手工測繪龕內展開圖的基本方法

吳曉慧

內容摘要：石窟考古測繪在石窟考古工作中具有很重要的意義，為了科學、系統、準確、全面地反映石窟的歷史遺跡，我們將繪制不同類型的測繪圖來反映洞窟的結構、塑像、壁畫內容。由于敦煌石窟群中具有不同形制的佛龕，不能在一個角度把龕內壁畫內容全面地記錄下來。考古繪圖工作必須采用龕內展開這種特殊的測繪方法，將佛龕中的壁畫內容客觀、真實、全面地一一展開在畫面上。

關鍵詞：正投影面；結構；基線；分割線；關鍵點

中圖分類號：K879.21；K854 文獻標識碼：A 文章編號：1000-4106（2016）02-0060-07

Abstract： Archaeological mapping plays a very important role in cave archaeology. In order to scientifically and comprehensively represent the contents of the historical relics of caves， different types of survey maps have been created to show the structure and contents of the caves. Since there are different types of niches in the Dunhuang Caves， contents of murals inside niches cannot be recorded from a single angle. Therefore， the archaeological mapping method of drawing unfolding graphs of niche interiors must be applied. By using this method， the contents of the murals inside niches can be unfolded on paper authentically and comprehensively.

Keywords： frontal plane of projection； structure； base line； cutting line； key points for unfolding drawing

所謂展開圖，顧名思義就是把圓球形的、曲面的、在某個空間中變形的內容，以特殊的分割曲面的方法，以平面的形式把壁畫內容直觀、完整地展現出來。敦煌莫高窟石窟群中具有多種形制的佛龕，在《敦煌石窟全集》第一卷《莫高窟第266—275窟考古報告》中的11個洞窟中，有闕形龕、雙樹圓券形龕、穹隆形龕三種龕形。不同的龕形采用不同的測繪方法。我們現在采用手工測繪的方法分別以莫高窟第275窟北壁西起第一個闕形龕和第285窟主室西壁中龕兩種不同形制的佛龕為例來說明如何采用手工測繪龕內展開圖的方法。

一 第275窟闕形龕內展開圖的繪制

第275窟北壁西起第一個佛龕的龕形是闕形龕。闕形龕是具有中國漢晉傳統風格的一種建筑形式，其特點是龕內結構基本上是方形的，所要展開的壁面大體是平面的，圖形的分割線基本上是直線，展開的畫面內容變形比較小，下面采用手工測繪的近似展開的方法將這個佛龕內的每個壁面分別展開。

（一）定義龕形

第275窟北壁西起第一龕是闕形龕，龕形基本上是長方形，佛龕分為龕內北壁、東壁、西壁、龕頂四個部分，北壁塑一身交腳菩薩像，佛座為方形座，分別定義獨立的投影面呈現出來的壁畫內容變形都比較小。根據石窟考古測繪的原理，這種龕形是一種可以展開的圖形結構（圖1）。

（二）定義比例與構圖

a. 定義比例

我們根據佛龕的實際尺寸，可以將繪圖比例定義為1∶5，用線段在米格紙上畫出0—25厘米的比例尺，作為完成整幅展開圖的標準尺寸。

b. 構圖

構圖就是把將要分割的每一個壁面合理地定格在圖紙上，既符合考古測繪的要求，又滿足讀者的視覺。

（三）定義起點與終點

在龕內佛座的左下角找一點作為這幅展開圖的起始點，在佛座的另一端確定一個終點，將高程不等的兩點連接起來，作為展開圖的定稿線（圖2）。

（四）繪制龕底邊線

確定佛龕龕底的每個高程不等的關鍵點，然后將每個關鍵點連接起來，成為佛龕的底邊線，根據測出的關鍵點可以反映出佛龕底邊的平差（圖3）。

（五）分割壁面與壁面的分布

第275窟北壁西起第一個佛龕，龕內壁畫內容基本上都是獨立的畫面，壁面也比較平整，沒有曲面。我們可以將佛龕內分割為北壁、東壁、西壁、龕頂四個畫面將其進行展開繪制（圖4）。

