◎ 文/吳錦明
實證分析茂名R&D投入產(chǎn)出與稅收優(yōu)惠激勵效應
◎ 文/吳錦明
R&D的投入產(chǎn)出是衡量一個城市創(chuàng)新程度大小的重要指標,主要包括一定時期內社會R&D投入量、專利申請數(shù)量及高新技術產(chǎn)品總值。現(xiàn)行鼓勵技術創(chuàng)新的稅收優(yōu)惠政策主要分為所得稅優(yōu)惠政策和流轉稅優(yōu)惠政策,本文對茂名2001-2013年相關數(shù)據(jù)的實證分析顯示,兩種稅收優(yōu)惠政策均能促進茂名企業(yè)的技術創(chuàng)新,其中,所得稅優(yōu)惠對社會R&D投入具有顯著影響,而流轉稅優(yōu)惠對專利申請數(shù)量的影響較大,但兩種優(yōu)惠對高新技術產(chǎn)品產(chǎn)值均未能通過顯著性檢驗。
R&D投入及產(chǎn)出;所得稅優(yōu)惠;流轉稅優(yōu)惠
研究與試驗發(fā)展簡稱為R&D,是技術創(chuàng)新的核心部分,是企業(yè)形成自主知識產(chǎn)權的技術源,企業(yè)R&D投入大小反映了企業(yè)的技術創(chuàng)新規(guī)模,是企業(yè)科技實力的重要指標。企業(yè)R&D的產(chǎn)出主要表現(xiàn)為企業(yè)專利技術的形成,以及轉化為最終新產(chǎn)品的投產(chǎn)。早在1999年國家就陸續(xù)出臺了一系列稅收優(yōu)惠政策以鼓勵企業(yè)技術創(chuàng)新,特別是2008年開始實施的新《企業(yè)所得稅法》以及一系列以特定產(chǎn)業(yè)為對象的優(yōu)惠政策,通過有條件的稅額減免,調動了企業(yè)技術創(chuàng)新的積極性,帶動了R&D的投入。根據(jù)《茂名統(tǒng)計年鑒》和《廣東省科技年鑒》數(shù)據(jù)披露茂名市社會R&D支出從2001年的12000萬元增長到2012年的89234.9萬元,增長幅度為643.6%,在此期間專利申請個數(shù)由2001年的75件增長至2013年的2530件,增長幅度為3273.3%,高新產(chǎn)品總值從由2001年的17.27億增長至2012年的70.42億,增長幅度為307.8%.激勵技術創(chuàng)新的稅收優(yōu)惠政策主要分為所得稅優(yōu)惠激勵和流轉稅優(yōu)惠激勵,然而兩者是否都對R&D的投入產(chǎn)出的所有指標產(chǎn)生激勵效應?本文擬以茂名市2001至2013年的社會R&D投入產(chǎn)出指標為樣本,對以上問題進行實證分析。
在稅收激勵對企業(yè)技術創(chuàng)新的影響效應研究方面,吳秀波(2003)先詳細介紹國外對于稅收激勵研發(fā)效果的評價方法,在此基礎上采用實證分析了我國R&D支出稅收激勵效應,結果顯示我國當前稅收激勵對于R&D支出影響十分有限。[1]方重、楊昌輝、梅玉華(2010)以2007年全國9000家企業(yè)為樣本,根據(jù)相關數(shù)據(jù),構建了企業(yè)自主創(chuàng)新與稅收優(yōu)惠政策相關性的B-index模型,測算出我國企業(yè)自主創(chuàng)新研發(fā)投入的成本彈性約為0.4%-0.7%,即稅收優(yōu)惠政策每降低企業(yè)自主創(chuàng)新研發(fā)成本1%,終會促使企業(yè)自主創(chuàng)新投入增加0.4%-0.7%。即政府每減免企業(yè)一元錢并不能換來企業(yè)增加一元錢研發(fā)支出的結果,由此得出我國現(xiàn)行激勵企業(yè)自主創(chuàng)新的稅收優(yōu)惠政策的低效性。[2]李嘉明、喬天寶(2010)通過建立稅收對高新技術產(chǎn)業(yè)發(fā)展的短期和中長期效應模型,通過實證分析不同稅種的優(yōu)惠對高新技術產(chǎn)業(yè)現(xiàn)時和未來發(fā)展的影響,所得結論認為所得稅優(yōu)惠和增值稅優(yōu)惠都能促進高新技術產(chǎn)業(yè)現(xiàn)時的發(fā)展,但對于高新技術產(chǎn)業(yè)未來的發(fā)展,所得稅優(yōu)惠則能更好地發(fā)揮其效應。[3]周阿立(2010)以2007、2008、2009三年上市公司年報為對象,通過建立多元線性回國模型分析了新《企業(yè)所得稅》稅收優(yōu)惠變化對上市公司R&D投入的影響,其結果顯示所得稅稅負與R&D投入強度呈顯著負相關,即降低所得稅稅負對R&D投入具有較強的促進作用[4]。本文將沿用上述學者研究方法,建立多元線性回歸模型分析茂名市2001至2013年所得稅優(yōu)惠政策與流轉稅優(yōu)惠政策對社會R&D投入產(chǎn)出指標的影響效應。
(一)樣本選取
本研究樣本對象為2001-2013年茂名企業(yè)所得稅優(yōu)惠與流轉稅優(yōu)惠對社會R&D投入產(chǎn)出指標影響,其中社會R&D投入指標為茂名當年R&D支出總額、產(chǎn)出指標分別為當年專利申請個數(shù)及當年高新技術產(chǎn)品產(chǎn)值。數(shù)據(jù)來源于《茂名統(tǒng)計年鑒》、《廣東科技統(tǒng)計年鑒》、《廣東省財政年鑒》以及廣東科技廳網(wǎng)站,并進行了相關的整理。
(二)研究假設
R&D是技術創(chuàng)新的核心,其投入大小反映了企業(yè)的技術創(chuàng)新規(guī)模。R&D投入的產(chǎn)出成果表現(xiàn)為企業(yè)專利技術的形成,而專利技術的產(chǎn)品化和市場化是企業(yè)R&D活動的最終目的,即R&D投入產(chǎn)出鏈條傳遞為:R&D投入——形成核心技術——新產(chǎn)品市場化。
首先,社會R&D投入尤其是企業(yè)R&D投入過程中,高風險與高成本相互并存。降低研發(fā)成本意味著降低研發(fā)風險,研發(fā)成本來自于企業(yè)投入研發(fā)的各種資金成本、人力資源成本、運營成本等,它們恰好是企業(yè)所得稅的核算,如果政府通過稅收優(yōu)惠政策,將企業(yè)所得稅的部分收益渡讓給企業(yè),如直接進行稅基扣除,則有利于企業(yè)降低研發(fā)成本,R&D投入的意愿便會加強。現(xiàn)行所得稅優(yōu)惠政策中如研發(fā)費用加計扣除、資產(chǎn)加速折舊、創(chuàng)投企業(yè)投資抵減、特定企業(yè)低稅率優(yōu)惠等,都為企業(yè)降低研發(fā)成本和風險提供了機會。由此提出第一個假設:
H1:相較于流轉稅優(yōu)惠,所得稅優(yōu)惠更能激勵企業(yè)R&D投入。
其次,R&D投入最終成果具體表現(xiàn)為專利技術的形成。但促使專利技術形成的不但包括企業(yè)自身研發(fā)費用的支出,還包括許多市場需求的拉動,如單位或個人的技術轉讓、咨詢,科技服務企業(yè)的培育等,這些由市場需求拉動的交易更多的涉及流轉稅中營業(yè)稅的征收。如果政府通過稅收優(yōu)惠政策,將營業(yè)稅的部分收益渡讓給技術項目的買賣雙方,則有利于降低專利技術的開發(fā)與交易成本,會促進更多的專利項目形成。由此提出第二個假設:
H2:相較于所得稅優(yōu)惠,流轉稅優(yōu)惠更能促使專利技術的形成。
最后,專利技術需要轉化為產(chǎn)品并通過市場化才能實現(xiàn)其核心技術價值。這一階段,新產(chǎn)品將面臨來自市場的各種產(chǎn)品競爭,其市場份額的大小、流通渠道的暢順將直接影響其銷售及產(chǎn)值。增值稅作為流通環(huán)節(jié)最大的稅種,稅收優(yōu)惠力度將直接影響著產(chǎn)品的流通。如果政府通過稅收優(yōu)惠政策,將增值稅的部分收益渡讓給新產(chǎn)品的流通,則新產(chǎn)品能憑借價格優(yōu)勢迅速市場化并提升總產(chǎn)值。由此提出第三個假設:
H3:相較于所得稅優(yōu)惠,流轉稅優(yōu)惠更能促進專利技術產(chǎn)品市場化。

