水浸超聲C掃描系統(tǒng)在等離子噴涂靶材缺陷檢測中的應(yīng)用

張 科, 陳欽忠, 李 強(qiáng)(. 福州大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院, 福州 3506; . 福建阿石創(chuàng)新材料股份有限公司, 福州 35000)

水浸超聲C掃描系統(tǒng)在等離子噴涂靶材缺陷檢測中的應(yīng)用

張 科1, 陳欽忠2, 李 強(qiáng)1
(1. 福州大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院, 福州 350116; 2. 福建阿石創(chuàng)新材料股份有限公司, 福州 350200)

通過控制等離子噴涂工藝，在靶材涂層內(nèi)部分別人為制備孔洞、密度分布不均勻兩種典型缺陷，并進(jìn)行水浸超聲C掃描成像及波形分析。結(jié)果表明：檢測結(jié)果與人工設(shè)計(jì)缺陷基本相符，驗(yàn)證了水浸超聲C掃描系統(tǒng)用于檢測等離子噴涂靶材缺陷具有足夠的靈敏度及可靠性，這對于噴涂靶材產(chǎn)品的質(zhì)量控制具有重要意義。

等離子噴涂靶材；水浸超聲C掃描；缺陷檢測；孔洞；密度不均勻

隨著真空濺射鍍膜的興起和快速發(fā)展，旋轉(zhuǎn)管狀濺射靶材的需求大量增加，例如硅鋁合金旋轉(zhuǎn)靶材是在不銹鋼基管上等離子噴涂沉積大約13 mm厚的硅鋁合金涂層，要求硅鋁合金涂層中無大的孔洞，且密度均勻，否則可能會引起靶材在濺射鍍膜過程中發(fā)生濺射成膜不均勻、異常放電等問題。硅鋁合金涂層的主要缺陷包括孔洞、密度不均勻等，在噴涂過程中，涂層表面可能會粘附未熔透的疏松大顆粒物，經(jīng)過后續(xù)噴涂層的不斷堆疊，形成孔洞缺陷，靶材要求孔洞最大橫截面積小于0.196 mm2；另外，在噴涂過程中局部位置如果受到氣流擾動(dòng)等的影響，就會出現(xiàn)密度較低的情況，導(dǎo)致靶材的密度分布不均勻[1-4]。

上述缺陷從外觀上無法檢測出，因此需要尋找一種有效的無損檢測方法，能夠?qū)崿F(xiàn)靶材內(nèi)部缺陷檢測?！?br>