（六）定義網格與塑像繪制

我們先制作一個以5厘米為單位的雙層網格，網格線要絕對地水平與垂直。然后將方格網架設在距塑像比較近的前方，也就是做一個正投影的鉛垂面，把塑像輪廓與細節都投影在方格網上。

（七）繪制龕內北壁立面圖

龕內北壁的壁畫居中繪有三角靠背和頭光，兩側繪兩身立姿者（供養天人）和忍冬紋。龕內壁面和塑像在同一個投影面上，因此，繪制北壁立面圖和繪制塑像正視圖共同架設一個網格便能完成（圖5）。

（八）繪制龕內東壁、西壁、龕頂立面圖

1. 定義壁面的位置（壁面與壁面之間）

龕內東、西壁壁面繪單葉波狀忍冬紋，龕頂繪椽子。椽子前端浮塑乳釘狀椽頭。龕內東、西壁壁面基本沒有弧度，比較平整，結構呈長方形，最寬的部位在中下部。如何定格東、西壁與北壁的位置，我們可以把壁與壁之間的公共點放在相對的水平線上，把東、西兩個展開的壁面放在北壁相鄰的位置，分別向東、西方向展開。

2. 定義基線

根據龕內結構和壁畫的內容，分割畫面比較簡單，壁面與壁面之間的內容都比較獨立，分割線可以自然地隨著佛龕的結構定義。畫面定義一條水平基線、一條垂直基線就可以滿足繪制壁畫的需要了。

3. 繪制龕內壁畫

a. 繪制龕內東壁、西壁、頂部立面圖（圖6）。

二 第285窟圓券形龕內展開圖的繪制

第285窟是西魏時期開鑿的洞窟，是典型的禪窟，分別有前室、主室。主室西壁開三個佛龕，中間開一圓券形大龕，兩側各一個小龕，龕形均為圓券形龕，具有西域式風格。西壁中龕龕內由塑像、壁畫兩部分組成。塑像三身，中間塑主尊倚坐佛像，身著褒衣博帶式通肩袈裟，兩側壁各塑一身脅侍菩薩像。壁面繪有頭光、背光、供養菩薩、飛天，背光中繪多層火焰紋，壁畫內容比較豐富、完整、精美。怎樣對龕內的結構與壁畫進行分析與分割，才能合理、準確地把龕內壁畫內容以平面的形式完整呈現在圖中的畫面上，我們采用手工展開的測繪方法，將佛龕壁畫內容做出近似為相應的可展曲面，近似展開，分以下幾個步驟進行繪制。

（一）定義龕形

第285窟西壁中龕是一個圓券形佛龕，要將佛龕內曲面壁畫的全部內容一一解析展開，只有采用手工測繪的方法將近似為相應的可展曲面進行展開（圖7）。

（二）定義比例

根據第285窟西壁中龕的實際尺寸，我們將繪圖比例設定為1∶5，在繪制中將這個比例作為繪圖中的標準尺寸。

（三）繪制龕內塑像

1. 定義塑像的角度

定義繪制塑像的最佳角度，首先觀察塑像的整個動態，頭部面部的視角是否與身體在同一個投影面上，如果頭部向左或者向右，則根據塑像視角的不同而定，我們在定義投影面時分兩種情況：

a. 塑像頭部面部與身體基本在同一個投影面上。

如果塑像的面部和身體在同一投影面上，我們將塑像的任何部位都保持在一個正投影面上繪制，不再測繪其他局部的圖。

b. 塑像頭部面部與身體不在一個投影面。

我們必須遵循以身體正面為投影面，頭部的角度不變，依附身體的角度做投影面，來繪制塑像正視圖。這樣繪制的塑像頭部是有角度的，是三分之二的側面圖。根據考古報告的要求，另外再繪制一幅頭部正面局部圖，來反映塑像的臉部造型與細部，以符合考古測繪的基本要求。