表1 描述統(tǒng)計量

表2 模型(1)方差分析

表3 模型(1)參數(shù)估計

表4 模型(2)方差分析

表5 模型(2)參數(shù)估計
稅收優(yōu)惠政策激勵科技創(chuàng)新,不僅僅是促進企業(yè)R&D投入,而是要對完整的R&D投入產(chǎn)出鏈條予以扶持,才能達到科技帶動經(jīng)濟的最終目標。本項目正是以R&D投入產(chǎn)出鏈條相關指標作為因變量,分別考察流轉稅優(yōu)惠政策和所得稅優(yōu)惠政策對鏈條指標的影響程度。 對于因變量,考察R&D投入的指標采用R&D投入強度(RDP)表示、考察專利技術形成的指標采用專利申請數(shù)量(PA)表示、考察高新技術產(chǎn)品市場化的指標采用高新技術產(chǎn)品產(chǎn)值比例(HTPV)表示。對于自變量,用于所得稅優(yōu)惠影響的指標采用所得稅稅負(ITR)表示、用于流轉稅優(yōu)惠影響的指標采用流轉稅稅負(TTB)表示。具體變量定義如下:
R&D投入強度(RDP):R&D費用/ GDP
專利申請數(shù)量(PA):專利申請總數(shù)
高新技術產(chǎn)品產(chǎn)值比例(HTPVP):高新技術產(chǎn)品總產(chǎn)值/GDP
所得稅稅負(ITR):市級所得稅收入/GDP
流轉稅稅負(TTB):市級流轉稅收入/GDP
在模型構建方面,針對以上三組假設對應建立三組多元回歸線性模型(1)(2)(3):

