專利名稱：光電含鉬蝕刻廢液再利用處理方法
2018-01-30 23:03:42
中國鉬業(yè) 2018年2期
關(guān)鍵詞：利用
專利申請?zhí)枺篊N201510397109.8
公開號：CN105254095A
申請日：2015.07.08
公開日：2016.01.20
申請人：中國臺灣華鉬實(shí)業(yè)股份有限公司
本發(fā)明涉及一種光電含鉬蝕刻廢液再利用處理方法，是將含鉬蝕刻廢液中的鉬離子吸附于陰離子交換樹脂內(nèi)飽和之后進(jìn)行分離解析作業(yè)，所得的分離液含高濃度鉬金屬離子再利用回收處理，采用的制程技術(shù)包含純化、除雜、晶析、鍛燒等程序制成高純度及高溶解度觸媒級氧化鉬、高純精鉬酸、高純度鉬酸鈉及鉬酸銨等鉬鹽類產(chǎn)品并將光電產(chǎn)業(yè)含鉬蝕刻廢液中鉬離子濃度由約10 mg/kg含量降至0.5 mg/kg以下。
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