無論怎樣都必須遵循以塑像身體正面為投影面的原則。

2. 定義佛龕內佛座的底線

a. 定義佛龕底邊起點與終點的高度。如何用手工測繪的方法把佛龕展開，使龕內的每幅畫面都定格在圖紙上，也就是給佛龕內的塑像定義一個虛擬的鉛垂面，觀測的每一個點都是正投影的，我們采用的方法是先確定一個關鍵點，也就是把佛龕內的佛座一側與佛龕地面相交的這個點命名為起點，再在佛座的另一端與佛龕地面相交的點確定為第二個關鍵點，作為龕座底邊的終點，也就是整個佛龕的水平位置在圖紙上的一個定位；第二步是確定第二個關鍵點，就是再在佛座底邊的另一端找出與地面相交的點，命名為佛座底邊的終點，用水平尺測量出兩點間的距離與水平差，就可以反映出佛座在整個佛龕中的水平關系（圖8）。

b. 定義佛龕底邊起點到終點的長度。用手工測量的方法測量出佛龕底邊的準確長度。首先測量一個關鍵點，以這個點的高程為準確高度，用水平尺測出每個點位的平差，再用皮尺測量點與點之間的長度，然后把每個點連接起來。有了佛座的準確位置，就可以采用這種測量點位的方法，由佛座的起點與終點向南、北兩側進行采集精準的點，繪制出佛龕的底邊線（圖9）。

3. 在塑像前架設方格網

在手工測繪塑像時，對架設方格網的要求是非常高的，方格網必須保持橫杠平行，豎杠垂直，這樣投影在圖上的每一個點才會準確，繪制出的圖才能達到考古報告的要求。

4. 繪制塑像的外輪廓線

首先測量出幾個關鍵點確定塑像的高度與寬度，然后逐步測量出塑像的外輪廓的關鍵點，用線條連接起來，塑像的基本造型就顯現出來了，然后再對塑像進一步描繪。測量的點位越多繪制出來的圖像對就越準確。

5. 繪制塑像的次輪廓線

在塑像外輪廓完成以后，再對塑像的結構、臉部、服飾的外輪廓以及佛座轉折比較明顯的部位進行次輪廓的繪制，使外輪廓線與次輪廓線完美地結合，主次分明，具有層次感和立體感。

6. 繪制塑像的衣紋和塑像細部

龕內主尊倚坐佛像，身著褒衣博帶，貼泥條式的衣紋，在繪制塑像衣紋與塑像細部時一定要注意衣紋與塑像結構的穿插、疊壓關系，衣紋線條一定要準確、流暢，隨著線條粗、細的變化，把塑像服飾的質感繪制出來。這樣才能使繪制出來的塑像既客觀準確又具有時代特征，也就達了真實與完美的統一，最終符合考古報告中所需要的考古實測圖（圖10）。

（四）定義佛龕外圍的周長

首先在佛龕頂部周長的中心，確定一個中心點位，也就是佛龕分割的關鍵點，然后轉換角度，向南、北分別轉90度，用垂球掛皮尺向北、南定義一條垂直線，在鉛垂線的不同高度上通過測量產生許多關鍵點，然后再把點與點之間連接起來。由于西壁的壁面是凹凸不平的，所以呈現出的佛龕外圍線的線形也是曲線，這條曲線即為佛龕外圍周長的輪廓線（圖11）。

（五）分割龕內壁畫

1. 分割的原則

a. 分割畫面時一定要在轉折明顯的位置進行分割。

b. 分割時盡可能使畫面的藝術形象保持完整，分割畫面時盡量避免在臉部進行分割，這樣可以保持形象的完整與畫面的美觀。

d. 分割時盡可能在壁面空白的位置進行分割。

根據第285窟西壁龕內壁畫內容和結構的特點，我們客觀地將壁畫內容分割為五個畫面來展開，采用這樣的分割方法既達到了考古報告測繪圖的要求，也達到了審美與視覺上的統一。

