蔣少松,盧振,張凱鋒
(哈爾濱工業(yè)大學,哈爾濱 150001)
開發(fā)高性能納米材料一直是世界各國戰(zhàn)略發(fā)展目標的一部分,塑性加工領域尤其是微成形領域,也一直在對納米材料的潛在應用進行著探索。磁控濺射法可在低溫條件下快速濺射晶粒細小、結(jié)構(gòu)均勻、純度高的納米材料,而且?guī)缀跛薪饘佟⒑辖鸷吞沾刹牧隙伎梢灾瞥砂胁摹M瑫r,納米材料的組織和性能還可通過調(diào)整T/Tm(襯底溫度與靶材熔點之比)和沉積室工作氣壓等關鍵工作參數(shù)來控制,易于獲得滿足不同性能要求的理想的納米材料[1—4]。然而,目前對磁控濺射納米材料的研究主要用于表面鍍膜。若將磁控濺射納米材料與襯底剝離,單獨作為成形材料應用于塑性成形領域,尤其是微成形領域,則既可以為磁控濺射納米材料的應用開拓新方向,也可以為塑性成形提供一種性能優(yōu)良的納米材料,是學科交叉、優(yōu)勢互補的典型體現(xiàn)。
目前,國外已有學者將磁控濺射納米材料與襯底剝離開來,單獨研究其材料特性。例如,Lovery,Ishi-da,Zhang等人,采用磁控濺射法分別在玻璃襯底上制備了厚度為 3 μm 的 Cu-Al-Ni,7 ~ 9 μm 的 Ti-Ni,以及6.5 μm的Ti-48.9Ni納米材料,將它們從襯底上剝離后,對退火過程中的馬氏體轉(zhuǎn)變進行了研究[5—7]。圖1為與襯底剝離后的Cu-Al-Ni納米材料。Park等人采用磁控濺射法,制備了厚度為1 μm的Al-3%Ti納米材料,采用離子刻蝕法將硅襯底腐蝕后,單獨研究了材料在不同溫度退火后的組織演變[8]。這些研究表明,將磁控濺射納米材料與襯底剝離開來研究是可行的。……