(一)統(tǒng)計描述
(詳見表1)
統(tǒng)計描述顯示所得稅稅負(ITR)、流轉稅稅負(TTB)的均值分別為.00572909和.0003891,R&D投入強度(RDP)、專利申請數(shù)量(PA)、高新技術產(chǎn)品產(chǎn)值比例(HTPV)的均值分別為.0025357、.0521327和612.0769。
(二)實證結果和分析
根據(jù)篩選后的數(shù)據(jù)樣本,通過spss20軟件對實證模型(1)(2)(3)進行方差分析及系數(shù)估計,估計結果為表3-表7所示。
表2中的回歸方程P值為0.030小于0.05,說明模型(1)用于回歸分析具有統(tǒng)計學意義。表3中流轉稅稅負(TTR)P值為0.304大于0.05,即用TTR來預測因變量研發(fā)費用強度(RDP)無統(tǒng)計學意義,所得稅稅負(ITR)P值為0.16小于0.05,說明有統(tǒng)計學意義,且系數(shù)為-18.572,ITR與RDP成反向關系,即ITR降低1個單位,RDP會增加18.572個單位,支持H1假設。
表4中的回歸方程P值為0.010小于0.05,說明模型(二)用于回歸分析具有統(tǒng)計學意義。表5中流轉稅稅負(TTR)P值為0.08小于0.05,具有統(tǒng)計學意義,且系數(shù)為-646043.399,與因變量專利申請數(shù)量(PA)成反向關系,即TTR降低1個單位,PA會增加646043.399個單位;此外,所得稅稅負(ITR)P值為0.025同樣小于0.05,具有統(tǒng)計學意義,且系數(shù)為-7174846,與PA成反向關系,即ITR降低1個單位,PA會增加7174846.079個單位,但表中標準化系數(shù)的結果正好相反,TTR和ITR標準化后的系數(shù)分別為-0.720和-0.566,由于標準化系數(shù)是在統(tǒng)一了自變量量綱后得到的系數(shù),更具有比較意義,因而按照標準系數(shù)結果對比,TTR對PA的影響要大于ITR,從而支持H2假設。
表6中的回歸方程P值為0.701大于0.05,說明模型(3)用于回歸分析不具有統(tǒng)計學意義。同時,表7中流轉稅稅負(TTR)和所得稅稅負(ITR)P值分別為0.742和0.420均大于0.05,無統(tǒng)計學意義,即TTR與ITR的變動與因變量高新技術產(chǎn)品產(chǎn)值比例(HTPVP)無相關性,從而拒絕H3假設。

表6 模型(3)方差分析

表7 模型(3)參數(shù)估計
通過上述對茂名市相關指標2001-2013年數(shù)據(jù)的實證分析可得,兩種稅收優(yōu)惠政策均能促進茂名技術創(chuàng)新。其中,在激勵R&D投入方面,現(xiàn)行所得稅優(yōu)惠的激勵作用明顯,但流轉稅難以發(fā)揮其激勵作用;在激勵專利技術形成方面,所得稅和流轉稅優(yōu)惠都能起到激勵作用,其中流轉稅的激勵作用較大;在促進技術產(chǎn)品市場化方面,所得稅和流轉稅優(yōu)惠都未能對本市的高新技術產(chǎn)品產(chǎn)值產(chǎn)生相關影響。
[1]吳秀波.稅收激勵對于研發(fā)投資的影響:實證分析與政策工具選拔[J].研究與發(fā)展管理,2003(2):36-41.
[2]方重,楊昌輝,梅玉華.論“創(chuàng)新所得稅收抵免”對中小企業(yè)的激勵效應[J].稅務研究,2010(8):16-18.
[3]李嘉明,喬天寶.高新技術產(chǎn)業(yè)稅收優(yōu)惠政策的實證分析[J].財政與稅務,2010(6):41-46.
[4]周阿立.新《企業(yè)所得稅法》與新無形資產(chǎn)準則對上市公司研發(fā)投入的影響[J].稅務研究,2010(8):19-21.
[5]張同斌,高鐵梅.財稅政策激勵、高新技術產(chǎn)業(yè)發(fā)展與產(chǎn)業(yè)結構調整[J].經(jīng)濟研究,2012(05):58-70.
[6] 李浩研,崔景華.稅收優(yōu)惠和直接補貼的協(xié)調模式對創(chuàng)新的驅動效應[J].稅務研究,2014(03):85-89.
[7]王華,龔玨.支持企業(yè)技術創(chuàng)新稅收優(yōu)惠政策的實踐與思考——基于湖北省的調研[J].稅務研究,2013(03):3-9.
(作者單位:廣東石油化工學院經(jīng)濟管理學院)