第1部分 塑像的頭光與背光

塑像的頭光與背光的壁畫內容均分布在不同方向的兩個畫面上，西壁與龕頂有明顯的結構轉折，面與面連接的結構線基本上是平直線，只需要在頭光與背光結構轉折的上半部分直接向上延展，呈現在一個畫面上就可以了。這樣既使畫面達到完整，壁畫內容又不會變形，是比較符合考古測繪的分割原則與方法的。

第2部分 龕內南側壁畫中供養菩薩（10身）

龕內南側壁面有相對的弧度，在展開時把供養菩薩與頭光和背光的外圍線作為公共邊，向外緩緩展開。壁畫中供養菩薩與飛天有穿插關系，所以我們在分割供養菩薩、飛天畫面的關系中，采用了頭光和背光與供養菩薩分割為獨立的畫面，用兩種線形直線與曲線進行分割將其展開。

第3部分 龕內北側壁畫中供養菩薩（10身）

龕內北壁與南壁分割方法相同。

第4部分 龕內南側龕頂飛天2身

龕頂南、北兩側各有兩身向上的飛天，下方的飛天與供養菩薩的頭光有穿插關系，所以我們將采用兩種方法分割作出其近似展開：

a. 第一種是采用直線分割，繪制起來比較方便、簡單。用直線將頂部飛天分割成兩部分，這樣分割的飛天畫面形象不完整。

b. 第二種是采用曲線分割，曲線分割可以使供養菩薩和飛天兩個獨立的畫面達到它的完整性。

第5部分 龕內北側龕頂飛天2身

龕內頂部北側展開方法同上。

2. 分割線的多樣性

a. 直線的分割方法。根據佛龕內的龕形結構進行分割，原則是在佛龕轉折比較明顯的地方用直線進行分割。這樣就能反映佛龕的結構，直觀，簡潔，明了，但分割的每一塊壁畫內容中的形象具有不完整性。

b. 曲線的分割方法。根據佛龕壁畫內容進行分割，為了使壁畫中的藝術形象在畫面中保持完整，我們可以采用曲線的分割方法進行分割。這樣分割的畫面藝術形象雖然完整，可是在不同程度上有一定的變形。

c.直線與曲線并用進行分割畫面的分割方法。為了說明采用直線與曲線分割龕內畫面情況，這里我們以第272窟西壁佛龕穹隆頂的展開圖為例，這個龕形的結構比較圓緩，轉折不太明顯，為了使每個畫面保持它的完整性和獨立性，在分割時選用了曲線和折線兩種線型。這樣繪制出來的展開圖既體現了方法的靈活性，也達到了畫面的完整與審美的統一（圖12）。

以上采用三種不同龕內展開的分割方法，繪制出來的圖中畫面各有其特點。直線分割畫面變形相對來說比較大一些，藝術形象在分割畫面中不完整，優點是在繪制完成后校對公共點直觀、便捷。曲線分割繪制出來的畫面最大的優點是，畫面清晰完整，變形相對小一些，但是在繪制完成后核對曲線上的每個公共點比較復雜。

總之，無論采用直線、曲線分割龕內壁畫的畫面，都要根據龕形的特點、龕內壁畫內容分布情況進行分割。

（六）繪制龕內壁畫

1. 繪制龕內西壁主尊頭和背光

a. 定義基線。根據中龕龕內西壁的結構與畫面的分布狀況，我們分別在主尊的兩側壁面上定義兩條垂直基線和一條水平基線，這樣定義基線可以在測量每一個點位時便捷、準確、全面。

b. 繪制壁畫。第285窟西壁中龕內主尊佛的頭光和背光基本繪制在一個投影面上，壁畫內容都是火焰紋，線條比較密集、復雜，測量時采集的點比較多。點與點連接時，連線一定要流暢、準確、清晰，既使頭光和身光保持畫面的完整性，在做近似曲面展開，繪制的壁畫中的形象變形比較小，又體現了畫面在視覺上的美感。主尊的頭光和背光壁畫面積比較大，部分畫面在主尊的兩側和上面。根據畫面我們給它分別定義了一條水平基線、兩條垂直基線，這樣在測量每個點時比較準確與便捷（圖13）。

