基于Innography平臺的高功率半導(dǎo)體激光器專利分析

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〔摘要〕本文利用Innography專利檢索與分析平臺，對高功率半導(dǎo)體激光器專利進(jìn)行檢索，并對檢索結(jié)果進(jìn)行核心專利分析、可視化分析及引證分析等，得出了全球高功率半導(dǎo)體激光器專利技術(shù)的發(fā)展研究概況，供該領(lǐng)域研究人員借鑒和參考。

〔關(guān)鍵詞〕Innography；專利檢索；專利分析；專利情報(bào)；高功率半導(dǎo)體激光器

DOI：10.3969/j.issn.1008-0821.2015.10.024

〔中圖分類號〕G25553〔文獻(xiàn)標(biāo)識碼〕A〔文章編號〕1008-0821（2015）10-0128-06

Research on High Power Semiconductor Laser Based on

Innography Patent Retrieval and Analysis PlatformHao YiWang DaizunDai Lei

（Institute of Scientific and Technical Information of Jilin，Changchun 130033，China）

〔Abstract〕Based on Innography patent retrieval and analysis platform，the paper retrieved high power semiconductor laser patents，and proceeded core patent analysis，visualized analysis and citation analysis on obtained results，which enabled to acquire the development and research situation of global high power semiconductor laser.The paper aimed to provide references to counterparts.

〔Key words〕Innography；patent retrieval；patent analysis；patent intelligence；high power semiconductor laser

高功率半導(dǎo)體激光器以其廣闊的應(yīng)用前景和巨大的潛在市場而成為各國競相追逐的熱點(diǎn)。目前高功率半導(dǎo)體激光器所面臨的主要問題是激光器的低性能，即激光器的輸出光功率和轉(zhuǎn)換效率偏低，可靠性和穩(wěn)定性、一致性差等問題，這在很大程度上限制了其實(shí)際應(yīng)用。高功率半導(dǎo)體激光器的性能除跟外延材料有關(guān)以外，還跟激光器的散熱、封裝有關(guān)。要獲得高穩(wěn)定性、高可靠性、高功率半導(dǎo)體激光器就必須設(shè)計(jì)制作高質(zhì)量激光陣列條和高效散熱結(jié)構(gòu)，同時(shí)為了便于廣泛應(yīng)用，封裝結(jié)構(gòu)必須簡單、高效、低成本。然而我國的高功率半導(dǎo)體激光器（大于200W）的研制一直無法達(dá)到國際先進(jìn)公司（Jenoptik、Nlight、SDL等）的技術(shù)水平。本文以促進(jìn)高功率半導(dǎo)體激光器國產(chǎn)化水平為出發(fā)點(diǎn)，分析了高功率半導(dǎo)體激光器的專利發(fā)展態(tài)勢。

1Innography專利檢索與分析平臺概述

Innography是Dialog公司旗下最新的專利檢索與分析平臺，可檢索和獲取包含90多個(gè)國家和地區(qū)的同族專利、法律狀態(tài)和專利全文；收錄了超過8 000多萬件全球?qū)＠麛?shù)據(jù)；同時(shí)還包括了鄧白氏商業(yè)數(shù)據(jù)、美國專利訴訟數(shù)據(jù)和美國商標(biāo)數(shù)據(jù)[1]。Innography實(shí)現(xiàn)了專利檢索和商業(yè)智能分析工具高度整合，其簡單明了地為用戶展現(xiàn)了技術(shù)全景圖和對其中專利強(qiáng)度的自動標(biāo)引，使技術(shù)領(lǐng)域的競爭情報(bào)更加可視化的呈現(xiàn)在用戶的面前，在專利信息的利用過程中發(fā)揮了重要的作用。Innography專利檢索與分析平臺的功能主要包括：全球首創(chuàng)專利強(qiáng)度（Patent Strength）指標(biāo)能快速分離出高價(jià)值專利；同時(shí)對專利氣泡圖、熱力圖、專利聚類分析等圖的創(chuàng)新，能讓科研人員快速有效地了解技術(shù)差距和發(fā)展方向；另外，Innography還可以進(jìn)行專利無效檢索與侵權(quán)檢索以及獨(dú)創(chuàng)的訴訟專利檢索與分析。

2高功率半導(dǎo)體激光器專利分析

本文以高功率半導(dǎo)體激光器為研究對象，在Innography專利平臺進(jìn)行檢索與分析研究。從Innography[2]數(shù)據(jù)庫檢索到高功率半導(dǎo)體激光器極其相關(guān)專利2 379件，由438個(gè)組織機(jī)構(gòu)、2 969個(gè)發(fā)明人完成，涉及到了75個(gè)IPC小組，專利申請?jiān)?3個(gè)國家和組織內(nèi)實(shí)施，檢索時(shí)間為2015年1月17日，檢索式為：（@title（″semiconductor laser′～4 OR ″laser diode″～4 or ″diode laser″～4 OR ″semiconductor diode″ OR ″junction laser″））and（@title（high power）or（high bright*）or（high efficiency）or waveguide OR passivation OR packaging OR bonding OR ″beam shap*″ OR ″beam combination″ OR ″beam transform″）。

2015年10月第35卷第10期現(xiàn)？代？情？報(bào)Journal of Modern InformationOct，2015Vol35No102015年10月第35卷第10期基于Innography平臺的高功率半導(dǎo)體激光器專利分析Oct，2015Vol35No1021基于專利強(qiáng)度的核心專利分析

專利強(qiáng)度是Innography獨(dú)創(chuàng)的專利評價(jià)新指標(biāo)[3]，是Innography的核心功能之一，其來自于加州大學(xué)伯克利分校及喬治梅森大學(xué)的最新研究成果。其作用是幫助用戶快速有效地尋找核心專利。endprint