浙江·杭州第四屆杭州·中國畫雙年展藝委會第二次會議在杭州舉行

浙江·杭州第四屆杭州·中國畫雙年展藝委會第二次會議在杭州舉行

會議現場

5月20日，“第四屆杭州·中國畫雙年展藝委會第二次會議”在杭州舉行。劉大為、許江、楊力舟、張曉凌、劉健、馬鋒輝、孫永、駱獻躍、高士明、吳山明、劉國輝、陳平、杜松儒、石君一、羅劍華、王凱等人參加此次會議。會議就本屆展覽主題“正大氣象”為會議議題，確定本次展覽分為“風”“雅”“頌”三大部分，并且為參展藝術家們提出了“三去三倡”的創作要求：去除陳腐的繪畫之風，倡揚正大之氣；去除僵化的思想觀念，倡導創新突破；去單一，倡多樣，讓傳統活在今天，為大眾展示當今中國畫的“中堂”正大氣象！

本次會議根據第四屆杭州·中國畫雙年展策展人劉大為、孫永的初步推薦提名，經各位藝術委員的進一步推薦和無記名投票表決，共有42位在當代中國畫畫壇具有代表性的藝術家獲得本屆雙年展的邀請。“風”篇13人：張道興、楊曉陽、潘汶汛、陳永鏘、方楚雄、尼瑪澤仁、劉云、韓書力、馮大中、劉金貴、梁戰巖、徐勇民、鄭軍里；“雅”篇14人：陳輝、許俊、閔學林、吳靜初、姚曉冬、許欽松、陳琪、戴衛、朱道平、王濤、江文湛、孔維克、王鏞、丁中一；“頌”篇15人：趙建成、唐勇力、吳永良、王贊、施大畏、薛亮、杜滋齡、何家英、王西京、馬國強、白云鄉、蔡超、許勇、程振國、劉泉義。

杭州中國畫·雙年展秉持“回眸世紀發展之路，標新國畫學術話語，重建當代文化聯系，再造東方藝術高峰”的學術宗旨，自2011年以來，經過三屆展覽的成功舉辦，已經成為迄今為止規模最大、規格最高、最具學術性和影響力的中國畫展覽。在西湖的湖山望境之中，畫學精神與自然造化相互輝映，藝術力量與人文情懷相互交織，讓我們帶著一顆虔誠與敬畏之心，于畫內畫外，盡享一場與中國畫靈魂對話的饕餮盛宴。

(劉元璽)