2. 繪制龕內南、北兩側供養菩薩

a. 定義基線。龕內南、北兩側供養菩薩壁面呈半圓柱體，畫面由水平方向緩緩展開，這樣在畫面中分別定義兩條基線就可以測量到每個區域的壁畫了。

b. 繪制壁畫。龕內南、北兩側壁畫分別繪制了10身供養菩薩，分三排站立。整個畫面線條密集，測量時采集的點位比較多，采集的點位越多繪制出來的壁畫內容精準率越就高，連線也比較容易。

3. 繪制龕頂南、北兩側飛天

a. 定義基線。龕頂南、北兩側分別是兩身飛天，在定義基線時水平基線定在畫面的中間，分割壁面時都要建立獨立的基線，也就是獨立的投影面。

b. 繪制壁畫。分布在龕頂兩側的飛天，下方的飛天繪制在龕內側壁與龕頂交接的位置上，由于曲面是不規則的，展開這塊曲面壁畫難度相對比較大；下方的飛天展開有一點變形，在做近似可展曲面的近似展開時，關鍵要把握作直線分割的展開繪制中，每一條分割線上的公共點尺寸一定要一致，合拼時要吻合（圖14）。

每個畫面中的藝術形象都有無數個精準測量的點位，用流暢的線條把它們一一連接起來。主尊塑像頭光與身光的每一個區域中線條錯落有序地朝著一個方向排列，主尊塑像兩側的供養菩薩婀娜多姿、千姿百態，龕頂栩栩如生、渾厚質樸的飛天以輕盈優美的姿態飛舞在塑像上方，使整個畫面中的藝術形象，仿佛都注入了靈性和生命力，體現了早期壁畫藝術的風采。

（七）審核、校對

審核和校對工作在考古測繪工作中是非常重要的一個環節，下面歸納以下幾點：

a. 分割線與分割線閉合時尺寸必須吻合。

b. 分割線上的公共點處于吻合狀態；

c. 核對佛龕的周長與佛龕鑲嵌壁面的龕邊長度尺寸是否吻合；

d. 核對佛龕結構的每一個關鍵點是否相吻合；

e. 核對每一條公共邊的長度是否相吻合；

f. 核對每一條公共邊上公共點是否相吻合。

（八）底圖清繪

清繪工作也就是把初繪圖用考古繪圖的規范對初繪圖進行編輯定稿，采用不同的線條描繪，使畫面更加富有主次關系、層次關系。

a. 結構線：設置為1.0線寬；

b. 塑像輪廓線：設置為1.2線寬；

c. 次輪廓線：設置為0.8線寬；

d. 壁畫線：設置為0.2線寬；

e. 塑像細部與衣紋線：設置為0.3線寬。

（九）定義圖名、圖例

a. 設置圖名：記錄圖在洞窟序號中的準確位置和圖的類型；

b. 圖例：記錄線形、線寬在圖中的運用與規范；

c. 比例尺：使每一個線段在規定的比例中完成；

d. 繪圖日期：記錄繪圖開始與結束的準確時間；

e. 繪圖者：記錄每幅圖是誰完成的，是獨立完成的還是合作完成的。

總之，在考古測繪工作中，手工測繪龕內展開圖的方法是主要方法，由于佛龕龕形的多樣性、復雜性，繪圖方法也具有靈活性、多樣性，只要掌握了繪制展開圖的基本原理，繪制不同形態的佛龕就沒有問題了。隨著科學技術的發展，三維激光掃描技術在石窟考古測繪領域有著非常重要的意義，發揮著強大的優勢，無論怎樣發展，測繪方法都是基于傳統的手工測繪方法和基本原理的，所以手工測繪在石窟考古測繪中依然發揮著巨大的作用。