-0.1~0.1 μm。因此,鈍化微分PID反饋控制能較好地跟蹤參考輸入位移,使壓電微動平臺具有較小的定位誤差。

圖8 鈍化微分PID作用下微動平臺的實際三角波輸入
本文為避免壓電微動平臺在工作過程中受到干擾或沖擊的影響,將低通濾波器引入常規PID控制中,設計出了平臺的鈍化微分PID控制器。采用MATLAB/simulink對設計的控制系統進行了仿真,結果表明,鈍化PID控制器可有效消除干擾對平臺輸出位移的影響;KP增大時,平臺響應加快且穩態誤差減小,但太大時會出現超調;KI可消除平臺輸出位移的穩態誤差,但太大時也會出現超調;KD增大時,平臺響應變慢,但超調減小。實驗驗證了所設計的鈍化微分PID控制的有效性,結果表明,平臺達到5 μm階躍目標的響應時間為0.3 s,無超調,且穩態誤差為0;平臺在跟蹤最大值為15.25 μm的變幅值三角波時,定位誤差中線由無控制時-0.7~1.2 μm減小為-0.1~0.1 μm。